技術(shù)特征：

1.一種反射隔熱陶瓷釉面磚的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

1)將熔塊原料混合，在熔塊爐中熔制成熔塊，熔制溫度為1400～1600℃，至原料的完全熔融；熔塊的主要化學組成如下：

2)將步驟1)制得的熔塊與生料混合研磨制得釉漿，其中熔塊占原料總質(zhì)量的10％～100％，并且釉料中二氧化鈦的含量不低于總質(zhì)量的8％；

3)將步驟2)制得的釉漿施加在坯體上；

4)將步驟3)施有釉漿的坯體經(jīng)過干燥后，在溫度1100～1250℃燒成，燒成的時間為20～90min，制得反射隔熱陶瓷釉面磚。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射隔熱陶瓷釉面磚的制備方法，其特征在于，所述原料包含粘土、高嶺土、石英、氧化鋁、長石、方解石、滑石、白云石、硅灰石、鈦白粉、碳酸鋇、碳酸鍶、氧化鋅、骨灰和鋰輝石中的一種或多種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射隔熱陶瓷釉面磚的制備方法，其特征在于，步驟3)所述釉漿通過噴釉器施加在坯體上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射隔熱陶瓷釉面磚的制備方法，其特征在于，所述燒成是在輥道窯中進行。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射隔熱陶瓷釉面磚的制備方法，其特征在于，以質(zhì)量百分比計，所述熔塊的主要化學組成如下：

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射隔熱陶瓷釉面磚的制備方法，其特征在于，所述反射隔熱陶瓷釉面磚表面的太陽熱反射層燒成后的厚度為0.1～3.0mm。