1.一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片層和鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復(fù)合有十八個膜層，其中第一層為SiNx層(1)，第二層為ZnO層(2)，第三層Ag層(3)，第四層為NiCr層(4),第五層為AZO層(5),第六層為SiNx層(6),第七層為ZnO層(7),第八層為Ag層(8)，第九層為NiCr層(9)，第十層為AZO層(10)，第十一層為ZnSnO層(11)，第十二層為ZnO層(12)，第十三層為SiNx層(13),第十四層為ZnO層(14),第十五層為Ag層(15),第十六層為NiCr層(16)，第十七層為AZO層(17)，第十八層為SiNx層(18)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一層和第二層作為第一電介質(zhì)組合層，所述第三層作為低輻射功能層，所述第四層作為第一阻擋保護(hù)層，所述第五層作為晶床介質(zhì)層，作為第六層和第七層作為第二電介質(zhì)組合層，所述第八層作為低輻射功能層，所述第九層作為第二阻擋保護(hù)層，所述第十層作為床介質(zhì)層，所述第十一層至第十四層作為第三電介質(zhì)組合層，所述第十五層作為低輻射功能層，所述第十六層作為第三阻擋保護(hù)層、作為第十七層作為晶床介質(zhì)層，所述第十八層作為第四電介質(zhì)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一層和第十八層的厚度均為15-20nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第二層和第十四層的厚度均為5-10nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第三層的厚度為3.5-7.5nm，所述第四層的厚度為0.5-1nm，所述第五層的厚度為5-8nm，所述第六層的厚度為40-50nm，所述第七層的厚度為5-15nm，所述第八層的厚度為10-15nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第九層和第十六層的厚度為1-2nm，所述第十層和第十七層的厚度為5-8nm，所述第十一層和第十二層的厚度為25-30nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第十三層的厚度為30-35nm，所述第十五層的厚度為6-10nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述總膜層厚度為230-260nm。
9.一種中透淺藍(lán)色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃的制備工藝，其特征在于：采用離線鍍膜技術(shù)，通過磁控濺射鍍膜技術(shù)在預(yù)清洗過的潔凈玻璃表面鍍上低輻射功能膜層，玻璃在高真空的等離子體氛圍中成膜，通過多層中間層復(fù)合疊加技術(shù)改善膜層透過色，使膜層鋼化后透過色接近中性，減少透過色對玻面顏色的干擾。