本發(fā)明涉及無機非金屬鍍膜玻璃技術領域，具體為一種中透淺藍色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃及制備工藝。

背景技術：

磁控濺射鍍膜技術是目前工業(yè)鍍膜生產中最主要的技術之一，磁控濺射具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點，沉積速率快，基片的溫度變化小，對膜層的損傷小等一系列優(yōu)點。以磁控濺射做為成膜技術生產的低輻射鍍膜玻璃，具有表面輻射率低、紅外反射率高、可見光透過率適中的特點，它既可滿足建筑物良好的采光要求，又可有效地阻擋玻璃以輻射形式傳遞熱量，具有很好的隔熱性能，是在當前技術條件下實現(xiàn)門窗節(jié)能的最佳材質，廣泛應用于大面積建筑玻璃鍍膜行業(yè)。

現(xiàn)有技術中的LOW-E玻璃的生產工藝是在優(yōu)質浮法基片上鍍制以Ag為功能層，包含介質層和其它金屬層的多層膜系。若按照功能層銀的層數(shù)來進行劃分，Low-E玻璃可以分為單銀Low-E玻璃、雙銀Low-E玻璃、三銀Low-E玻璃。目前，單銀、雙銀都是建筑玻璃領域比較成熟的節(jié)能方案,三銀節(jié)能玻璃節(jié)能效果優(yōu)于雙銀和單銀，但三銀玻璃膜層結構復雜，工藝控制難度大，因而成本較高。而三銀的可鋼化膜系為保證膜層后續(xù)加工的穩(wěn)定性，保護層往往較厚，導致膜層顏色色度高，視覺效果較差。近年來市場上真正能夠量產三銀的廠家不多，且可供選擇的三銀品種也不如雙銀、單銀豐富。

現(xiàn)有技術的缺點：

1)可鋼三銀膜層顏色較深，多為深綠色、深藍色或中性色泛紅。

2)傳統(tǒng)結構三銀低輻射玻璃在后續(xù)熱加工中，功能銀層會出現(xiàn)霧化或氧化現(xiàn)象。

3)三銀Low-E玻璃膜層結構復雜，工藝調試及加工生產控制難度大。

技術實現(xiàn)要素：

針對以上問題，本發(fā)明提供了一種中透淺藍色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃及制備工藝，該玻璃的6mm單片透過率可達50％，玻面外觀顏色為淺藍色，清新自然，可鋼三銀鋼化后正側面顏色接近，本款膜系可做彎鋼產品與一款普通三銀(先鋼再鍍)配套使用，通過控制關鍵膜層厚度，降低生產成本，可以有效解決背景技術中的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：一種中透淺藍色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片層和鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復合有十八個膜層，其中第一層為SiNx層，第二層為ZnO層，第三層Ag層，第四層為NiCr層,第五層為AZO層,第六層為SiNx層,第七層為ZnO層,第八層為Ag層，第九層為NiCr層，第十層為AZO層，第十一層為ZnSnO層，第十二層為ZnO層，第十三層為SiNx層,第十四層為ZnO層,第十五層為Ag層,第十六層為NiCr層，第十七層為AZO層，第十八層為SiNx層。

優(yōu)選的，所述第一層和第二層作為第一電介質組合層，所述第三層作為低輻射功能層，所述第四層作為第一阻擋保護層，所述第五層作為晶床介質層，作為第六層和第七層作為第二電介質組合層，所述第八層作為低輻射功能層，所述第九層作為第二阻擋保護層，所述第十層作為床介質層，所述第十一層至第十四層作為第三電介質組合層，所述第十五層作為低輻射功能層，所述第十六層作為第三阻擋保護層、作為第十七層作為晶床介質層，所述第十八層作為第四電介質層。

優(yōu)選的，所述第一層和第十八層的厚度均為15-20nm。

優(yōu)選的，所述第二層和第十四層的厚度均為5-10nm。

優(yōu)選的，所述第三層的厚度為3.5-7.5nm。

優(yōu)選的，所述第四層的厚度為0.5-1nm。

優(yōu)選的，所述第五層的厚度為5-8nm。

優(yōu)選的，所述第六層的厚度為40-50nm。

優(yōu)選的，所述第七層的厚度為5-15nm。

優(yōu)選的，所述第八層的厚度為10-15nm。

優(yōu)選的，所述第九層和第十六層的厚度為1-2nm。

優(yōu)選的，所述第十層和第十七層的厚度為5-8nm。

優(yōu)選的，所述第十一層和第十二層的厚度為25-30nm。

優(yōu)選的，所述第十三層的厚度為30-35nm。

優(yōu)選的，所述第十五層的厚度為6-10nm。

優(yōu)選的，所述總膜層厚度為230-260nm。

另外本發(fā)明還設計了一種中透淺藍色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃的制備工藝，通過磁控濺射鍍膜技術在預清洗過的潔凈玻璃表面鍍上低輻射功能膜層，玻璃在高真空的等離子體氛圍中成膜，通過多層中間層復合疊加技術改善膜層透過色，使膜層鋼化后透過色接近中性，減少透過色對玻面顏色的干擾。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：該玻璃的6mm單片鋼化后透過率可達50％，玻面外觀顏色為淺藍色，清新自然，透過色接近中性，透過色-3≤a*＜0、b*接近零，可鋼三銀鋼化后正側面顏色接近，本款膜系可做彎鋼產品與一款普通三銀(先鋼再鍍)配套使用。

附圖說明

圖1為本發(fā)明結構示意圖；

圖中：1-SiNx層，2-ZnO層，3-Ag層，4-NiCr層,5-AZO層,6-SiNx層,7-ZnO層,8-Ag層，9-NiCr層，10-AZO層，11-ZnSnO-層，12-ZnO層，13-SiNx層,14-ZnO層,15-Ag層,16-為NiCr層，17-AZO層，18-SiNx層；Clean glass-玻璃基片層。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

實施例：

請參閱圖1，本發(fā)明提供一種技術方案：一種中透淺藍色可彎鋼三銀低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片層和鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復合有十八個膜層，其中第一層為SiNx層1，第二層為ZnO層2，第三層Ag層3，第四層為NiCr層4,第五層為AZO層5,第六層為SiNx層6,第七層為ZnO層7,第八層為Ag層8，第九層為NiCr層9，第十層為AZO層10，第十一層為ZnSnO層11，第十二層為ZnO層12，第十三層為SiNx層13,第十四層為ZnO層14,第十五層為Ag層15,第十六層為NiCr層16，第十七層為AZO層17，第十八層為SiNx層18。

其制備方法為：采用離線鍍膜技術，通過磁控濺射鍍膜技術在預清洗過的潔凈玻璃表面鍍上低輻射功能膜層，玻璃在高真空的等離子體氛圍中成膜，磁控濺射具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點，通過多層中間層(ZnSnO、ZnO、SiNx、ZnO)復合疊加技術改善膜層透過色，使膜層鋼化后透過色接近中性，減少透過色對玻面顏色的干擾。

所述第一層和第二層作為第一電介質組合層，所述第三層作為低輻射功能層，所述第四層作為第一阻擋保護層，所述第五層作為晶床介質層，作為第六層和第七層作為第二電介質組合層，所述第八層作為低輻射功能層，所述第九層作為第二阻擋保護層，所述第十層作為床介質層，所述第十一層至第十四層作為第三電介質組合層，所述第十五層作為低輻射功能層，所述第十六層作為第三阻擋保護層、作為第十七層作為晶床介質層，所述第十八層作為第四電介質層。

每層膜靶材及工藝技術要求如下表所示：

本款三銀膜系以一款常規(guī)三銀膜系(我司命名為LB56S)顏色為藍本，反復調節(jié)膜層厚度，使得鋼化后顏色與該款三銀接近，故本款可鋼三銀膜系可用于彎弧玻璃生產與常規(guī)三銀配套使用。其鋼化后結構為6+12A+6時，性能參數(shù)如下：

通過反復實驗確定的較穩(wěn)定各膜層工藝氣體比例，2、為保證膜層穩(wěn)定性及顏色的可調性所設計的膜層結構，3、通過軟件設計及工藝調試、實驗確定的各膜層厚度，該膜層厚度有益于減少調試時各層的拐點，第二電介質組合層到第四電介質組合層調試規(guī)律與普通雙銀接近，有利于生產工藝的控制。

經過測試，本發(fā)明的優(yōu)點在于，1、6mm單片透過率可達50％，玻面外觀顏色為淺藍色，透過色接近中性，透過色-3≤a*＜0、b*接近零，清新自然，2、可鋼三銀鋼化后正側面顏色接近，△a*＜0.5；3、本款膜系可做彎鋼產品與一款普通三銀(先鋼再鍍)配套使用。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。