[針對(duì)相關(guān)申請(qǐng)的記載]

本發(fā)明基于日本專利申請(qǐng)：特愿2014-265066號(hào)（2014年12月26日申請(qǐng)）要求優(yōu)先權(quán)，將該申請(qǐng)的全部記載內(nèi)容通過引用而援引記載于本說明書中。

本發(fā)明涉及氧化鋯燒結(jié)體。此外，本發(fā)明涉及用于制造該氧化鋯燒結(jié)體的氧化鋯組合物和氧化鋯預(yù)燒體。進(jìn)而，本發(fā)明涉及包含氧化鋯燒結(jié)體的齒科用制品。

背景技術(shù)：

近年來，作為齒科用的修補(bǔ)物（覆蓋冠、牙冠、齒冠、裝接假牙等），從審美性和安全性的觀點(diǎn)出發(fā)，使用氧化鋯等陶瓷來代替金屬。

專利文獻(xiàn)1公開了透光性高的氧化鋯燒結(jié)體。專利文獻(xiàn)1記載的透光性且含有氧化釔的氧化鋯燒結(jié)體由含有超過4摩爾%且為7摩爾%以下的氧化釔的氧化鋯形成，燒結(jié)體的粒徑為2.0μm以下、相對(duì)密度為99.5%以上、1mm厚時(shí)對(duì)于波長(zhǎng)600nm的可見光的總透光率為40%以上。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2008-222450號(hào)公報(bào)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問題

從本發(fā)明的觀點(diǎn)出發(fā)，提出下述分析。

圖4示出表示齒科用修補(bǔ)物的使用例的示意圖。圖4所示的例子中，氧化鋯燒結(jié)體作為齒科用修補(bǔ)物（牙冠）201而被制作。齒科用修補(bǔ)物201覆蓋從牙床203突出的患者的橋基牙202。

通常，自然牙的透明性從牙頸部（根側(cè)）朝向切端部（前端側(cè)）逐漸變高。如果齒科用修補(bǔ)物201整體的透明性相同，則與相鄰的自然牙相比，齒科用修補(bǔ)物201看起來不自然。因此，為了制作具有與自然牙相同的透明性變化的齒科用修補(bǔ)物201，期望使切端部側(cè)的透明性高于牙頸部側(cè)的透明性。

對(duì)于部分穩(wěn)定化氧化鋯的燒結(jié)體而言，如果穩(wěn)定劑（尤其是氧化釔）的含有率變高，則存在氧化鋯燒結(jié)體的透明性變高的傾向。然而，如果穩(wěn)定劑的含有率不同，則部分穩(wěn)定化氧化鋯在燒結(jié)時(shí)的收縮率也不同。因此，即使部分性地改變穩(wěn)定劑的含有率來制作透明性會(huì)變化的氧化鋯燒結(jié)體，由于收縮率部分性地不同，因此氧化鋯燒結(jié)體會(huì)產(chǎn)生缺陷。因此，無法通過改變穩(wěn)定劑的含有率來制作齒科用修補(bǔ)物201中使用的氧化鋯燒結(jié)體。

此外，橋基牙的顏色（尤其是顏色的深淺）存在個(gè)人差異。橋基牙202發(fā)黑時(shí)，如果齒科用修補(bǔ)物201的牙頸部側(cè)具有專利文獻(xiàn)1所述那樣的高透明性，則從齒科用修補(bǔ)物201的外側(cè)透視出橋基牙202。此時(shí)，可觀察到所治療的牙齒（即，齒科用修補(bǔ)物201的一部分）發(fā)黑。因此，期望能夠根據(jù)患者的橋基牙的顏色來調(diào)整齒科用修補(bǔ)物201的透明性。

用于解決問題的方法

根據(jù)本發(fā)明的第一視點(diǎn)，提供含有4mol%~7mol%的氧化釔作為穩(wěn)定劑的部分穩(wěn)定化氧化鋯的燒結(jié)體。氧化鋯燒結(jié)體含有遮光材料。氧化鋯燒結(jié)體具有：第一區(qū)域、以及遮光材料的含有率比第一區(qū)域高的第二區(qū)域。第一區(qū)域中的氧化釔的含有率與第二區(qū)域中的氧化釔的含有率之差為1mol%以下。

根據(jù)本發(fā)明的第二視點(diǎn)，提供含有部分穩(wěn)定化氧化鋯和遮光材料的組合物，所述部分穩(wěn)定化氧化鋯含有4mol%~7mol%的氧化釔作為穩(wěn)定劑。組合物具有：第一區(qū)域、以及遮光材料的含有率比第一區(qū)域高的第二區(qū)域。遮光材料為選自包含氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、鋯和硅的復(fù)合氧化物的組中的至少一者。

根據(jù)本發(fā)明的第三視點(diǎn)，提供含有部分穩(wěn)定化氧化鋯和遮光材料的預(yù)燒體，所述部分穩(wěn)定化氧化鋯含有4mol%~7mol%的氧化釔作為穩(wěn)定劑。預(yù)燒體具有：第一區(qū)域、以及遮光材料的含有率比第一區(qū)域高的第二區(qū)域。遮光材料為選自包含氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、鋯和硅的復(fù)合氧化物的組中的至少一者。

根據(jù)本發(fā)明的第四視點(diǎn)，提供具有第一視點(diǎn)所述的氧化鋯燒結(jié)體的齒科用制品。

發(fā)明的效果

能夠制作具有與自然牙的透明性變化相似的透明性變化的氧化鋯燒結(jié)體。能夠得到即使使透明性發(fā)生變化也會(huì)抑制缺陷產(chǎn)生的氧化鋯燒結(jié)體。此外，能夠制作既具有與自然牙相同的外觀，又不易因患者的橋基牙的顏色而透視出橋基牙的齒科用制品。

附圖說明

圖1是表示本申請(qǐng)的第一實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體、預(yù)燒體和組合物的一例的示意圖。

圖2是表示本申請(qǐng)的第二實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體、預(yù)燒體和組合物的一例的示意圖。

圖3是表示本申請(qǐng)的第三實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體、預(yù)燒體和組合物的一例的示意圖。

圖4是表示齒科用修補(bǔ)物的使用例的示意截面圖。

具體實(shí)施方式

下述說明中，附圖參照符號(hào)是為了理解發(fā)明而標(biāo)注的，并不意指其限定于圖示的方式。各實(shí)施方式中，對(duì)相同的要素標(biāo)注相同的符號(hào)。

上述各視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)如下所述。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，將基于以白色作為背景而測(cè)定的l^＊a^＊b^＊表色系的色度中的l^＊值記作第一l^＊值，將基于以黑色作為背景而測(cè)定的l^＊a^＊b^＊表色系的色度中的l^＊值記作第二l^＊值，將從第一l^＊值減去第二l^＊值而得到的值記作δl時(shí)，第一區(qū)域中的δl大于第二區(qū)域中的δl。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第一區(qū)域中的δl比第二區(qū)域中的δl大0.8以上。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第一區(qū)域中的δl為8~12。第二區(qū)域中的δl為4~11。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第二區(qū)域中的δl為7.5以下。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第一區(qū)域與第二區(qū)域進(jìn)行了層疊。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，氧化鋯燒結(jié)體在第一區(qū)域與第二區(qū)域之間還具有第三區(qū)域。第三區(qū)域的δl大于第二區(qū)域的δl且小于第一區(qū)域的δl。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第三區(qū)域中的遮光材料的含有率大于第一區(qū)域中的遮光材料的含有率、且小于第二區(qū)域中的遮光材料的含有率。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，氧化鋯燒結(jié)體在第三區(qū)域與第二區(qū)域之間還具有第四區(qū)域。第四區(qū)域的δl大于第二區(qū)域的δl且小于第三區(qū)域的δl。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第四區(qū)域中的遮光材料的含有率大于第三區(qū)域中的遮光材料的含有率、且小于第二區(qū)域中的遮光材料的含有率。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，在各區(qū)域的層疊方向上，對(duì)于厚度而言，第一區(qū)域的厚度為整體的30%~40%。第二區(qū)域的厚度為整體的30%~40%。第三區(qū)域的厚度為整體的10%~20%。第四區(qū)域的厚度為整體的10%~20%。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，遮光材料為選自包含氧化硅、氧化鋁、氧化鈦、鋯和硅的復(fù)合氧化物、著色劑和熒光劑的組中的至少一者。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，部分穩(wěn)定化氧化鋯中含有5.3mol%~6.2mol%的氧化釔作為穩(wěn)定劑。

根據(jù)上述第二視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，組合物在第一區(qū)域與第二區(qū)域之間還具有第三區(qū)域。第三區(qū)域中的遮光材料的含有率大于第一區(qū)域中的遮光材料的含有率、且小于第二區(qū)域中的遮光材料的含有率。

根據(jù)上述第二視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，組合物在第三區(qū)域與第二區(qū)域之間還具有第四區(qū)域。第四區(qū)域中的遮光材料的含有率大于第三區(qū)域中的遮光材料的含有率、且小于第二區(qū)域中的遮光材料的含有率。

根據(jù)上述第二視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，各區(qū)域中的氧化釔的含有率的偏差為1mol%以下。

根據(jù)上述第二視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，組合物具有板狀形狀，所述板狀形狀具有第一表面、以及位于第一表面的相反側(cè)的第二表面。第一區(qū)域位于第一表面?zhèn)?。第二區(qū)域位于第二表面?zhèn)取?/p>

根據(jù)上述第三視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，預(yù)燒體在第一區(qū)域與第二區(qū)域之間還具有第三區(qū)域。第三區(qū)域中的遮光材料的含有率大于第一區(qū)域中的遮光材料的含有率、且小于第二區(qū)域中的遮光材料的含有率。

根據(jù)上述第三視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，預(yù)燒體在第三區(qū)域與第二區(qū)域之間還具有第四區(qū)域。第四區(qū)域中的遮光材料的含有率大于第三區(qū)域中的遮光材料的含有率、且小于第二區(qū)域中的遮光材料的含有率。

根據(jù)上述第三視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，各區(qū)域中的氧化釔的含有率的偏差為1mol%以下。

根據(jù)上述第三視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，預(yù)燒體具有板狀形狀，所述板狀形狀具有第一表面、以及位于第一表面的相反側(cè)的第二表面。第一區(qū)域位于第一表面?zhèn)取５诙^(qū)域位于第二表面?zhèn)取?/p>

根據(jù)上述第三視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，提供將第二視點(diǎn)所述的組合物以800℃~1200℃進(jìn)行燒成而得到的預(yù)燒體。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，提供將第二視點(diǎn)所述的組合物以1400℃以上進(jìn)行燒成而得到的氧化鋯燒結(jié)體。

根據(jù)上述第一視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，提供將第三視點(diǎn)所述的預(yù)燒體以1400℃以上進(jìn)行燒成而得到的氧化鋯燒結(jié)體。

根據(jù)上述第四視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，齒科用制品具有牙冠形狀。

根據(jù)上述第四視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第一區(qū)域配置于牙冠形狀的切端側(cè)。第二區(qū)域配置于牙冠形狀的牙頸部側(cè)。

根據(jù)上述第四視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，第二區(qū)域至少覆蓋橋基牙的一部分側(cè)面。

根據(jù)上述第四視點(diǎn)的優(yōu)選形態(tài)，齒科用制品為齒科用修補(bǔ)物、齒列矯正用制品或齒科移植用制品。

針對(duì)本申請(qǐng)的第一實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體進(jìn)行說明。本申請(qǐng)的氧化鋯燒結(jié)體是以部分穩(wěn)定化氧化鋯晶體顆粒為主并進(jìn)行燒結(jié)而得到的燒結(jié)體，具有部分穩(wěn)定化氧化鋯作為基質(zhì)相，所述部分穩(wěn)定化氧化鋯晶體顆粒含有氧化鋯（zro2；二氧化鋯）及其穩(wěn)定劑。本申請(qǐng)的氧化鋯燒結(jié)體中，氧化鋯的主要結(jié)晶相為正方晶系和立方晶系中的至少一者。氧化鋯可以含有正方晶系和立方晶系這兩者。在未進(jìn)行水熱處理試驗(yàn)的階段中，氧化鋯燒結(jié)體優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不含單斜晶系。

本申請(qǐng)的氧化鋯燒結(jié)體中，不僅包括使已成形的氧化鋯顆粒在常壓下~未加壓下進(jìn)行燒結(jié)而得到的燒結(jié)體，還包括利用hip（hotisostaticpressing；熱等靜壓制）處理等高溫加壓處理使其致密化而得到的燒結(jié)體。

作為部分穩(wěn)定化氧化鋯中的穩(wěn)定劑，可列舉出例如氧化鈣（cao）、氧化鎂（mgo）、氧化釔（y2o3）（以下稱為“氧化釔”）、氧化鈰（ceo2）等氧化物。為了提高氧化鋯燒結(jié)體的透明性，更優(yōu)選使用氧化釔。作為穩(wěn)定劑而使用氧化釔時(shí)，氧化釔的含有率例如相對(duì)于部分穩(wěn)定化氧化鋯優(yōu)選為4mol%~7mol%、更優(yōu)選為5.3mol%~6.2mol%。根據(jù)該含有率，能夠抑制其相變成單斜晶，且能夠提高氧化鋯燒結(jié)體的透明性。氧化鋯燒結(jié)體中的穩(wěn)定劑的含有率例如可通過電感耦合等離子體（icp；inductivelycoupledplasma）發(fā)光分光分析、熒光x射線分析等來測(cè)定。應(yīng)予說明，添加穩(wěn)定劑而部分地實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定化的氧化鋯被稱為部分穩(wěn)定化氧化鋯（psz；partiallystabilizedzirconia）。

穩(wěn)定劑優(yōu)選均勻地分布在氧化鋯燒結(jié)體中。即，穩(wěn)定劑在氧化鋯燒結(jié)體中的含有率優(yōu)選為恒定的。例如，優(yōu)選使穩(wěn)定劑在氧化鋯燒結(jié)體的含有率不會(huì)階段性地變化或者部分性地變化。這是因?yàn)椋喝绻€(wěn)定劑的含有率部分性地不同，則燒結(jié)時(shí)的收縮率也不同，氧化鋯燒結(jié)體會(huì)產(chǎn)生缺陷。穩(wěn)定劑的偏差優(yōu)選為1mol%以下、更優(yōu)選為0.5mol%以下。

氧化鋯燒結(jié)體的透明性（透光性）可以使用l^＊a^＊b^＊表色系（jisz8729）中的色度（色空間）的l^＊值來表示。本申請(qǐng)中，針對(duì)如后述實(shí)施例那樣制作的試樣，將試樣的背景（底板）設(shè)為白色（對(duì)于試樣，將與測(cè)定裝置相反一側(cè)設(shè)為白色），將由此測(cè)定的l^＊a^＊b^＊表色系的l^＊值記作第一l^＊值。針對(duì)測(cè)定了第一l^＊值的同一試樣，將試樣的背景（底板）設(shè)為黑色（對(duì)于試樣，將與測(cè)定裝置相反一側(cè)設(shè)為黑色），將由此測(cè)定的l^＊a^＊b^＊表色系的l^＊值記作第二l^＊值。將第一l^＊值與第二l^＊值之差（從第一l^＊值減去第二l^＊值而得到的值）表述為δl。本申請(qǐng)中，利用δl來表述氧化鋯燒結(jié)體的透明性。δl越大則表示氧化鋯燒結(jié)體的透明性越高，δl越小則表示氧化鋯燒結(jié)體的透明性越低。成為背景（底板）的黑色和白色可以使用在涂料的相關(guān)測(cè)定中使用的遮蔽率測(cè)定用紙。

圖1示出表示本申請(qǐng)的第一實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體的一例的示意圖。氧化鋯燒結(jié)體100具有透明性不同的第一區(qū)域101和第二區(qū)域102。第一區(qū)域101的透明性高于第二區(qū)域102的透明性。第一區(qū)域101的δl例如優(yōu)選為8以上、更優(yōu)選為9以上。第一區(qū)域101的δl例如優(yōu)選為12以下、更優(yōu)選為11以下。此外，第二區(qū)域102的δl例如優(yōu)選為4以上、更優(yōu)選為6以上。第二區(qū)域102的δl例如優(yōu)選為11以下、更優(yōu)選為10以下。第二區(qū)域102優(yōu)選具有不易透視出橋基牙那樣的透明性時(shí)，第二區(qū)域102的δl優(yōu)選為7.5以下、更優(yōu)選為7以下、進(jìn)一步優(yōu)選為6.5以下。

第一區(qū)域101的δl與第二區(qū)域102的δl之差優(yōu)選為0.8以上、更優(yōu)選為1以上、更優(yōu)選為1.5以上、進(jìn)一步優(yōu)選為2以上。第一區(qū)域101的δl與第二區(qū)域102的δl之差優(yōu)選為4以下、更優(yōu)選為3以下。

第一區(qū)域101與第二區(qū)域102中的穩(wěn)定劑（例如氧化釔）的含有率之差優(yōu)選較小。第一區(qū)域101與第二區(qū)域102中的穩(wěn)定劑的含有率之差優(yōu)選為1mol%以下、更優(yōu)選為0.5mol%、更優(yōu)選實(shí)質(zhì)上檢測(cè)不出顯著差異。

第一區(qū)域101和第二區(qū)域102優(yōu)選為層狀。第一區(qū)域101與第二區(qū)域102優(yōu)選進(jìn)行了層疊。氧化鋯燒結(jié)體中，透明性優(yōu)選從第一區(qū)域101向著第二區(qū)域102階段性地變低。

氧化鋯燒結(jié)體的厚度（t1+t2）例如可以設(shè)為10mm~20mm。第一區(qū)域101的厚度t1可以設(shè)為氧化鋯燒結(jié)體的厚度（t1+t2）的30%~70%或40%~60%。第二區(qū)域102的厚度t2可以設(shè)為氧化鋯燒結(jié)體的厚度（t1+t2）的30%~70%或40%~60%。由此，將氧化鋯燒結(jié)體應(yīng)用于齒科用修補(bǔ)物時(shí)，齒科技師容易根據(jù)橋基牙的大小來調(diào)整用于隱藏橋基牙的第二區(qū)域102的范圍。

氧化鋯燒結(jié)體100可以含有使氧化鋯燒結(jié)體的透明性降低的遮光材料。遮光材料的含有率優(yōu)選部分性或者階段性地不同。第二區(qū)域102可以含有使氧化鋯燒結(jié)體的透明性降低的遮光材料。第一區(qū)域101可以含有遮光材料。遮光材料的含有率優(yōu)選呈現(xiàn)從第二區(qū)域102朝向第一區(qū)域101側(cè)階段性地減少的傾向。第二區(qū)域102的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第一區(qū)域101的遮光材料的含有率。

遮光材料優(yōu)選不會(huì)使氧化鋯燒結(jié)體的強(qiáng)度、破壞韌性等物性明顯降低。作為遮光材料，可以使用例如選自包含氧化硅（sio2；二氧化硅）、氧化鋁（al2o3；三氧化二鋁）、氧化鈦（tio2；二氧化鈦）、鋯和硅的復(fù)合氧化物（例如鋯石（zrsio4））、著色劑（顏料）和熒光劑的組中的至少一者。作為著色劑，可列舉出例如選自p、ti、v、cr、mn、fe、co、ni、zn、y、zr、sn、sb、bi、ce、pr、sm、eu、gd、tb和er的組中的至少一種元素的氧化物。作為熒光劑，可列舉出例如y2sio5：ce、y2sio5：tb、（y,gd,eu）bo3、y2o3：eu、yag：ce、znga2o4：zn、bamgal10o17：eu等。遮光材料可以組合使用多種化合物。遮光材料的含有率可根據(jù)遮光材料的種類來調(diào)整。

第二區(qū)域102中含有的遮光材料與第一區(qū)域101中含有的遮光材料可以相同，也可以不同。

對(duì)于氧化鋯燒結(jié)體的l^＊a^＊b^＊表色系（jisz8729）中的色度（色空間）而言，l^＊值優(yōu)選處于64~76的范圍內(nèi)。a^＊值優(yōu)選處于-6~3的范圍內(nèi)。b^＊值優(yōu)選處于3~27的范圍內(nèi)。由此，氧化鋯燒結(jié)體能夠具有與自然牙相同的顏色。

根據(jù)第一實(shí)施方式，在患者的橋基牙的顏色較深（黑）的情況下，能夠用透明性低的區(qū)域來制作用于覆蓋橋基牙的齒科用修補(bǔ)物。此外，能夠使齒科用修補(bǔ)物的透明性變化傾向近似于自然牙的透明性變化傾向。

接著，針對(duì)本申請(qǐng)的第二實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體進(jìn)行說明。第一實(shí)施方式中，針對(duì)具有兩個(gè)區(qū)域的氧化鋯燒結(jié)體進(jìn)行說明，但第二實(shí)施方式中，針對(duì)具有三個(gè)以上區(qū)域的氧化鋯燒結(jié)體進(jìn)行說明。

圖2示出表示本申請(qǐng)的第二實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體的一例的示意圖。氧化鋯燒結(jié)體200中，除了具有第一區(qū)域101和第二區(qū)域102之外，在第一區(qū)域101與第二區(qū)域102之間還具有第三區(qū)域103和第四區(qū)域104。圖2所示的氧化鋯燒結(jié)體200中，四個(gè)區(qū)域具有層狀形狀，按照第二區(qū)域102、第四區(qū)域104、第三區(qū)域103、第一區(qū)域101的順序進(jìn)行了層疊。

第一區(qū)域101和第二區(qū)域102的透明性可以與第一實(shí)施方式同樣設(shè)定。第三區(qū)域103和第四區(qū)域104的透明性優(yōu)選低于第一區(qū)域101的透明性、且高于第二區(qū)域102的透明性。各區(qū)域的δl優(yōu)選從第一區(qū)域101朝向第二區(qū)域102依次變小。由此，能夠再現(xiàn)與自然牙相同的透明性變化。第四區(qū)域104優(yōu)選具有不易透視出橋基牙那樣的透明性。

第三區(qū)域103的透明性優(yōu)選低于第一區(qū)域101的透明性。第四區(qū)域104的透明性優(yōu)選低于第三區(qū)域103的透明性。第二區(qū)域102的透明性優(yōu)選低于第四區(qū)域104的透明性。例如，第一區(qū)域101的δl優(yōu)選為8以上、更優(yōu)選為9以上。第一區(qū)域101的δl優(yōu)選為12以下、更優(yōu)選為11以下。第三區(qū)域103的δl優(yōu)選為5以上、更優(yōu)選為6以上。第三區(qū)域103的δl優(yōu)選為11以下、更優(yōu)選為10以下。第四區(qū)域104的δl優(yōu)選為6以上、更優(yōu)選為7以上。第四區(qū)域104的δl優(yōu)選為10以下、更優(yōu)選為9以下。第二區(qū)域102的δl優(yōu)選為7以上、更優(yōu)選為8以上。第二區(qū)域102的δl優(yōu)選為12以下、更優(yōu)選為11以下。由此，氧化鋯燒結(jié)體能夠具有與自然牙相似的透明性。

第三區(qū)域103的δl優(yōu)選比第一區(qū)域101的δl小0.3以上、更優(yōu)選小0.5以上。第四區(qū)域104的δl優(yōu)選比第三區(qū)域103的δl小0.3以上、更優(yōu)選小0.5以上。第二區(qū)域102的δl優(yōu)選比第四區(qū)域104的δl小0.2以上、更優(yōu)選小0.3以上。由此，氧化鋯燒結(jié)體能夠具有與自然牙相似的透明性變化。

氧化鋯燒結(jié)體的厚度（各區(qū)域的層疊方向的厚度；t1+t3+t4+t2）例如可以設(shè)為10mm~20mm。第一區(qū)域101的厚度t1可以設(shè)為氧化鋯燒結(jié)體的厚度（t1+t3+t4+t2）的30%~40%。第三區(qū)域103的厚度t3可以設(shè)為氧化鋯燒結(jié)體的厚度（t1+t3+t4+t2）的10%~20%。第四區(qū)域104的厚度t4可以設(shè)為氧化鋯燒結(jié)體的厚度（t1+t3+t4+t2）的10%~20%。第二區(qū)域102的厚度t2可以設(shè)為氧化鋯燒結(jié)體的厚度（t1+t3+t4+t2）的30%~40%。由此，將氧化鋯燒結(jié)體應(yīng)用于齒科用修補(bǔ)物時(shí)，齒科技師容易根據(jù)橋基牙的大小來調(diào)整用于隱藏橋基牙的第二區(qū)域102的范圍。

與第一實(shí)施方式同樣操作，各區(qū)域可以含有遮光材料。各區(qū)域中的遮光材料的含有率優(yōu)選處于從第二區(qū)域102朝向第一區(qū)域101階段性減少的傾向。第二區(qū)域102的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第四區(qū)域104的遮光材料的含有率。第四區(qū)域104的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第三區(qū)域103的遮光材料的含有率。第三區(qū)域103的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第一區(qū)域101的遮光材料的含有率。

圖2中示出氧化鋯燒結(jié)體200具有四個(gè)區(qū)域（層）的形態(tài)，區(qū)域的數(shù)量不限定于四個(gè)。氧化鋯燒結(jié)體可以具有三個(gè)區(qū)域，也可以具有五個(gè)以上的區(qū)域。

第二實(shí)施方式中的除了上述之外的形態(tài)可以與第一實(shí)施方式相同。

根據(jù)第二實(shí)施方式，能夠得到與第一實(shí)施方式相同的效果。根據(jù)第二實(shí)施方式，能夠制作具有更自然的透明性變化的齒科用修補(bǔ)物。

接著，針對(duì)本申請(qǐng)的第三實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體進(jìn)行說明。在第一實(shí)施方式和第二實(shí)施方式中，針對(duì)各區(qū)域具有平板形狀的層疊結(jié)構(gòu)的氧化鋯燒結(jié)體進(jìn)行說明，在第四實(shí)施方式中，針對(duì)各區(qū)域不具有平板形狀的氧化鋯燒結(jié)體進(jìn)行說明。

圖3示出表示本申請(qǐng)的第三實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體的一例的示意圖。氧化鋯燒結(jié)體300具有第一區(qū)域101和第二區(qū)域102。第一區(qū)域101和第二區(qū)域102的透明性可以與第一實(shí)施方式相同。

例如，第二區(qū)域102可以具有會(huì)覆蓋橋基牙的側(cè)面那樣的形狀。例如，在圖3所示的形態(tài)中，第二區(qū)域102具有半圓形狀或半橢圓形狀。由此，將氧化鋯燒結(jié)體300制作成齒科用修補(bǔ)物時(shí)，通過用透明性低的第二區(qū)域102進(jìn)行覆蓋，能夠使橋基牙不易透視。

第三實(shí)施方式中的除了上述之外的形態(tài)可以與第一實(shí)施方式相同。

根據(jù)第三實(shí)施方式，能夠得到與第一實(shí)施方式相同的效果。根據(jù)第三實(shí)施方式，能夠用透明性低的區(qū)域來制作可隱藏橋基牙的齒科用修補(bǔ)物。

上述實(shí)施方式中，相鄰區(qū)域之間的透明性和遮光材料的含有率的變化不一定需要形成明確的界限，也可以是連續(xù)的。

接著，針對(duì)用于制造本申請(qǐng)的氧化鋯燒結(jié)體的組合物和預(yù)燒體進(jìn)行說明。組合物和預(yù)燒體成為上述本發(fā)明的氧化鋯燒結(jié)體的前體（中間制品）。預(yù)燒體是將組合物以不會(huì)發(fā)生燒結(jié)的溫度進(jìn)行燒成（即預(yù)燒）而得到的。此外，預(yù)燒體還包括經(jīng)成形加工而得到的產(chǎn)物。例如，通過cad/cam（computer-aideddesign/computer-aidedmanufacturing）系統(tǒng)對(duì)經(jīng)預(yù)燒的氧化鋯盤進(jìn)行加工而得到的齒科用制品（例如牙冠形狀的修補(bǔ)物）也涵蓋在預(yù)燒體中。

本發(fā)明的組合物還包括：粉體、將粉體添加至溶劑而得到的流體、以及將粉體成形為特定形狀而得到的成形體。即，組合物可以為粉末狀，也可以為糊劑狀~濕式組合物（即，可以在溶劑中，也可以包含溶劑）。此外，組合物可以含有粘結(jié)劑、顏料等添加物。應(yīng)予說明，計(jì)算上述含有率時(shí)，不考慮溶劑、粘結(jié)劑等添加物的質(zhì)量。本發(fā)明的組合物為成形體時(shí)，可以通過任意的成形方法來成形，可以通過例如壓制成形、注射成形、光成形法來進(jìn)行成形，也可以實(shí)施了多個(gè)階段的成形。例如，還可以在將本發(fā)明的組合物進(jìn)行壓制成形后，進(jìn)一步實(shí)施cip（coldisostaticpressing；冷等靜壓制）處理。

組合物和預(yù)燒體含有部分穩(wěn)定化氧化鋯和遮光材料。組合物和預(yù)燒體中的穩(wěn)定劑的種類和含有率可以與上述相同。遮光材料的種類可以與上述相同。

組合物和預(yù)燒體中的穩(wěn)定劑（例如氧化釔）的含有率的偏差優(yōu)選較小。例如，穩(wěn)定劑的含有率的偏差優(yōu)選為1mol%以下、更優(yōu)選為0.5mol%，更優(yōu)選實(shí)質(zhì)上檢測(cè)不出顯著差異。

本申請(qǐng)的經(jīng)成形的組合物（成形組合物）和預(yù)燒體具有與制作的氧化鋯燒結(jié)體相同的構(gòu)成。例如，制作圖1~圖3所示那樣的氧化鋯燒結(jié)體時(shí)，成形組合物和預(yù)燒體具有圖1~圖3所示那樣的構(gòu)成和形狀。本申請(qǐng)中，對(duì)成形組合物和預(yù)燒體的各區(qū)域附加與氧化鋯燒結(jié)體的各區(qū)域?qū)?yīng)的名稱。例如，成形組合物和預(yù)燒體的第一區(qū)域是與氧化鋯燒結(jié)體的第一區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域。

以下，以用于制作圖3所示那樣的第二實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體的成形組合物和預(yù)燒體為例，針對(duì)組合物和預(yù)燒體進(jìn)行說明。

成形組合物和預(yù)燒體具有：第一區(qū)域101、以及遮光材料的含有率與第一區(qū)域101不同的第二區(qū)域102。第一區(qū)域101和第二區(qū)域102優(yōu)選為層狀。第一區(qū)域101與第二區(qū)域102優(yōu)選進(jìn)行了層疊。成形組合物和預(yù)燒體可以具有板狀形狀，所述板狀形狀具有第一表面、以及第一表面的相反側(cè)的第二表面。此時(shí)，第一區(qū)域可以配置與第一表面?zhèn)取５诙^(qū)域可以配置與第二表面?zhèn)取?/p>

遮光材料的含有率優(yōu)選處于從第二區(qū)域102朝向第一區(qū)域101階段性地減少的傾向。第二區(qū)域102中的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第一區(qū)域101中的遮光材料的含有率。

成形組合物和預(yù)燒體中，除了具有第一區(qū)域101和第二區(qū)域102之外，還可以在第一區(qū)域101與第二區(qū)域102之間具有第三區(qū)域103和第四區(qū)域104。第三區(qū)域103和第四區(qū)域104中的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第一區(qū)域101的遮光材料的含有率、且小于第二區(qū)域102的遮光材料的含有率。第二區(qū)域102的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第四區(qū)域104的遮光材料的含有率。第四區(qū)域104的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第三區(qū)域103的遮光材料的含有率。第三區(qū)域103的遮光材料的含有率優(yōu)選大于第一區(qū)域101的遮光材料的含有率。

成形組合物和預(yù)燒體中的各區(qū)域的厚度優(yōu)選以對(duì)應(yīng)于所制作的氧化鋯燒結(jié)體中的各區(qū)域的厚度的方式進(jìn)行設(shè)定。

本申請(qǐng)的組合物通過將本發(fā)明的組合物例如在常壓下以800℃~1200℃進(jìn)行燒成，從而形成本申請(qǐng)的預(yù)燒體。

本申請(qǐng)的組合物和預(yù)燒體例如通過在常壓下以1400℃~1650℃進(jìn)行燒成，從而形成本申請(qǐng)的氧化鋯燒結(jié)體。

根據(jù)本申請(qǐng)的組合物和預(yù)燒體，能夠制作本申請(qǐng)的氧化鋯燒結(jié)體。

接著，針對(duì)本申請(qǐng)的齒科用制品進(jìn)行說明。

齒科用制品包含上述實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體或預(yù)燒體。

齒科用制品例如包含陶瓷外框、全解剖式牙冠（fullcontourzirconiacrown）等修補(bǔ)物。齒科用修補(bǔ)物優(yōu)選具有牙冠形狀。齒科用修補(bǔ)物還可以包含在氧化鋯燒結(jié)體或預(yù)燒體上層疊的烤瓷（例如玻璃材料）。

齒科用修補(bǔ)物優(yōu)選在牙頸部側(cè)具有第二區(qū)域。齒科用修補(bǔ)物優(yōu)選在切端部側(cè)具有第一區(qū)域。齒科用修補(bǔ)物的透明性優(yōu)選從牙頸部側(cè)朝向切端部側(cè)變高。第二區(qū)域優(yōu)選以覆蓋橋基牙側(cè)面的方式來形成。在第二實(shí)施方式所述的氧化鋯燒結(jié)體的情況下，齒科用修補(bǔ)物可以以利用透明性低的第二區(qū)域和第四區(qū)域覆蓋橋基牙側(cè)面的方式來形成。

此外，齒科用制品還可以包含例如牙齒矯正用制品（例如牙齒矯正用托架）、齒科移植用制品（例如齒科移植用橋基）。

接著，針對(duì)氧化鋯燒結(jié)體、氧化鋯預(yù)燒體和氧化鋯組合物的制造方法、以及齒科用制品的制造方法進(jìn)行說明。此處，氧化鋯燒結(jié)體、預(yù)燒體和組合物以圖示那樣的具有第一區(qū)域~第二區(qū)域的形態(tài)為例，進(jìn)行說明。

首先，將氧化鋯與穩(wěn)定劑在水中進(jìn)行濕式混合，從而形成漿料。接著，使?jié){料干燥并進(jìn)行造粒。接著，對(duì)造粒物進(jìn)行預(yù)燒來制作1次粉末。

接著，將1次粉末分成層的數(shù)量。向各1次粉末中添加與各層的位置相符的特定量的遮光材料，并進(jìn)行混合。并且，針對(duì)各粉末，在水中將氧化鋯粉碎混合至達(dá)到期望粒徑為止，從而形成氧化鋯漿料。接著，使?jié){料干燥并進(jìn)行造粒，從而制作2次粉末。

接著，使遮光材料的含有率不同的多種粉末依次層疊。層疊順序優(yōu)選以遮光材料的添加率階段性地變高或變低的方式進(jìn)行層疊。首先，向模具中填充第1層粉末后，將第1層粉末的上表面平整至平坦。作為平整至平坦的方法，例如可以采用使模具振動(dòng)或擦劃第1層粉末的上表面的方法。其中，優(yōu)選的是，直至層疊完所有層，不實(shí)施壓制處理。接著，在第1層粉末上填充第2層粉末。接著，對(duì)模具施加振動(dòng)。使振動(dòng)傳達(dá)至模具內(nèi)的粉末。作為施加振動(dòng)的方法，例如可以采用對(duì)模具施加機(jī)械振動(dòng)或者手動(dòng)搖晃模具或者用釘錘等敲擊模具等適當(dāng)?shù)钠谕椒?。可以認(rèn)為：由此在第1層粉末與第2層粉末的邊界，第1層粉末與第2層粉末部分性地混合。即，施加振動(dòng)的次數(shù)和強(qiáng)度、機(jī)械振動(dòng)時(shí)的頻率和振幅等可以根據(jù)粉末粒徑、粒徑分布、顆粒形狀等來適當(dāng)設(shè)定，以使上下層的粉末在層間的邊界發(fā)生混合。接著，與第1層粉末同樣操作，平整第2層粉末的上表面。重復(fù)進(jìn)行該操作直至層疊完所有層。

例如，制作上述的共4層的組合物和預(yù)燒體時(shí)，向模具中填充第1層粉末直至達(dá)到規(guī)定厚度（例如，整體厚度的25%~45%）。此時(shí)，將第1層粉末的上表面平整至平坦，但不實(shí)施壓制處理。接著，在第1層粉末上填充第2層粉末直至達(dá)到規(guī)定厚度（例如，整體厚度的5%~25%）。接著，對(duì)模具施加振動(dòng)?？赏茰y(cè)：通過該振動(dòng)，在第1層粉末的上表面與第2層粉末的下表面的邊界，形成由第1層粉末和第2層粉末混合而成的第1邊界層。接著，將第2層粉末的上表面平整至平坦。在填充第3層粉末之前，不對(duì)第2層粉末實(shí)施壓制處理。接著，在第2層粉末上填充第3層粉末直至達(dá)到規(guī)定厚度（例如，整體厚度的5%~25%）。接著，對(duì)模具施加振動(dòng)。可推測(cè)：通過該振動(dòng)，在第2層粉末的上表面與第3層粉末的下表面的邊界，形成由第2層粉末和第3層粉末混合而成的第2邊界層。接著，將第3層粉末的上表面平整至平坦。在填充第4層粉末之前，不對(duì)第3層粉末實(shí)施壓制處理。接著，在第3層粉末上填充第4層粉末直至達(dá)到規(guī)定厚度（例如，整體厚度的25%~45%）。接著，對(duì)模具施加振動(dòng)。可推測(cè)：通過該振動(dòng)，在第3層粉末的上表面與第4層粉末的下表面的邊界，形成第3層粉末和第4層粉末混合而成的第3邊界層。

層疊完所有層后，進(jìn)行壓制成形，從而制作屬于本發(fā)明組合物的成形物?？梢詫?duì)成形物進(jìn)一步實(shí)施cip處理。

可以認(rèn)為：通過在填充下一層粉末前不實(shí)施壓制處理以及每次填充各層時(shí)施加振動(dòng)，從而能夠在相鄰的層間形成由上下層粉末混合而成的邊界層。由此能夠提高燒結(jié)體中的相鄰層間的密合性。能夠使加熱處理時(shí)的收縮量或收縮速度在各層中為同等程度，能夠防止加熱處理時(shí)在層間產(chǎn)生剝離或者燒結(jié)體的目標(biāo)形狀發(fā)生扭曲變形。進(jìn)而，能夠緩和相鄰層間的透明性和顏色的差異。由此，對(duì)于燒結(jié)體而言，能夠使透明性和顏色沿著層疊方向自然地發(fā)生變化。

此外，沒必要對(duì)各層分別進(jìn)行壓制處理。由此能夠大幅削減人工和時(shí)間，能夠降低制造成本。

不制作預(yù)燒體時(shí)，通過將組合物以例如1400℃~1600℃、優(yōu)選1450℃~1550℃進(jìn)行燒成，使氧化鋯粉末進(jìn)行燒結(jié)，從而制造本發(fā)明的氧化鋯燒結(jié)體?？梢栽诔尚挝锏碾A段成形為期望的形狀。

制作預(yù)燒體時(shí)，將組合物以例如800℃~1200℃進(jìn)行燒成，從而制作預(yù)燒體。接著，通過將預(yù)燒體以例如1400℃~1650℃、優(yōu)選1450℃~1600℃進(jìn)行燒成，使氧化鋯粉末進(jìn)行燒結(jié)，從而制造本發(fā)明的氧化鋯燒結(jié)體。成形可以在預(yù)燒體的階段中通過切削加工等來實(shí)施，也可以在燒結(jié)后實(shí)施。成形可通過cad/cam系統(tǒng)來實(shí)施。

齒科用制品的制造方法中，除了將預(yù)燒體或燒結(jié)體成形為牙冠形狀等齒科用制品的形狀之外，與燒結(jié)體的上述制造方法是相同的。

應(yīng)予說明，上述實(shí)施方式中示出了基于四層層疊體的組合物、預(yù)燒體和燒結(jié)體，但不限定于四層。此外，圖用于容易地說明各點(diǎn)的位置關(guān)系、方向，形狀、尺寸不限定于圖示的形態(tài)。

實(shí)施例

[實(shí)施例1~25]

制作氧化鋯燒結(jié)體，針對(duì)各試樣測(cè)定色度。實(shí)施例1~25中，制作與圖2示出的第二實(shí)施方式那樣的四層構(gòu)成的氧化鋯燒結(jié)體中的各區(qū)域?qū)?yīng)的氧化鋯燒結(jié)體的試樣，針對(duì)各試樣測(cè)定色度。將試樣組成的相關(guān)數(shù)據(jù)和測(cè)定結(jié)果示于表1~25。“白背景”表示：將涂料的相關(guān)測(cè)定中使用的白色的遮蔽率測(cè)定用紙作為背景（底板）而測(cè)定的色度?！昂诒尘啊北硎荆簩⑼苛系南嚓P(guān)測(cè)定中使用的白色的遮蔽率測(cè)定用紙作為背景（底板）而測(cè)定的色度?！唉膌”是指：在白背景下測(cè)定的l^＊值與在黑背景下測(cè)定的l^＊值之差?！唉膌層間差”是指：相鄰層之間的δl之差。將n層的δl與（n+1）層的δl之差記載于（n+1）層的欄中。“δl整體差”是指：第一區(qū)域的δl與第二區(qū)域的δl之差。表1~25中，對(duì)同一試樣附加同一試樣編號(hào)。

首先，準(zhǔn)備含有5.5mol%或6mol%的氧化釔作為穩(wěn)定劑的部分穩(wěn)定化氧化鋯。向部分穩(wěn)定化氧化鋯中添加表所示出的遮光材料，并進(jìn)行混合。表中示出的遮光材料的添加量是相對(duì)于部分穩(wěn)定化氧化鋯質(zhì)量的遮光材料質(zhì)量。例如，tio2為0.3%表示相對(duì)于100g部分穩(wěn)定化氧化鋯添加0.3gtio2。表所示出的遮光材料中，z300是鋯和釩的復(fù)合氧化物（（zr,v）o2）；日陶顏料工業(yè)株式會(huì)社制造的“z-300黃”）。接著，向直徑約為18mm的圓柱狀模具中投入混合物1.3g，以30kn的壓力進(jìn)行成形后，將170mpa的cip處理實(shí)施1分鐘，從而制作成形組合物。接著，將成形組合物以表中示出的燒成溫度燒成2小時(shí)，從而制作圓板狀的氧化鋯燒結(jié)體。接著，對(duì)燒結(jié)體表面進(jìn)行研磨加工，將表面精加工成鏡面狀（#2000以上），制作厚度為1.2mm的試樣。并且，使用色度測(cè)定機(jī)（konikaminolta公司制造的spectrophotometercm-3610a）和分析軟件（spectramagicnx），測(cè)定各試樣的色度。

各區(qū)域的試樣中使用的部分穩(wěn)定化氧化鋯使用了均勻混合有氧化釔的同一制品，可以認(rèn)為在各區(qū)域的試樣之間檢測(cè)不到氧化釔的含有率的顯著偏差。

實(shí)施例1~25中，基本上使遮光材料的添加量從與第一區(qū)域?qū)?yīng)的試樣向與第二區(qū)域?qū)?yīng)的試樣地增加。其結(jié)果可確認(rèn)：δl從與第一區(qū)域?qū)?yīng)的試樣向與第二區(qū)域?qū)?yīng)的試樣依次減少。由此可確認(rèn)：如果將各層的組合物層疊來制作氧化鋯燒結(jié)體，則能夠制作透明性階段性地發(fā)生變化的氧化鋯燒結(jié)體。即，確認(rèn)到能夠制作具有更自然的透明性變化的齒科用修補(bǔ)物。由于各層的穩(wěn)定劑的含有率是均等的，因此，能夠使各層在燒結(jié)時(shí)的收縮率保持同等。由此，能夠抑制因燒結(jié)而產(chǎn)生的不良情況。

可確認(rèn)：如果制作第二區(qū)域的δl為7.5以下的齒科用修補(bǔ)物，則即使在橋基牙的顏色較深（發(fā)黑）的情況下，第二區(qū)域也不會(huì)透視出橋基牙。因此可知：不想透視出橋基牙時(shí)，如果將覆蓋橋基牙的區(qū)域的δl設(shè)為7.5以下，則能夠得到不易透視出橋基牙的透明性。

層間的δl之差達(dá)到0.01~2的范圍。此外，整體的δl的范圍達(dá)到0.9~4。在這種條件下，從第一區(qū)域朝向第二區(qū)域能夠確認(rèn)到自然牙那樣的透明性變化。

可知：nio和z300是也用作顏料的化合物，還可用作使透明性降低的遮光材料。

[表1]

[表2]

[表3]

[表4]

[表5]

[表6]

[表7]

[表8]

[表9]

[表10]

[表11]

[表12]

[表13]

[表14]

[表15]

[表16]

[表17]

[表18]

[表19]

[表20]

[表21]

[表22]

[表23]

[表24]

[表25]

[實(shí)施例26~31]

制作使遮光材料的種類和含有率發(fā)生變化的試樣，針對(duì)各試樣測(cè)定色度。各試樣的制作方法和色度的測(cè)定方法與實(shí)施例1~25相同。實(shí)施例26~31中，作為遮光材料，使用了鋯石（zrsio4）、氧化鈦（tio2）、氧化鋁（al2o3）和二氧化硅（sio2）。實(shí)施例30~31中，作為遮光材料，使用了氧化鈦（tio2）和表中示出的著色劑。

表26~31中示出試樣的制作條件和測(cè)定結(jié)果。針對(duì)任意遮光材料，通過提高含有率，存在δl減少的傾向。即，存在透明性降低的傾向。由此確認(rèn)到：能夠?qū)⑦@些化合物用作遮光材料。此外可確認(rèn)：通過調(diào)整遮光材料的含有率能夠調(diào)整透明性。

[表26]

[表27]

[表28]

[表29]

[表30]

[表31]

將上述專利文獻(xiàn)的各公開內(nèi)容重復(fù)援引至本說明書中。本發(fā)明的氧化鋯組合物、氧化鋯預(yù)燒體和氧化鋯燒結(jié)體、以及齒科用制品基于上述實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但不限定于上述實(shí)施方式，自不用說可以在本發(fā)明的全部公開內(nèi)容的范圍內(nèi)，且基于本發(fā)明的基本技術(shù)思想，對(duì)于各種公開要素（包括各權(quán)利要求的各要素、各實(shí)施方式和實(shí)施例的各要素、各附圖的各要素等）包括各種變形、變更和改良。此外，在本發(fā)明的全部公開內(nèi)容的范圍內(nèi)，可以進(jìn)行各種公開要素（包括各權(quán)利要求的各要素、各實(shí)施方式和實(shí)施例的各要素、各附圖的各要素等）的多種組合?置換和選擇。

本發(fā)明的其它課題、目的和展開形態(tài)根據(jù)包括權(quán)利要求書在內(nèi)的本發(fā)明的全部公開事項(xiàng)也是不言而喻的。

針對(duì)本說明書中記載的數(shù)值范圍，該范圍內(nèi)包含的任意數(shù)值和小范圍即使沒有特別記載時(shí)也應(yīng)解釋為進(jìn)行了具體記載。

關(guān)于氧化鋯組合物、氧化鋯預(yù)燒體和氧化鋯燒結(jié)體、以及齒科用制品的確定，需要利用除了上述結(jié)構(gòu)或特性之外的結(jié)構(gòu)或特性進(jìn)行確定時(shí)，還可以考慮利用它們的制造方法來進(jìn)行確定。

上述實(shí)施方式的一部分或全部如以下附注那樣地進(jìn)行記載，但不限定于以下的記載。

[附注1]

氧化鋯燒結(jié)體，其是含有4mol%~7mol%的氧化釔作為穩(wěn)定劑的部分穩(wěn)定化氧化鋯的燒結(jié)體，

將基于以白色作為背景而測(cè)定的l^＊a^＊b^＊表色系的色度中的l^＊值記作第一l^＊值，

將基于以黑色作為背景而測(cè)定的l^＊a^＊b^＊表色系的色度中的l^＊值記作第二l^＊值，

將從前述第一l^＊值減去前述第二l^＊值而得到的值記作δl時(shí)，

前述第一區(qū)域中的δl大于前述第二區(qū)域中的δl。

[附注2]

附注所述的氧化鋯燒結(jié)體，其中，前述第一區(qū)域中的δl比前述第二區(qū)域中的δl大0.8以上。

[附注3]

附注所述的氧化鋯燒結(jié)體，其中，前述第二區(qū)域中的δl為7.5以下。

[附注4]

附注所述的氧化鋯燒結(jié)體，其含有遮光材料，

前述第二區(qū)域中的前述遮光材料的含有率大于前述第一區(qū)域中的前述遮光材料的含有率。

[附注5]

附注所述的氧化鋯燒結(jié)體，其中，前述第一區(qū)域中的δl為8~12，

前述第二區(qū)域中的δl為4~11。

[附注6]

附注所述的氧化鋯燒結(jié)體，其中，前述第一區(qū)域中的氧化釔的含有率與前述第二區(qū)域中的氧化釔的含有率之差為1mol%以下。

附圖標(biāo)記說明

100、200、300氧化鋯燒結(jié)體、氧化鋯成形組合物、氧化鋯預(yù)燒體

101第一區(qū)域

102第二區(qū)域

103第三區(qū)域

104第四區(qū)域

201齒科用修補(bǔ)物

202橋基牙

203牙床