本發(fā)明涉及日用陶瓷生產(chǎn)設備。

背景技術：
在以往的日用陶瓷生產(chǎn)中，各陶瓷廠家因原材料性能的差異或是各種產(chǎn)品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工藝方法進行施釉，手工浸釉生產(chǎn)效率低，同時由于在施釉過程中手指接觸坯體，使坯體在施釉后留下手指印，影響坯體的施釉質量。另外，由于釉水中加有多種化工材料，這些化工材料對人體有腐蝕作用，長期手工浸釉對人體有危害。為了提高生產(chǎn)效率，提高產(chǎn)品質量，改善工人生產(chǎn)環(huán)境，降低成本等，技術人員在日用陶瓷的生產(chǎn)技術及生產(chǎn)設備上進行著不斷的改進。在已有的陶瓷生產(chǎn)技術中，針對陶瓷上釉工序的技術文獻有：1、專利文獻【公開號：CN202373397U】公開了一種“盤形懸式瓷絕緣子瓷泥坯件頭部上釉裝置”，該裝置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋轉工位平臺、為瓷泥坯件的外周表面布釉的頭部外周表面浸釉裝置、為瓷泥坯件的內表面布釉的頭部內孔注釉裝置，以及電氣控制柜。該裝置通過將瓷泥坯件“∩”形頭部的倒置安放在旋轉平臺工位上并借助電氣控制旋轉360°進程中經(jīng)二次延時停頓過程以實現(xiàn)了按步驟連續(xù)完成瓷泥坯件頭部外周表面的上釉工序。該裝置自動化程度高，但結構復雜，成本高，并且只能實現(xiàn)對坯件某一局部的上釉而已。2、專利文獻【公開號：CN1090834】公開了一種“陶瓷制品的局部表面上釉”，該發(fā)明是通過將熔化輻射能施加到所述上釉位置周圍的制品表面上的熔融區(qū)域從而延緩所述熔融區(qū)域的冷卻以把接近所述熔融區(qū)域的所述制品中產(chǎn)生的熱應力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的斷裂應力來實現(xiàn)局部表面上釉。該發(fā)明主要用于修補釉彩缺陷及用作裝飾，這種方式的上釉能量消耗巨大，不適用大批量生產(chǎn)制造過程。3、專利文獻【公開號：CN202246453U】公開了“一種上釉裝置”，該裝置主要由加釉罐、穩(wěn)壓罐、打釉泵三個部分組成。先將釉料添加至加釉罐，通過打釉泵將釉料送入穩(wěn)壓罐中，再通過出料閥將釉料涂施在膠輥表面以實現(xiàn)上釉過程。該裝置可實現(xiàn)較均勻的上釉過程，這種工藝過程過于繁瑣，生產(chǎn)效率低，其上釉層厚度也受膠輥磨損純度而變化，導致其上釉質量不穩(wěn)定。4、專利文獻【公開號：CN202422887U】公開了一種“線路柱式絕緣子上釉裝置”，該裝置包括支撐架、電機和固定坯體的卡盤，電機固定在支撐架上；電機、卡盤和胚體同軸轉動。該裝置可用于電瓷絕緣子生產(chǎn)過程的上釉工序，其卡盤式固定方式增加了胚體與上釉裝置的接觸面積，使得一次上釉的面積減少，影響生產(chǎn)效率。5、專利文獻【公開號：CN1223926】公開了一種“特別用于瓷磚的旋轉上釉機”，該裝置具有兩個并排靠近設置的滾筒,釉料可推積在其上,第一滾筒的磚片的上表面上作不受阻滯的接觸滾動,從而將釉料轉移到磚片上,而第二滾筒的旋轉方向與第一滾筒相反。該裝置適用于瓷磚的上釉工序，但其對釉水的流變學動力參數(shù)要求非常嚴格，若釉水改變或釉水成分不夠均勻即容易造成上釉層的厚度不一致，直接影響成品率。6、專利文獻【公開號為CN203187583U】名稱為“日用陶瓷自動上釉裝置”的實用裝置專利中，儲釉筒壁上設有吸釉孔，以便儲釉筒內吸入釉水作為碗底上釉用，在生產(chǎn)過程發(fā)現(xiàn)，吸盤機構吸住碗坯往釉池擺動上釉過程中，碗底部接觸釉水的時間比碗表面接觸釉水的時間相對長一些，對于一些吸水性很強的坯體用這種方法上釉，碗底部的釉層厚度明顯比碗表面的厚度大，坯體上釉不合格。綜上所述，現(xiàn)有的現(xiàn)有上釉裝置主要存在效率不高、上釉質量差、結構復雜、工人勞動強度過大、自動化程度不足等缺陷。

技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于提供一種日用陶瓷自動上釉機，能夠快速、可靠、安全的完成碗坯上釉過程，最大限度縮短日用陶瓷生產(chǎn)時間，同時克服現(xiàn)有的淋釉設備操作員工數(shù)量多、上釉過程存在死角的缺陷，提供了結構簡單、操作便利的自動上釉機。本發(fā)明日用陶瓷自動上釉機的機架底板固定于地面上，在所述機架底板的一側安裝有機架立柱和撐桿，另一側則連接釉池，機架立柱上端和機架底板之間固定導柱，導柱與升降機構連接，升降機構上又安裝了浸釉機構。升降機構包括升降電機、升降減速機、齒輪、齒條、撐桿和齒輪連軸以及導套，所述升降電機和升降減速機安裝于機架立柱一側，并且升降電機與升降減速機輸入軸端連接，升降減速機輸出軸端固結齒輪連軸，齒輪連軸上安裝齒輪，齒條與齒輪嚙合，齒條固定在導套一側，導套沿著導柱滑動。所述浸釉機構包括轉軸電機、轉動減速機、轉動軸、轉桿和橫梁，所述轉軸電機和轉動減速機安裝于導套的一側，轉軸電機與轉動減速機連接，并且通過轉動減速機驅動轉動軸旋轉，轉動軸使轉桿轉動，橫梁連帶真空吸盤轉動到指定的位置。本發(fā)明的顯著效果在于：1、本發(fā)明裝置結構簡單、緊湊，零部件標準件多，維護成本低，控制方便。2、傳動部分分布在裝置的一側，另一側為操作留下足夠的空間，同時待施釉的碗坯通過真空吸盤夾持，因此能適應各種口徑的碗坯。3、上釉時，碗坯充分浸入釉池釉水中，同時真空吸盤與碗坯接觸面積小，從而可以實現(xiàn)碗坯均勻、無死角上釉，上釉效果好。4、整個上釉過程為全自動化，不需要人員參與，生產(chǎn)效率高。附圖說明圖1為本發(fā)明的結構示意圖。其中：1-側板;2-升降電機;3-升降減速機；4-機架立柱；5-導柱；6-轉軸電機;7-轉動減速機；8-碗坯；9-釉池；10-機架底板；11-真空吸盤；12-齒輪；13-齒條；14-撐桿;15-齒輪連軸;16-轉動軸；17-轉桿;18-橫梁；19-導套。圖2為本裝置左視圖。其中A為導套升降方向標識，B為施釉動作方向標識。圖3為C處為升降機構放大示意圖。圖4為D處為浸釉機構放大示意圖。具體實施方式如圖1-4所示，裝置啟動后升降電機2動作，并且驅動升降減速機3的輸出軸旋轉，升降減速機3連接齒輪連軸15，故安裝于齒輪連軸15上的齒輪12轉動，齒輪12與齒條13嚙合，齒條13固結于導套19的一側，齒條13連同導套19及導套19一側安裝的構件沿著導柱5向上滑動，當導套19到達指定高度時升降電機2停止動作，隨后轉軸電機6動作，在轉軸電機6的作用下轉動減速機7驅動轉動軸16旋轉，轉桿17安裝在轉動軸16的一側，故轉動軸16連同轉桿17、橫梁18和真空吸盤11轉動到水平位置，用于施釉的輔助設備將碗坯8放置到真空吸盤11處，真空吸盤11吸住待施釉的碗坯8從而碗坯8在轉桿17轉動時不從高空摔落，至此完成施釉工藝的上料過程。待本施釉裝置完成上料過程后，轉軸電機6再次動作，轉動減速機7使轉動軸16向與之前相反的方向旋轉，待真空吸盤11及待施釉的碗坯8轉動到指定角度（不一定是九十度，可以根據(jù)釉池9和釉水面的高度確定）之后停止，隨后升降電機2再次通過升降減速機3和齒輪12驅動齒條13及導套19和與導套19連接的浸釉機構向下運動，待導套19下降到指定高度后停止，此時待施釉的碗坯8浸入釉水當中完成施釉。施釉動作完成后，升降電機2驅動齒輪12和齒條13、導套19及其后的構件向上運動，完成施釉的碗坯8向上運動到指定位置后停止，轉軸電機6啟動后使碗坯8向下轉動至水平位置，隨后施釉的輔助設備將碗坯8取下運送至下一個工藝位置，至此本裝置完成了整個施釉工藝的動作過程。在碗坯8浸入釉池9當中后，碗坯8需要在釉水中停留規(guī)定的時間，目的是為了使釉水有充足的時間滲透入碗坯8的表層至一定的深度，在碗坯8向上運動之前不應該急于啟動轉軸電機6，因為碗坯8過早的轉至水平位置會增加在碗坯8底部釉水的殘留量，通常情況下碗坯8底部是釉水積聚的地方，會造成釉水在碗坯8表面分布不均勻，最終影響碗坯8的外觀和品質。在使用本裝置進行施釉的過程中做了數(shù)據(jù)的統(tǒng)計，經(jīng)歸納整理后得出下表的結論：名稱效率成品率成本勞動強度傳統(tǒng)手工施釉90~110個/小時90%~92%0.2~0.3元/個高本發(fā)明施釉350~720個/小時96%~98.4%0.05~0.1元/個低表1傳統(tǒng)手工施釉與使用本發(fā)明施釉技術效果對比表從表1可以明顯看出，使用本發(fā)明技術所提供的自動施釉系統(tǒng)能夠實現(xiàn)快捷及低成本的對毛坯進行施釉過程，且施釉過程質量平穩(wěn)，成品率高。