專利名稱：一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種處理陽(yáng)極泥的設(shè)備，尤其涉及一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放
>J-U ρ α裝直。
背景技術(shù)：
目前，處理陽(yáng)極泥的目的是為了回收陽(yáng)極泥中的硫磺和有價(jià)金屬，漿化槽作為重要的設(shè)備應(yīng)用在陽(yáng)極泥處理設(shè)備中?，F(xiàn)有漿化槽處理過(guò)程是將陽(yáng)極泥進(jìn)行洗滌、篩分和沉淀分離等許多工序，使硫磺和含有有價(jià)金屬的物質(zhì)分離，再將分離后的物質(zhì)分別進(jìn)行處理回收。然而，現(xiàn)有技術(shù)中的處理方法中存在一些問(wèn)題，如過(guò)程中產(chǎn)生的廢氣無(wú)法排除，造成槽內(nèi)的氣壓過(guò)大，從而影響工作效率，而且硫磺和硫化物的分離效果也差?！?br>
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是為了解決漿化槽內(nèi)廢氣無(wú)法及時(shí)排除，造成槽內(nèi)氣壓過(guò)大，影響工作效率的技術(shù)問(wèn)題，提供了一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，成本低，適用性廣。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型可以采取以下技術(shù)方案一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其包括漿化槽，所述漿化槽包括槽體和攪拌裝置，所述攪拌裝置包括攪拌軸，所述攪拌軸設(shè)于所述槽體空腔內(nèi)，其特征在于，還包括安裝于槽體上端的槽蓋，所述槽蓋上開(kāi)設(shè)有環(huán)保排氣口，用于排放廢氣。優(yōu)選的，所述環(huán)保排氣口的頂端與所述槽蓋的間距是15(T250mm。優(yōu)選的，所述槽蓋上還開(kāi)設(shè)加料口，所述加料口與所述環(huán)保排氣口相對(duì)設(shè)置。優(yōu)選的，所述槽體空腔壁的底端還設(shè)有至少二個(gè)出液口，所述出液口相對(duì)設(shè)置。優(yōu)選的，所述出液口的中心與槽體底部的間距是10(Tl50mm。優(yōu)選的，所述加料口、出液口與所述環(huán)保排氣口在同一直線上。優(yōu)選的，所述槽體的空腔壁上還設(shè)有加強(qiáng)筋，所述加強(qiáng)筋高于所述出液口。優(yōu)選的，所述槽體上端還設(shè)有固定裝置，所述固定裝置包括水平的固定架和與所述固定架螺栓連接的支撐架，所述支撐架的另一端固定連接在槽體壁上。優(yōu)選的，所述固定架的位置高度高于所述排氣口的位置高度，所述支撐架的另一端的位置高度低于所述排氣口的位置高度。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型克服了漿化槽內(nèi)廢氣無(wú)法及時(shí)排除，造成槽內(nèi)氣壓過(guò)大等問(wèn)題，在槽蓋上開(kāi)設(shè)一個(gè)環(huán)保排氣口，用于排放廢氣，保持槽內(nèi)的氣壓平衡。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，成本低，功耗低，分離效果也能較大的提高，適用性廣。

圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的俯視圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。參照?qǐng)DI、圖2所示，其包括漿化槽，所述漿化槽包括槽體I和攪拌裝置，所述攪拌裝置包括攪拌軸2，所述攪拌軸2設(shè)于所述槽體I空腔內(nèi)，還包括安裝于槽體I上端的槽蓋3，所述槽蓋3上開(kāi)設(shè)有環(huán)保排氣口 a，用于排放廢氣，所述環(huán)保排氣口 a的頂端與所述槽蓋3的間距是15(T250mm ;所述槽蓋 3上還開(kāi)設(shè)加料口 b，所述加料口 b與所述環(huán)保排氣口 a相對(duì)設(shè)置；所述槽體I空腔壁的底端還設(shè)有至少二個(gè)出液口 C，所述出液口 c相對(duì)設(shè)置，所述出液口 c的中心與槽體I底部的間距是10(Tl50mm，所述加料口 b、出液口 c與所述環(huán)保排氣口 a在同一直線上，所述槽體I的空腔壁上還設(shè)有加強(qiáng)筋4，所述加強(qiáng)筋4高于所述出液口 c，所述槽體I上端還設(shè)有固定裝置，所述固定裝置包括水平的固定架5和與所述固定架5螺栓連接的支撐架6，所述支撐架6的另一端固定連接在槽體I壁上，且所述固定架5的位置高度高于所述排氣口 a的位置高度，所述支撐架6的另一端的位置高度低于所述排氣口 a的位置高度。繼續(xù)參照?qǐng)DI、圖2所示，在處理陽(yáng)極泥的漿化槽中，待分離的液體經(jīng)加料口 b進(jìn)入槽體I空腔內(nèi)，待分離的液體經(jīng)漿化槽的處理后得到廢氣和分離后的硫磺及處理渣，廢氣經(jīng)環(huán)保排氣口 a排出，分離后的液體包括硫磺從出液口 c排出，這樣達(dá)到分離陽(yáng)極泥的效果，廢氣的及時(shí)排出，也保證了工序過(guò)程中設(shè)備的穩(wěn)定性。上述實(shí)施方式只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此領(lǐng)域技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或潤(rùn)飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其包括漿化槽，所述漿化槽包括槽體和攪拌裝置，所述攪拌裝置包括攪拌軸，所述攪拌軸設(shè)于所述槽體空腔內(nèi)，其特征在于，還包括安裝于槽體上端的槽蓋，所述槽蓋上開(kāi)設(shè)有環(huán)保排氣口，用于排放廢氣。
2.如權(quán)利要求I所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述環(huán)保排氣口的頂端與所述槽蓋的間距是15(T250mm。
3.如權(quán)利要求I所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述槽蓋上還開(kāi)設(shè)加料口，所述加料口與所述環(huán)保排氣口相對(duì)設(shè)置。
4.如權(quán)利要求3所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述槽體空腔壁的底端還設(shè)有至少二個(gè)出液口，所述出液口相對(duì)設(shè)置。
5.如權(quán)利要求4所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述出液口的中心與槽體底部的間距是10(Tl50mm。
6.如權(quán)利要求4或5所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述加料口、出液口與所述環(huán)保排氣口在同一直線上。
7.如權(quán)利要求4所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述槽體的空腔壁上還設(shè)有加強(qiáng)筋，所述加強(qiáng)筋高于所述出液口。
8.如權(quán)利要求I所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述槽體上端還設(shè)有固定裝置，所述固定裝置包括水平的固定架和與所述固定架螺栓連接的支撐架，所述支撐架的另一端固定連接在槽體壁上。
9.如權(quán)利要求8所述的一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其特征在于，所述固定架的位置高度高于所述排氣口的位置高度，所述支撐架的另一端的位置高度低于所述排氣口的位置高度。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種處理陽(yáng)極泥的設(shè)備，尤其涉及一種處理陽(yáng)極泥漿化槽的排放裝置，其包括漿化槽，所述漿化槽包括槽體和攪拌裝置，所述攪拌裝置包括攪拌軸，所述攪拌軸設(shè)于所述槽體空腔內(nèi)，其特征在于，還包括安裝于槽體上端的槽蓋，所述槽蓋上開(kāi)設(shè)有環(huán)保排氣口，用于排放廢氣。本實(shí)用新型的環(huán)保排氣口的設(shè)置，便于漿化槽內(nèi)廢氣的排出，而且結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，成本低，適用性廣。
文檔編號(hào)C01B17/027GK202671625SQ20122021150
公開(kāi)日2013年1月16日 申請(qǐng)日期2012年5月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月11日
發(fā)明者范祥榮 申請(qǐng)人:蘇州市金翔鈦設(shè)備有限公司