專利名稱：多晶硅還原爐噴嘴的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種多晶硅還原爐噴嘴，適用于多晶硅行業(yè)還原爐進料。
背景技術：
目前，多晶硅行業(yè)還原爐因進料不均勻、不穩(wěn)定，易出現(xiàn)倒棒、硅粉沉積不平衡等現(xiàn)象，給企業(yè)造成不小的經(jīng)濟損失。因此，進料口的改進勢在必行。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種新型還原爐進料噴嘴裝置。本實用新型包括、噴頭、 外套筒、爐底盤、螺旋式進氣口與噴嘴絲口。爐底盤上焊接噴嘴底坐，噴嘴與噴嘴底坐螺絲連接，噴頭置于外套筒中間上端，螺旋式進氣口與噴嘴絲口沿外套筒螺旋式設置。本實用新型的有益效果是保證了噴出混合氣的流量、氣流速度，合理分布爐內(nèi)混合氣，增強混合氣的攏動，降低夾層之間的溫度，提高沉積速度，使多晶硅產(chǎn)品外觀平整，噴嘴可拆卸，維修方便，可根據(jù)工藝需要進行調(diào)整。

附圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)縱向剖面示意圖；圖中1、噴頭，2、外套筒，3、爐底盤，4、螺旋式進氣口與噴嘴絲口。
具體實施方式
多晶硅還原爐噴嘴由噴頭、外套筒、爐底盤、螺旋式進氣口與噴嘴絲口組成。爐底盤上焊接噴嘴底坐，噴嘴與噴嘴底坐螺絲連接，噴頭置于外套筒中間上端，螺旋式進氣口與噴嘴絲口沿外套筒螺旋式設置。進氣管、外套筒和噴頭形成的口徑遞減式的氣流通道，使工作氣體能達到指定的高度，螺旋式進氣口與噴嘴絲口的設置，使得氣體流速降低，既保證了硅棒下端的氣流更新又不會對硅棒下端造成沖擊，提高了多晶硅的生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
權(quán)利要求1. 一種多晶硅還原爐噴嘴，其特征在于所述噴嘴由噴頭、外套筒、爐底盤、螺旋式進氣口與噴嘴絲口組成；爐底盤上焊接噴嘴底坐，噴嘴與噴嘴底坐螺絲連接，噴頭置于外套筒中間上端，螺旋式進氣口與噴嘴絲口沿外套筒螺旋式設置。
專利摘要一種多晶硅還原爐噴嘴由噴頭、外套筒、爐底盤、螺旋式進氣口與噴嘴絲口組成。爐底盤上焊接噴嘴底坐，噴嘴與噴嘴底坐螺絲連接，噴頭置于外套筒中間上端，螺旋式進氣口與噴嘴絲口沿外套筒螺旋式設置。該噴嘴保證了噴出混合氣的流量、氣流速度，合理分布爐內(nèi)混合氣，增強混合氣的攏動，降低夾層之間的溫度，提高沉積速度。
文檔編號C01B33/021GK202246083SQ20112036863
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者陶剛義 申請人:江西晶大半導體材料有限公司