一種真空鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】一種真空鍍膜裝置，包括殼體，所述殼體內(nèi)的頂部設(shè)有中心軸，所述中心軸下方設(shè)有工件放置架，所述工件放置架包括四塊放置板，所述放置板呈圓周布置在中心軸上，所述放置板上設(shè)有若干放置槽，所述放置槽兩側(cè)分別設(shè)有滑移槽，所述滑移槽內(nèi)設(shè)有滑移板，所述滑移槽與滑移板活動連接；所述殼體內(nèi)還設(shè)有四塊隔板，所述隔板在殼體內(nèi)呈圓周布置，且與放置板呈交錯設(shè)置。本實(shí)用新型的有益效果是結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，使用方便，當(dāng)將工件放入放置槽內(nèi)，根據(jù)尺寸的大小調(diào)節(jié)放置槽底部的滑移板的位置，這樣可以適用不同尺寸的工件，節(jié)約資源；蒸發(fā)源內(nèi)可以放置不同的材料，這樣就可以實(shí)現(xiàn)同時鍍膜，隔板避免了蒸發(fā)源的相互污染。
【專利說明】
一種真空鍍膜裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種真空鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料最為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領(lǐng)域。
[0003]在現(xiàn)有技術(shù)中，往往將材料高溫加熱，然后冷卻到基片形成薄膜，在鍍膜過程中，由于材料會形成氣體，由于真空腔體內(nèi)存在多個蒸發(fā)源，當(dāng)使用其中一個蒸發(fā)源時，會對其他的蒸發(fā)源造成污染，影響鍍膜的質(zhì)量;此外，還會出現(xiàn)不同大小的工件需要不同的工件放置架，造成較大的資源浪費(fèi)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的在于提供一種真空鍍膜裝置，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0006]—種真空鍍膜裝置，包括殼體，所述殼體內(nèi)的頂部設(shè)有中心軸，所述中心軸下方設(shè)有工件放置架，所述工件放置架包括四塊放置板，所述放置板呈圓周布置在中心軸上，所述放置板上設(shè)有若干放置槽，所述放置槽兩側(cè)分別設(shè)有滑移槽，所述滑移槽內(nèi)設(shè)有滑移板，所述滑移槽與滑移板活動連接;所述殼體內(nèi)還設(shè)有四塊隔板，所述隔板在殼體內(nèi)呈圓周布置，且與放置板呈交錯設(shè)置。
[0007]作為本實(shí)用新型進(jìn)一步的方案:所述隔板將殼體分為四個區(qū)域，每個區(qū)域的底部均放置有蒸發(fā)源。
[0008]作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的方案:所述放置板和隔板均呈十字形。
[0009]作為本實(shí)用新型再進(jìn)一步的方案:所述殼體的上部設(shè)有氣管，所述氣管與外部的真空栗相連接。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果是結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，使用方便，當(dāng)將工件放入放置槽內(nèi)，根據(jù)尺寸的大小調(diào)節(jié)放置槽底部的滑移板的位置，這樣可以適用不同尺寸的工件，節(jié)約資源;蒸發(fā)源內(nèi)可以放置不同的材料，這樣就可以實(shí)現(xiàn)同時鍍膜，隔板避免了蒸發(fā)源的相互污染。
【附圖說明】[ΟΟ??]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0012]圖2為本實(shí)用新型圖1中的A-A向視圖；
[0013]圖3為本實(shí)用新型圖2中的B處放大圖。
[0014]圖中:1-殼體、2-中心軸、3-放置板、4-氣管、5-真空栗、6-隔板、7-蒸發(fā)源、31-放置槽、32-滑移槽、33-滑移板。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0016]請參閱圖1、圖2和圖3，本實(shí)用新型實(shí)施例中，一種真空鍍膜裝置，包括殼體I，所述殼體I內(nèi)的頂部設(shè)有中心軸2，所述中心軸2下方設(shè)有工件放置架，所述工件放置架包括四塊放置板3，所述放置板3呈圓周布置在中心軸2上，所述放置板3上設(shè)有若干放置槽31，所述放置槽31兩側(cè)分別設(shè)有滑移槽32，所述滑移槽32內(nèi)設(shè)有滑移板33，所述滑移槽32與滑移板33活動連接，具體使用時，將工件放入放置槽31內(nèi)，根據(jù)尺寸的大小調(diào)節(jié)放置槽31底部的滑移板33的位置，這樣可以適用不同尺寸的工件，節(jié)約資源。
[0017]所述殼體I內(nèi)還設(shè)有四塊隔板6，所述隔板6在殼體I內(nèi)呈圓周布置，且與放置板3呈交錯設(shè)置，所述隔板6將殼體I分為四個區(qū)域，每個區(qū)域的底部均放置有蒸發(fā)源7，蒸發(fā)源7內(nèi)可以放置不同的材料，這樣就可以實(shí)現(xiàn)同時鍍膜，隔板6避免了蒸發(fā)源7的相互污染。
[0018]所述放置板3和隔板6均呈十字形。
[0019]所述殼體I的上部設(shè)有氣管4，所述氣管4與外部的真空栗5相連接。
[0020]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此，無論從哪一點(diǎn)來看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0021]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個實(shí)施方式僅包含一個獨(dú)立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空鍍膜裝置，包括殼體，其特征在于，所述殼體內(nèi)的頂部設(shè)有中心軸，所述中心軸下方設(shè)有工件放置架，所述工件放置架包括四塊放置板，所述放置板呈圓周布置在中心軸上，所述放置板上設(shè)有若干放置槽，所述放置槽兩側(cè)分別設(shè)有滑移槽，所述滑移槽內(nèi)設(shè)有滑移板，所述滑移槽與滑移板活動連接;所述殼體內(nèi)還設(shè)有四塊隔板，所述隔板在殼體內(nèi)呈圓周布置，且與放置板呈交錯設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于，所述隔板將殼體分為四個區(qū)域，每個區(qū)域的底部均放置有蒸發(fā)源。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于，所述放置板和隔板均呈十字形。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于，所述殼體的上部設(shè)有氣管，所述氣管與外部的真空栗相連接。
【文檔編號】C23C14/24GK205501400SQ201620047367
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年1月19日
【發(fā)明人】劉玉杰
【申請人】天津涂冠科技有限公司