一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及化合物蒸發(fā)鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體的說涉及一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有化合物蒸發(fā)鍍膜設(shè)備大都采用電阻絲加熱，由于電阻絲本身具有熱慣性大且升降溫速率慢的特性，使得其溫度上限很低，限制了化合物蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的使用范圍，并且電阻絲具有溫度反應(yīng)敏度低、纏繞復(fù)雜等問題，要占用化合物蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的大量真空腔空間，而且現(xiàn)有化合物蒸發(fā)鍍膜設(shè)備加熱區(qū)區(qū)間位置固定，對(duì)不同化合物的加熱需要不同的加熱溫度，而加熱設(shè)備區(qū)間位置固定對(duì)不同化合物加熱會(huì)造成加熱效果差，且增大了能耗。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其結(jié)構(gòu)獨(dú)特簡(jiǎn)單，快速升降溫度，而且加熱部件區(qū)間距離可調(diào)，加熱效果好。
[0004]為了解決【背景技術(shù)】所存在的問題，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，所述的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)包括有腔體，所述的腔體的上端、下端分別連接有上蓋法蘭、底座法蘭，所述的上蓋法蘭、底座法蘭的圓周內(nèi)側(cè)開設(shè)有多個(gè)相鄰兩兩相互等距的圓孔，底座法蘭的上端面固定有下加熱區(qū)機(jī)構(gòu)，底座法蘭上開設(shè)有多個(gè)連接圓孔，連接圓孔上連接著真空電極組件，上蓋法蘭的上端面中部設(shè)有承接件，所述的承接件的一側(cè)設(shè)有排氣閥，所述的承接件通過升降調(diào)節(jié)旋鈕與上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)的光軸連接，上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)固定在上蓋法蘭的下端，所述的腔體的側(cè)面上開設(shè)有槽孔，槽孔上固定有透視組件，所述的透視組件上設(shè)有透明玻璃，所述的透視組件與透明玻璃之間固定連接有O型圈。
[0006]所述的真空電極組件包括雙芯真空電極、中心支架、法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極的上端、下端分別連接有法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極上部連接有中心支架，中心支架固定在雙芯真空電極上端的法蘭卡箍。
[0007]本實(shí)用新型有益效果:本實(shí)用新型其結(jié)構(gòu)獨(dú)特簡(jiǎn)單，快速升降溫度，而且加熱部件區(qū)間距離可調(diào)，加熱效果好，部件占用空間范圍小，能夠降低能耗。
【附圖說明】
[0008]圖1為實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；
[0009]圖2為本實(shí)用新型部分平面示意圖；
[0010]圖3為本實(shí)用新型立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖4為本實(shí)用新型部分結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，包括有腔體1，所述的腔體I的上端、下端分別連接有上蓋法蘭2、底座法蘭3，所述的上蓋法蘭2、底座法蘭3的圓周內(nèi)側(cè)開設(shè)有多個(gè)相鄰兩兩相互等距的圓孔4，底座法蘭3的上端面固定有下加熱區(qū)機(jī)構(gòu)5，底座法蘭3上開設(shè)有多個(gè)連接圓孔6，連接圓孔6上連接著真空電極組件7，上蓋法蘭2的上端面中部設(shè)有承接件8，所述的承接件8的一側(cè)設(shè)有排氣閥9，所述的承接件8通過升降調(diào)節(jié)旋鈕10與上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)11的光軸12連接，上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)11固定在上蓋法蘭2的下端，所述的腔體I的側(cè)面上開設(shè)有槽孔13，槽孔13上固定有透視組件14，所述的透視組件14上設(shè)有透明玻璃15，所述的透視組件14與透明玻璃15之間固定連接有O型圈16。
[0013]所述的真空電極組件7包括雙芯真空電極71、中心支架72、法蘭卡箍73，所述的雙芯真空電極71的上端、下端分別連接有法蘭卡箍73，所述的雙芯真空電極71上部連接有中心支架72，中心支架72固定在雙芯真空電極71上端的法蘭卡箍73內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于:包括有腔體，所述的腔體的上端、下端分別連接有上蓋法蘭、底座法蘭，所述的上蓋法蘭、底座法蘭的圓周內(nèi)側(cè)開設(shè)有多個(gè)相鄰兩兩相互等距的圓孔，底座法蘭的上端面固定有下加熱區(qū)機(jī)構(gòu)，底座法蘭上開設(shè)有多個(gè)連接圓孔，連接圓孔上連接著真空電極組件，上蓋法蘭的上端面中部設(shè)有承接件，所述的承接件的一側(cè)設(shè)有排氣閥，所述的承接件通過升降調(diào)節(jié)旋鈕與上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)的光軸連接，上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)固定在上蓋法蘭的下端，所述的腔體的側(cè)面上開設(shè)有槽孔，槽孔上固定有透視組件，所述的透視組件上設(shè)有透明玻璃，所述的透視組件與透明玻璃之間固定連接有O型圈。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于:所述的真空電極組件包括雙芯真空電極、中心支架、法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極的上端、下端分別連接有法蘭卡箍，所述的雙芯真空電極上部連接有中心支架，中心支架固定在雙芯真空電極上端的法蘭卡箍。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種可調(diào)化合物蒸發(fā)鍍膜紅外真空裝置的加熱蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，包括有腔體，所述的腔體的上端、下端分別連接有上蓋法蘭、底座法蘭，底座法蘭的上端面固定有下加熱區(qū)機(jī)構(gòu)，底座法蘭上開設(shè)有多個(gè)連接圓孔，連接圓孔上連接著真空電極組件，上蓋法蘭的上端面中部設(shè)有承接件，承接件的一側(cè)設(shè)有排氣閥，承接件通過升降調(diào)節(jié)旋鈕與上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)的光軸連接，上加熱區(qū)機(jī)構(gòu)固定在上蓋法蘭的下端，腔體的側(cè)面上開設(shè)有槽孔，槽孔上固定有透視組件，透視組件上設(shè)有透明玻璃，透視組件與透明玻璃之間固定連接有O型圈；本實(shí)用新型其結(jié)構(gòu)獨(dú)特簡(jiǎn)單，快速升降溫度，而且加熱部件區(qū)間距離可調(diào)，加熱效果好，部件占用空間范圍小，能夠降低能耗。
【IPC分類】C23C14-28
【公開號(hào)】CN204608148
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520109463
【發(fā)明人】孔令杰, 吳克松, 丁玉林
【申請(qǐng)人】安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司
【公開日】2015年9月2日
【申請(qǐng)日】2015年2月13日