鑄嘴裝置的制造方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及鑄造領(lǐng)域，特別涉及一種鑄軋機(jī)鑄嘴裝置。
【【背景技術(shù)】】
[0002]鑄嘴裝置在鑄軋生產(chǎn)中起到供流、分流的作用，為鑄軋?zhí)峁┚鶆虻牧鲌?、溫度場。相關(guān)技術(shù)中，公開號為CN103551534A中國專利公開了一種“鑄軋機(jī)鑄嘴”，其采用三角形狀的分流塊進(jìn)行分流，分流塊之間的距離由中間向兩端逐漸增加。其不足在于:鑄軋機(jī)鑄嘴采用一級布流方式且分流塊邊部為直線(分流塊上部的橫截面為三角形，下部為矩形)，易產(chǎn)生紊流，導(dǎo)致鑄軋板組織缺陷。
[0003]因此，實(shí)有必要提供一種新的鑄嘴裝置解決上述技術(shù)問題。
【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0004]本發(fā)明需解決的技術(shù)問題是克服技術(shù)背景的不足，提供一種使用時(shí)，通過鑄嘴裝置的金屬熔體紊流小、鑄軋板組織缺陷小的鑄嘴裝置。
[0005]本發(fā)明的目的是提供一種新型的鑄嘴裝置，通過對鑄嘴裝置內(nèi)部的分流塊的改進(jìn)，從而提高鑄嘴裝置內(nèi)熔體分布的均勻性，改善鑄軋成品的質(zhì)量。
[0006]一種鑄嘴裝置，包括:相對設(shè)置的兩塊上下板，連接兩塊上下板側(cè)部的邊部擋板，以及連接兩塊上下板、兩塊邊部擋板的底板，底板中部設(shè)置熔體入口，熔體入口相對一側(cè)為熔體出口，其中，所述鑄嘴裝置還包括夾設(shè)在兩塊上下板之間的一級分流單元和二級分流單元；所述一級分流單元到所述底板的距離大于所述二級分流單元到所述底板的距離；所述一級分流單元包括若干截面形狀為矩形的且相互間隔設(shè)置的一級分流塊，所述二級分流單元包括若干截面形狀為半圓形的且相互間隔設(shè)置的二級分流塊，相鄰的一級分流塊之間設(shè)有一級間隔，每個一級間隔正對一個二級分級塊設(shè)置。
[0007]優(yōu)選的，所述一級分流塊的數(shù)量為> 5的奇數(shù)，位于中間的一級分流塊正對熔體入口，其長度為熔體入口寬度的1.5-3.5倍。
[0008]優(yōu)選的，位于中間的一級分流塊的長度為熔體入口寬度的2.5倍。
[0009]優(yōu)選的，相鄰所述一級間隔的寬度由中間向兩端逐漸增大，所述一級分流塊的長度由中間向兩端逐漸減少。
[0010]優(yōu)選的，所述二級分流塊的數(shù)量為> 5的奇數(shù)，位于中間的二級分流塊正對熔體入口，相鄰所述二級分流塊的距離相等。
[0011]優(yōu)選的，所述一級分流單元到所述底板的距離為35-55_，一級分流單元中，位于中間的一級分流塊的長度為265mm，以中間的分流塊中心軸為對稱軸，其兩側(cè)的一級分流塊關(guān)于該對稱軸對稱分布；所述一級分流塊由所述熔體入口向任一邊部擋板的方向依次設(shè)為第η個,η = I, 2, 3...;第η個一級分流塊長度設(shè)為Ln, Ln = [122.5+5 (n_l) ]mm。所述一級間隔由所述熔體入口向任一邊部擋板的方向依次設(shè)為第X個，X = 1，2，3…；第1個一級間隔的寬度設(shè)為 Wn，Wn= [16+5(n-l)]mm。
[0012]優(yōu)選的，所述二級分流塊的半徑值為110mm，相鄰所述二級分流塊的距離為30mm。
[0013]優(yōu)選的，所述一級分流單元與二級分流單元的距離為35-55_。
[0014]與相關(guān)技術(shù)相比，本發(fā)明鑄嘴裝置通過改變鑄嘴分流流道尺寸、采用二級分流、通過改變分流塊的形狀和布置，提高鋁金屬液在鑄嘴裝置內(nèi)的均勻性，減少局部冷點(diǎn)，消除因鑄嘴內(nèi)腔結(jié)渣導(dǎo)致的鑄軋成品組織缺陷。
【【附圖說明】】
[0015]圖1為本發(fā)明鑄嘴裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖2為圖1中沿A-A線的剖視圖。
[0017]圖中:熔體入口 I，熔體出口 2，上下板3，邊部擋板4，底板5，一級分流單元6，二級分流單元7，一級分流塊61，二級分流塊71。
【【具體實(shí)施方式】】
[0018]下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0019]如圖1、2所示，一種鑄嘴裝置，包括:相對設(shè)置的兩塊上下板3，連接兩塊上下板3側(cè)部的邊部擋板4，以及連接兩塊上下板3、兩塊邊部擋板4的底板5，底板5中部設(shè)置熔體入口 I，熔體入口 I相對一側(cè)為熔體出口 2，其中，鑄嘴裝置還包括夾設(shè)在兩塊上下板3之間設(shè)置一級分流單元6和二級分流單元7。一級分流單元6到底板5的距離大于二級分流單元7到底板5的距離。一級分流單元6包括若干截面形狀為矩形的且相互間隔設(shè)置的一級分流塊61，二級分流單元7包括若干截面形狀為半圓形的且相互間隔設(shè)置的二級分流塊71，相鄰的一級分流塊61之間設(shè)有一級間隔，每個一級間隔正對一個二級分級塊71設(shè)置，該設(shè)置的作用在于充分發(fā)揮分流塊的作用，使得更加均勻的分流。
[0020]一級分流塊61的數(shù)量為9個，位于中間的一級分流塊61正對熔體入口 1，其長度為熔體入口 I尺寸的寬度的2.5倍，如圖1所示，熔體入口 I尺寸的寬度是溶體入口 I沿一級分流塊長度方向的尺寸。
[0021]相鄰一級分流塊61的距離由中間向兩端逐漸增大，一級分流塊61的長度由中間向兩端逐漸減少。
[0022]二級分流塊71的數(shù)量為9個，位于中間的二級分流塊71正對熔體入口 1，相鄰所述二級分流塊71的距離相等。
[0023]一級分流單元6到底板5的距離為35_55mm，一級分流單元6中，位于中間的一級分流塊61的長度為265_，以中間的分流塊中心軸為對稱軸，其兩側(cè)的一級分流塊61關(guān)于該對稱軸對稱分布；一級分流塊61由熔體入口 I向任一邊部擋板4的方向依次設(shè)為第η個，η = I, 2, 3…；第η個一級分流塊61長度設(shè)為Ln, Ln = [122.5+5 (n-l)]mm ;一級間隔由熔體入口 I向任一邊部擋板4的方向依次設(shè)為第X個，X= 1，2，3…；第1個一級間隔的寬度設(shè)為Wn,Wn = [16+5(n-l)]mm,相鄰二級分流塊71的距離為30mm, —級分流單元與二級分流單元的距離為35-55mm。
[0024]如圖1所示，本實(shí)施例中，一級分流塊61的長度尺寸如下:L = 265mm, L1 =122.5mm, L2 = 117.5mm, L3 = 112.5mm, L4 = 107.5mm, L1 到 L4 呈等差數(shù)列排布。相鄰一級分流塊的間距值如下=W1 = 16mm, W2 = 2lmm, W3 = 26mm, W4 = 31mm。W1到W4呈等差數(shù)列排布。一級分流單元6和二級分流單元7的距離W12 = 45_。一級分流單元6到所述底板5的距離Wlb = 45mm。相鄰二級分流塊71的距離W22 = 30mm, 二級分流塊71的半徑值為110mm。
[0025]使用時(shí)，金屬熔體經(jīng)橫澆道從熔體入口 I進(jìn)入鑄嘴裝置后先經(jīng)一級分流單元6的矩形一級分流塊61，相鄰一級分流塊61的距離由中間向兩端逐漸增大，位于中間的一級分流塊61對金屬熔體的阻礙較大，兩邊的較小，逐步漸寬等比分流。金屬熔體經(jīng)過一級分流塊61后進(jìn)入二級分流單元7，二級分流單元7截面形狀的半圓形，當(dāng)金屬熔體從邊部擋板4和最靠近它的二級分流塊71的通道通過時(shí)，半圓形的曲面對金屬熔體的阻力均勻且小，不容易出現(xiàn)【背景技術(shù)】中為平面的時(shí)候容易出現(xiàn)的金屬熔體被阻，產(chǎn)生紊流，導(dǎo)致鑄軋板組織缺陷的現(xiàn)象。半圓的一面對著熔體出口 2，半圓分流塊間距一致，每個點(diǎn)流量一致，溫度均勻，提高熔體均勻性。
[0026]與相關(guān)技術(shù)相比，本發(fā)明鑄嘴裝置通過改變鑄嘴分流流道尺寸、采用二級分流、通過改變分流塊的形狀和布置，提高金屬液在鑄嘴裝置內(nèi)的均勻性，減少局部冷點(diǎn)，消除因鑄嘴內(nèi)腔結(jié)渣導(dǎo)致的鑄軋成品組織缺陷。
[0027]以上所述的僅是本發(fā)明的實(shí)施方式，在此應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出改進(jìn)，但這些均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種鑄嘴裝置，包括:相對設(shè)置的兩塊上下板，連接兩塊上下板側(cè)部的邊部擋板，以及連接兩塊上下板、兩塊邊部擋板的底板，底板中部設(shè)置熔體入口，熔體入口相對一側(cè)為熔體出口，其特征在于，所述鑄嘴裝置還包括夾設(shè)在兩塊上下板之間的一級分流單元和二級分流單元；所述一級分流單元到所述底板的距離大于所述二級分流單元到所述底板的距離；所述一級分流單元包括若干截面形狀為矩形的且相互間隔設(shè)置的一級分流塊，所述二級分流單元包括若干截面形狀為半圓形的且相互間隔設(shè)置的二級分流塊，相鄰的一級分流塊之間設(shè)有一級間隔，每個一級間隔正對一個二級分級塊設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鑄嘴裝置，其特征在于，所述一級分流塊的數(shù)量為>5的奇數(shù)，位于中間的一級分流塊正對熔體入口，其長度為熔體入口寬度的1.5-3.5倍。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鑄嘴裝置，其特征在于，位于中間的一級分流塊的長度為熔體入口寬度的2.5倍。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鑄嘴裝置，其特征在于，相鄰所述一級間隔的寬度由中間向兩端逐漸增大，所述一級分流塊的長度由中間向兩端逐漸減少。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鑄嘴裝置，其特征在于，所述二級分流塊的數(shù)量為>5的奇數(shù)，位于中間的二級分流塊正對熔體入口，相鄰所述二級分流塊的距離相等。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鑄嘴裝置，其特征在于，所述一級分流單元到所述底板的距離為35-55_，一級分流單元中，位于中間的一級分流塊的長度為265_，以中間的分流塊中心軸為對稱軸，其兩側(cè)的一級分流塊關(guān)于該對稱軸對稱分布；所述一級分流塊由所述熔體入口向任一邊部擋板的方向依次設(shè)為第n個，n = 1，2，3…；第η個一級分流塊長度設(shè)為Ln, Ln = [122.5+5 (n-l)]mm ;所述一級間隔由所述熔體入口向任一邊部擋板的方向依次設(shè)為第X個，X = 1,2,3...;第X個一級間隔的寬度設(shè)為Wn, Wn = [16+5(n-l)]mm。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鑄嘴裝置，其特征在于，所述二級分流塊的半徑值為110mm，相鄰所述二級分流塊的距離為30mm。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鑄嘴裝置，其特征在于，所述一級分流單元與二級分流單元的距離為35_55mm。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種鑄嘴裝置，包括相對設(shè)置的兩塊上下板，連接兩塊上下板側(cè)部的邊部擋板，以及連接兩塊上下板、兩塊邊部擋板的底板，底板中部設(shè)置熔體入口，熔體入口相對一側(cè)為熔體出口。其中，所述鑄嘴裝置還包括夾設(shè)在兩塊上下板之間設(shè)置一級分流單元和二級分流單元。與相關(guān)技術(shù)相比，本發(fā)明鑄嘴裝置通過改變鑄嘴分流流道尺寸、采用二級分流、通過改變分流塊的形狀和布置，提高鋁金屬液在鑄嘴裝置內(nèi)的均勻性，減少局部冷點(diǎn)，消除因鑄嘴內(nèi)腔結(jié)渣導(dǎo)致的鑄軋成品組織缺陷。
【IPC分類】B22D11/103, B22D11/06
【公開號】CN105195698
【申請?zhí)枴緾N201410288652
【發(fā)明人】彭香云, 廖文波
【申請人】湖南創(chuàng)元鋁業(yè)有限公司
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2014年6月24日