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膜形成方法

文檔序號:3389949閱讀:264來源:國知局
專利名稱:膜形成方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及膜形成方法,更詳細(xì)地說,是涉及使附著性低的膜牢固地粘附在基板上且不會從基板上剝離的膜形成新方法。
有時(shí)希望在陶瓷器件和瓷磚,或金剛石等寶石的表面涂敷金或白金等貴金屬,通過被覆這些貴金屬箔膜施以圖案裝飾。
以前,往往希望在陶瓷、瓷磚、塑料制品或金剛石等寶石表面上涂覆金或白金等貴重金屬,通過被覆這些貴金屬箔膜施以圖案裝飾。但是,這類貴金屬化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,其附著性不一定好,即使是稍微的機(jī)械接觸也容易剝離。因此,以前就有將膠涂覆在基底上,再將金箔等粘附在膠上的方法。
然而,這種方法是手工作業(yè),其缺點(diǎn)是費(fèi)工,同時(shí)由于金箔暴露在表面。因而容易受損傷。
本發(fā)明是為解決上述問題而進(jìn)行的研究,其目的是提供一種即使對附著性差的基底也具有良好再現(xiàn)性,且能簡便形成所規(guī)定膜的膜形成方法。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明之第1發(fā)明的膜形成方法,其特征在于,它具有在基板上沉積對該基板附著性差的第1膜的工序,在上述第1膜上設(shè)置到達(dá)上述基板表面的微細(xì)且高密度孔的工序,在上述多孔性第1膜上形成對上述基板附著性高的第2膜從而將該多孔性的第一膜牢固保持在基板上的工序;
第2發(fā)明的膜成形方法,其特征在于,它具有
在基板上沉積對該基板附著性差的第1膜的工序,在上述第1膜上設(shè)置到達(dá)上述基板表面的微細(xì)且高密度孔,而且通過該孔在基板表面上形成凹部的工序,以及在上述多孔性第1膜上形成對上述基板附著性高的第2膜,從而使該多孔性第1膜牢固地保持在基板上的工序。
作為上述基板,可采用陶瓷、玻璃、塑料、金屬、合金或?qū)毷?作為第1膜,可采用金膜、白金膜,銀膜、銦膜、銅膜、鎳膜、鉻膜等金屬膜,或這些金屬的合金膜,或TiN膜等有機(jī)金屬化合物膜;作為第2膜,可采用釉料膜、SiO膜、SiO2膜、鈹膜、Al膜、鉬膜、鉛膜、鎢膜、或金屬的合金膜,或有機(jī)金屬化合物膜,但不限于這些,一般對基板的附著性小的第1膜和附著性大的第2膜都適用。
按照第1發(fā)明之膜形成方法,基板和第2膜,通過設(shè)在第1膜上的高密度微細(xì)孔互相粘連,第1膜除孔以外的其它部分處于夾在基板和第2膜之間的狀態(tài)。
因此,即使第1膜對基板的附著性低,也可以防止該第1膜從基板上剝離下來。
按照第2發(fā)明的膜形成方法,不僅在第1膜上形成孔,而且通過該孔在基板上形成凹部。因此,第2膜與基板的接觸面積比第1發(fā)明之膜形成方法時(shí)要大,同時(shí)第2膜是以釘釘?shù)臓顟B(tài)在基板上形成,因此第1膜對基板的附著性進(jìn)一步提高。
以下參照附圖對本發(fā)明之實(shí)施例進(jìn)行說明。
(1)第1實(shí)施例圖1是有關(guān)本發(fā)明第1實(shí)施例的說明圖,這是一種由陶瓷構(gòu)成的瓷磚上粘附Au膜方法的說明圖。如圖所示,將施釉溫度為1140℃~1300℃(中火度施釉)的施釉瓷磚基板1(基板)的表面用三氯乙烯等洗凈后經(jīng)過100℃,1小時(shí)左右的干燥。
隨后,將瓷磚基板1送入Ar氣體、2×10-4Torr的箱內(nèi),然后用噴濺法在瓷磚基板上形成薄的Au膜2。
然后,將粒經(jīng)2-5μm的Al2O3粒子3混入30%肥皂液后,將該肥皂散布在Au膜2上并使之干燥,使Al2O3粒子3粘附在Au膜2上。隨后,以該Al2O3粒子3作為掩膜借助于氬離子(Ar+)對Au膜2進(jìn)行干侵蝕。此時(shí)的干侵蝕條件是,加速電壓400V,Ar氣2×10-4Torr,10分鐘。其后,用超聲波洗凈機(jī)水洗,除去Al2O3粒子和肥皂,則得到形成細(xì)孔面積率為25%的不定形微細(xì)孔的Au膜2。
隨后,用旋轉(zhuǎn)涂器涂覆0.7μm厚的保護(hù)膜6,在該保護(hù)膜6上形成所規(guī)定的圖案后,以該保護(hù)膜作為掩膜,部分除去Au膜2。其后全面除去保護(hù)膜6。
然后,在Au膜2及瓷磚基板1的表面上施以素陶釉7后在850℃的爐中燒成。素陶釉7是將鉛丹,熔融硼砂、火石玻璃以9∶6∶2的比例制成玻璃料,在該玻璃料中加硝石1經(jīng)粉碎而制成。
于是,可在瓷磚基板1上得到施以素陶釉7的Au膜2的圖案。
如上所述,按照本發(fā)明之第一實(shí)施例,由于通過許多細(xì)微孔使素陶釉7和瓷磚基板1互相粘連,因此夾在素陶釉7和瓷磚基板1之間的Au膜2很難剝離。
因此,即使對附著性差的瓷磚基板1,也能很好地施以絢麗豪華的Au質(zhì)圖案。
按照本發(fā)明之實(shí)施例,可以根據(jù)Al2O3粒子的粒徑大小和散布狀態(tài)來調(diào)整Au膜2上孔的形成狀態(tài)。
例如,微細(xì)孔在Au膜整體中占的比例(細(xì)孔面積率)多,則可使Au的色相變淡;反之,細(xì)微孔在Au膜整體中占的比例少,則可以在視覺上見到大致完全的Au膜。
第2實(shí)施例圖2是有關(guān)本發(fā)明第2實(shí)施例的說明圖,這是一種在瓷磚基板上粘附Au膜方法。
首先,如該圖(a)所示,在中火度施釉的瓷磚基板1上的Au膜2上形成約厚0.7μm的保護(hù)膜8,通過形成微細(xì)孔的掩膜(圖中未示出),經(jīng)過曝光,顯影,在保護(hù)膜8上設(shè)置約2μm的孔后,如該圖(b)所示,用干侵蝕法以保護(hù)膜8作為掩膜,在Au膜2上形成孔9。
其后,如該圖(c)所示,全面施以透明素陶釉10,得到粘附在瓷磚基板1上的Au膜2。
按照該實(shí)施例,由于可用掩膜來控制孔9的大小和個(gè)數(shù),因此可以精確地調(diào)整Au膜2的粘連情況和Au膜2的色相。
通過屏幕網(wǎng)復(fù)制人物像片圖案時(shí),則可得到由細(xì)微白、黑點(diǎn)構(gòu)成的人物畫像掩膜,而如果在上述本發(fā)明實(shí)施例的工序中采用該掩膜,則可以在該瓷磚基板1上描繪出由Au膜構(gòu)成的鮮明的人物畫像。
第3實(shí)施例圖3是有關(guān)本發(fā)明第3實(shí)施例的說明圖,這是一種在玻璃基板上粘附Au膜方法。
首先,如該圖(a)所示,將約1mm厚的玻璃基板11(基板)的表面用三氯乙烯等洗凈后,在100℃經(jīng)過1小時(shí)左右干燥。
隨之,將玻璃基板送入壓力為2×10-4Torr的箱內(nèi),然后用真空鍍敷法在玻璃基板11上形成0.1μm~1μm的薄Au膜12。
其后,用圖1之第1實(shí)施例中說明的同樣方法,在Au膜12上設(shè)置細(xì)孔面積率約10%的孔13后(圖3(b)),用噴濺法在Au膜12上堆積5μm~30μm Cr膜14。由此得到以不透明Cr膜14為背面的Au膜12形成的金色鏡。在本發(fā)明實(shí)施例中,由于在通過孔13而附著的Cr膜14和玻璃板11之間夾入Au膜12,因此該Au膜很難剝離。
第4實(shí)施例圖4是關(guān)于本發(fā)明第4實(shí)施例,即在塑料浮雕上附著Au膜方法的說明圖。
首先,將塑料浮雕15表面洗凈后,用噴濺法形成0.1μm~1μm薄Au膜16(同圖(a))。
隨后,將粒徑2-5μm的Al2O3粒子和3%淀粉糊溶液混合制成懸浮液17,將塑料浮雕15沉漬在該懸浮液17中從而使懸浮液附著在Au膜16的表面上(同圖(b))。
隨后常溫干燥,使Al2O3粒子18粘附在Au膜16上(同圖(c))。
然后以該Al2O3粒子18作為掩膜,進(jìn)行干侵蝕以致在Au膜16上形成孔19(同圖(c))。
其后通過水洗除去Al2O3粒子18及糊劑后,在H2SiF6(硅氟化氫酸)的水溶液中加入硅膠使之飽和并進(jìn)一步加硼酸溶液后得到的常溫液中,將塑料浮雕15浸漬15小時(shí),如同圖(d)所示,則可得到被覆在Au膜16上的0.3μm厚的SiO2膜20。
該SiO2膜20,通過孔19緊緊地附著在塑料浮雕上,因此可防止Au膜16從塑料浮雕15上剝離下來,同時(shí)還可以得到透明SiO2膜20的膜厚所導(dǎo)致的干涉色和Au膜16金色光輝交織的復(fù)合色。
特別是,按照本發(fā)明實(shí)施例,通過浸漬在含Al2O3粒子18的懸浮液17中使Al2O3粒子18粘附在Au膜16上,因而同樣也可以很容易地在表面不平的塑料浮雕15上形成。因此,能在整個(gè)曲面上均勻地形成孔19,以致能使Au膜16也能粘附在曲面的塑料浮雕15上。
同樣,也可以使Au膜粘附在具有鉛等形成曲面的佛像上,用SiO2膜和SiO膜之保護(hù)膜被覆的具有耐久性的黃金佛像也能很容易地制作。
第5實(shí)施例圖5是關(guān)于本發(fā)明之第5實(shí)施例,即在金剛石基板上粘附Pt膜之方法的說明圖。如圖所示,將金剛石基板21的表面洗凈后,用噴濺法形成0.1μm~1μm厚的Pt膜22(同圖(a))。
隨后,將保護(hù)膜23作成圖案形狀,形成含有細(xì)孔的所定圖案后(同圖(b)),以該保護(hù)膜23作為掩膜,干侵蝕Pt膜22從而形成孔24及開口部25(同圖(c))。
然后,通過噴濺在整個(gè)面上形成由碳(c)構(gòu)成的0.05μm厚的透明金剛石保護(hù)膜26,則可以得到描有該圖(d)中所示Pt膜22所定圖案模樣的金剛石基板21。
按照該實(shí)施例,通過孔24使金剛石基板21和透明金剛石保護(hù)膜26互相粘附,因而夾在它們之中的Pt膜22也處于粘附狀態(tài)。
而且,Pt膜22被透明金剛石保護(hù)膜26被覆,因而可提高其耐久性。
因此,如果用于指環(huán)和首飾之類裝飾品,則可使之成為更結(jié)實(shí)更豪華的物品。
本發(fā)明之各實(shí)施例是對代表性的情況進(jìn)行說明,但并不限于這些實(shí)施例,可根據(jù)本發(fā)明所示原理,作為對基板附著性小的膜的粘附有效方法而廣泛適用。
如上所述;按照第1發(fā)明的膜形成方法,通過高密度的細(xì)微孔使第2膜和基板互相粘連,因此,即使第1膜對基板的附著性低的情況下,也可以防止該第1膜從基板上剝離下來。
按照第2發(fā)明的膜形成方法,不僅在第1膜上形成孔,而且通過該孔在基板上形成凹部,其接觸面積比第1發(fā)明之膜形成方法時(shí)更多,而且增加釘釘形狀的效果,因此,可進(jìn)一步提高第1膜對基板的附著性。
因此,可以將附著性差、以前不便使用的貴金屬膜粘附在各種物品上,或者進(jìn)一步形成文字和圖案,以致能欣賞其豪華。


圖1 是有關(guān)本發(fā)明第1實(shí)施例的膜形成方法說明圖。
圖2 是有關(guān)本發(fā)明第2實(shí)施例的膜形成方法說明圖。
圖3 是有關(guān)本發(fā)明第3實(shí)施例的膜形成方法說明圖。
圖4 是有關(guān)本發(fā)明第4實(shí)施例的膜形成方法說明圖。
圖5 是有關(guān)本發(fā)明第5實(shí)施例的膜形成方法說明圖。
圖中符號說明1.……瓷磚基板2.12、16……Au膜3.18……Al2O3粒子4.……氬離子5.9、13、19、24……孔6.8、23……保護(hù)膜7.10……素陶釉11.……玻璃基板14.……Cr膜15.……塑料浮雕17.……懸浮液20.……SiO2膜21.……金鋼石基板22.……Pt膜25.……開口部位26.……金剛石保護(hù)膜。
權(quán)利要求
1.膜形成方法,其特征在于,該方法具有將對基板附著性差的第1膜沉積在該基板上的工序,在上述第1膜上設(shè)置到達(dá)上述基板表面的微細(xì)且高密度孔的工序,在上述多孔性第1膜上形成對上述基板附著性高的第2膜從而將該多孔性第1膜緊緊保持在基板上的工序。
2.膜形成方法,其特征在于,該方法具有將對基板附著性差的第1膜沉積在該基板上的工序,在上述第1膜上設(shè)置到達(dá)上述基板表面的微細(xì)且高密度孔、且通過該孔在基板表面形成凹部的工序,在上述多孔性第1膜上形成對上述基板附著性高的第2膜;從而將該多孔性第1膜緊緊保持在基板上的工序。
3.膜形成方法,其特征在于,在權(quán)利要求1或2的第1膜上設(shè)置微細(xì)孔的工序,是通過在該第1膜上散布耐蝕性微粒子后,以該粒子作為掩膜使第一膜侵蝕的方法進(jìn)行的。
4.膜形成方法,其特征在于,在權(quán)利要求1或2的第1膜上設(shè)置微細(xì)孔的工序,是通過形成微細(xì)孔的掩膜使保護(hù)膜曝光、顯影,并以該保護(hù)膜作為掩膜將第1膜侵蝕的方法進(jìn)行的。
5.權(quán)利要求1-4中任何一項(xiàng)所述之膜成形方法,其特征在于,上述基板由陶瓷、玻璃、塑料、金屬、合金或?qū)毷瘶?gòu)成,上述第1膜由金膜、白金膜、銀膜、銦膜、銅膜、鎳膜、鉻膜等金屬膜,或這些金屬的合金膜,或TiN膜等有機(jī)金屬化合物膜構(gòu)成,上述第2膜由釉膜、SiO膜、SiO2膜、鈹膜、Al膜、鉬模、鉛膜、鎢膜,或金屬的合金膜,或有機(jī)金屬化合物膜構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明涉及膜形成方法,更詳細(xì)地說,是涉及使附著性差的膜牢固地粘附在基板上的方法。該方法包括將對基板附著性差的第1膜沉積在該基板上的工序,在上述第1膜上設(shè)置到達(dá)上述基板表面的高密度細(xì)微孔的工序,在上述多孔性第1膜上形成對上述基板附著性高的第2膜從而將多孔性第1膜緊固在基板上的工序。按照本發(fā)明,可將附著性差的,以前不便使用的貴金屬膜粘附在各種物品上,形成文字或圖案,賦于裝飾品以豪華形象。
文檔編號C23C28/00GK1055398SQ9010605
公開日1991年10月16日 申請日期1990年12月14日 優(yōu)先權(quán)日1990年3月30日
發(fā)明者仲間宏 申請人:大和化工株式會社
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