1.一種富鋯的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，所述cr-zr-n合金涂層含有cr-zr-n合金材料，所述cr-zr-n合金材料的化學(xué)式為(crxzrynz)ma，m為摻雜元素，其中，x、y、z和a各自獨(dú)立地為原子比，15.0≤x≤53.8，30.0≤y≤78.8，6.2≤z≤35.5，且0≤a/(x+y+z+a)≤0.05。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，64.5-y≤x≤93.8-y且15.0≤x≤1.93y-23.4。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，15.0≤x≤53.8，33.7≤y≤78.8且6.2≤z＜28.0。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，72-y＜x≤93.8-y且15.0≤x＜2.5y-44.6。
5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，x、y和z三者之和為100。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，所述cr-zr-n合金涂層滿足如下兩個(gè)特征：
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，所述cr-zr-n合金涂層的厚度為dmin～6μm，其中，dmin選自10nm～50nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，dmin為10nm、20nm、25nm、30nm、40nm或50nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，所述摻雜元素為非金屬元素、金屬元素或者其組合；
10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的cr-zr-n合金涂層，其特征在于，0≤a/(x+y+z+a)≤0.02。
11.一種鍍膜制品，其特征在于，包括基體以及權(quán)利要求1～11中任一項(xiàng)所述的cr-zr-n合金涂層；其中，所述cr-zr-n合金涂層位于所述基體的至少一側(cè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜制品，其特征在于，所述基體的表面材質(zhì)為合金、單質(zhì)型金屬和無(wú)機(jī)非金屬材料中的一種；
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的鍍膜制品，其特征在于，所述基體的表面材質(zhì)為輕合金中的一種或不銹鋼合金中的一種；
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的鍍膜制品，其特征在于，滿足如下特征中的一個(gè)或多個(gè)：
15.權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述cr-zr-n合金涂層用作硬質(zhì)涂層至少一部分層的應(yīng)用，或者權(quán)利要求11～14所述的鍍膜制品在制備具有硬質(zhì)涂層的產(chǎn)品中的應(yīng)用。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的應(yīng)用，其特征在于，所述硬質(zhì)涂層還為耐腐蝕涂層。
17.一種cr-zr-n合金涂層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：采用氣相沉積技術(shù)將所述cr-zr-n合金涂層的組成元素按照預(yù)設(shè)原子比沉積于基體的至少一部分表面，形成權(quán)利要求1～10中任一項(xiàng)所述cr-zr-n合金涂層。
18.如權(quán)利要求17所述的制備方法，其特征在于，所述cr-zr-n合金涂層的制備方法包括如下步驟：在通入包含氬氣和含氮?dú)怏w的混合氣體的條件下，使用包括鉻和鋯的一種或多種靶材，在所述基體的至少一部分表面上濺射沉積所述cr-zr-n合金涂層的組成元素，形成所述cr-zr-n合金涂層。
19.如權(quán)利要求18所述的制備方法，其特征在于，滿足如下特征中的一個(gè)或多個(gè)：
20.一種cr-zr-n合金材料，其特征在于，所述cr-zr-n合金材料如權(quán)利要求1-6、9-10任一項(xiàng)中所定義。