1.一種卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括放卷室、收卷室、第一磁控鍍膜室、第一蒸鍍室、第二磁控鍍膜室、第二蒸鍍室、偏壓發(fā)生裝置和控制中心；相鄰兩室之間通過狹縫連通，使柔性薄膜可通過狹縫在各室之間走膜穿行；第一磁控鍍膜室、第二磁控鍍膜室、第一蒸鍍室和第二蒸鍍室中均依次布置有前調(diào)節(jié)輥、鍍膜輥和后調(diào)節(jié)輥；在第一磁控鍍膜室和第二磁控鍍膜室中，鍍膜輥的對側(cè)設(shè)置有磁控靶，磁控靶通過磁控濺射鍍膜在繞經(jīng)鍍膜輥的柔性薄膜上沉積致密的基礎(chǔ)膜層；在第一蒸鍍室和第二蒸鍍室中，鍍膜輥的下方設(shè)置有1個以上的蒸發(fā)源，蒸發(fā)源通過蒸發(fā)鍍膜在柔性薄膜的基礎(chǔ)膜層之上沉積增長膜層；基礎(chǔ)膜層和增長膜層合在一起構(gòu)成導(dǎo)電膜層；各鍍膜輥內(nèi)均通有冷卻液，在磁控濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜時對柔性薄膜進(jìn)行冷卻；偏壓發(fā)生裝置使各鍍膜輥帶有偏壓，并使除第一磁控鍍膜室及第二磁控鍍膜室中的前調(diào)節(jié)輥之外的各前調(diào)節(jié)輥和后調(diào)節(jié)輥中的至少1個調(diào)節(jié)輥帶有偏壓作為偏壓調(diào)節(jié)輥，偏壓使柔性薄膜在繞經(jīng)鍍膜輥時與鍍膜輥的表面緊密貼合，以獲得更好的冷卻效果；在鍍膜輥的下游設(shè)置有傳感器，用于在線檢測柔性薄膜與鍍膜輥之間的貼合情況，并將反映貼合情況的傳感信號傳輸給控制中心；在各鍍膜輥的走膜下游側(cè)的對側(cè)均設(shè)置有輔助電場發(fā)生裝置，在柔性薄膜行至該下游側(cè)區(qū)域需要脫離鍍膜輥表面時，輔助電場發(fā)生裝置產(chǎn)生的輔助電場起輔助脫輥作用。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，在第一磁控鍍膜室和第一蒸鍍室中，在柔性薄膜的正面上分別沉積基礎(chǔ)膜層和增長膜層；在第二磁控鍍膜室和第二蒸鍍室中，在柔性薄膜的反面上分別沉積基礎(chǔ)膜層和增長膜層；各室中均設(shè)置有導(dǎo)向輥；柔性薄膜在繞經(jīng)第一蒸鍍室和第二磁控鍍膜室中的導(dǎo)向輥時實現(xiàn)翻面轉(zhuǎn)換。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，輔助電場發(fā)生裝置包括電場屏蔽殼和按矩陣方式排布的多個電場發(fā)生單元，控制中心對各電場發(fā)生單元進(jìn)行單獨控制；控制中心根據(jù)傳感信號對輔助電場的電場強度大小及分布進(jìn)行在線反饋控制。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，當(dāng)傳感器將檢測到的傳感信號傳輸給控制中心時，控制中心根據(jù)收到的傳感信號判斷柔性薄膜與鍍膜輥之間的貼合程度偏高或偏低，并向各電場發(fā)生單元發(fā)出控制指令，調(diào)整某些電場發(fā)生單元產(chǎn)生的電場強度，提高或降低輔助電場的電場強度，改變電場分布，使輔助電場對此貼合程度進(jìn)行適應(yīng)性調(diào)整，對柔性薄膜脫離輥面形成有效的輔助脫輥作用。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，各鍍膜輥、偏壓調(diào)節(jié)輥的偏壓大小由控制中心根據(jù)傳感信號進(jìn)行單獨的在線反饋控制。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，當(dāng)控制中心根據(jù)收到的傳感信號判斷柔性薄膜需要提高或降低冷卻效果時，控制中心向偏壓發(fā)生裝置發(fā)出控制指令，提高或降低某個鍍膜輥及與該鍍膜輥相近的偏壓調(diào)節(jié)輥的偏壓，在線調(diào)整柔性薄膜與該鍍膜輥表面的貼合程度，使柔性薄膜獲得所需的、穩(wěn)定的冷卻效果。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，輔助電場為強度漸變電場，電場強度的漸變趨勢為沿柔性薄膜走膜方向逐漸增強。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，偏壓調(diào)節(jié)輥的偏壓極性與各鍍膜輥的偏壓極性相反；輔助電場的極性與鍍膜輥的偏壓極性相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，在第一磁控鍍膜室和第二磁控鍍膜室中，鍍膜輥對側(cè)設(shè)置的磁控靶為多個；在第一蒸鍍室和第二蒸鍍室中布置的鍍膜輥均為2個以上；導(dǎo)電膜層的厚度為0.3-2μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷繞式真空鍍膜設(shè)備，其特征在于，第二磁控鍍膜室和第二蒸鍍室中的鍍膜輥的表面外層還設(shè)置有導(dǎo)熱的電絕緣層，電絕緣層的成分為氧化鋁、氮化鋁、氮化硅、氧化硅、氧化鋯、樹脂中的一種。