本實用新型涉及一種鍍膜裝置，具體涉及一種磁控濺射儀。

背景技術：

濺射鍍膜是目前薄膜制備中應用最為廣泛的方法之一,這是由于濺射法制膜具有許多優(yōu)點,如可通過控制反應氣體的種類、濃度、濺射功率、襯底 溫度、濺射壓強等條件,較容易地控制膜的組分和結晶狀態(tài)。同時,濺射制膜易于大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn),制備工藝簡單,薄膜造價較低等。現(xiàn)有的磁控濺射儀存在明顯不足，由于分子泵工作時需要通過水進行冷卻，當停水或者低水壓時，如果濺射儀還在繼續(xù)工作，分子泵將會沒有得到冷卻從而被燒毀。這就使得在任何時刻都必須有工作人員對其進行監(jiān)控，這將浪費大量人力、物力。這就造成工作效率較為低下。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于提供一種在缺水或者停水狀態(tài)下能夠自動停止工作的磁控濺射儀，解決現(xiàn)有磁控濺射儀在缺水或者停水的時候會將分子泵燒毀的問題。

本實用新型所采取的技術方案為：一種磁控濺射儀，包括濺射室、預處理室、磁力傳遞桿、機械泵、分子泵和冷卻水管，濺射室和處理室之設有閥板，預處理室和磁力傳遞桿相連，預處理室還與機械泵和分子泵相連，分子泵與冷卻水管相連，冷卻水管進水處設有水位檢測開關，所述水位檢測開關包括殼體、殼體內(nèi)設有水管，水管上設有一受其內(nèi)水壓可上下運動的活塞，活塞上端部設有一具有導電能力的頂針，頂針上方設有一具有導電能力的彈片，頂針和彈片串接在分子泵的電源線的L線上，這種磁控濺射儀在使用過程中，冷卻水管內(nèi)的水正常時，水流通過水位檢測開關，活塞受到水的壓強作用向上浮起，頂針與彈片連通，分子泵通電正常工作，當冷卻水管內(nèi)的水不夠或者斷流的時候，活塞受重力影響而落下，頂針和彈片斷開，分子泵就停止工作，通過水位檢測開關檢測冷卻水是否正常，從而控制分子泵的開關，防止分子泵被燒毀。

所述殼體和活塞均為絕緣體，防止漏電，增強了設備的安全性。

附圖說明

圖1為本實用新型磁控濺射儀的結構示意圖。

具體實施方式

現(xiàn)在結合說明書附圖對本實用新型進一步詳細說明。

如圖1所示：一種磁控濺射儀，包括濺射室1、預處理室2、磁力傳遞桿3、機械泵4、分子泵5和冷卻水管6，濺射室1和預處理室2之設有閥板7，預處理室2和磁力傳遞桿3相連，預處理室2還與機械泵4和分子泵5相連，分子泵5與冷卻水管6相連，冷卻水管6進水處61設有水位檢測開關7，所述水位檢測開關7包括殼體71、殼體71內(nèi)設有水管72，水管72上設有一受其內(nèi)水壓可上下運動的活塞73，活塞73上端部設有一具有導電能力的頂針74，頂針74上方設有一具有導電能力的彈片75，頂針74和彈片75串接在分子泵5的電源線51的L線上，這種磁控濺射儀在使用過程中，冷卻水管內(nèi)的水正常時，水流通過水位檢測開關，活塞受到水的壓強作用向上浮起，頂針與彈片連通，分子泵通電正常工作，當冷卻水管內(nèi)的水不夠或者斷流的時候，活塞受重力影響而落下，頂針和彈片斷開，分子泵就停止工作，通過水位檢測開關檢測冷卻水是否正常，從而控制分子泵的開關，防止分子泵被燒毀。

所述殼體71和活塞73均為絕緣體，防止漏電，增強了設備的安全性。