技術(shù)編號：11366453
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及一種鍍膜裝置，具體涉及一種磁控濺射儀。背景技術(shù)濺射鍍膜是目前薄膜制備中應(yīng)用最為廣泛的方法之一,這是由于濺射法制膜具有許多優(yōu)點,如可通過控制反應(yīng)氣體的種類、濃度、濺射功率、襯底溫度、濺射壓強等條件,較容易地控制膜的組分和結(jié)晶狀態(tài)。同時,濺射制膜易于大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn),制備工藝簡單,薄膜造價較低等。現(xiàn)有的磁控濺射儀存在明顯不足，由于分子泵工作時需要通過水進行冷卻，當(dāng)停水或者低水壓時，如果濺射儀還在繼續(xù)工作，分子泵將會沒有得到冷卻從而被燒毀。這就使得在任何時刻都必須有工作人員對其進行監(jiān)控，...
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