1.一種銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，包括：氣體注入設(shè)備、真空腔、反應(yīng)腔、勻氣裝置和測(cè)試裝置；
所述反應(yīng)腔設(shè)置于所述真空腔內(nèi)，并且所述反應(yīng)腔設(shè)置有至少一個(gè)進(jìn)氣孔和至少一個(gè)出氣孔；所述勻氣裝置分別設(shè)置于所述進(jìn)氣孔和所述出氣孔處；所述氣體注入設(shè)備通過導(dǎo)管與所述進(jìn)氣孔連接；
其中，測(cè)試裝置包含：樣本承載架、移動(dòng)軌道、腐蝕測(cè)試儀和光譜測(cè)試儀；
所述樣本承載架設(shè)置于所述反應(yīng)腔內(nèi)，所述反應(yīng)腔與所述真空腔之間設(shè)置有第一密封接口，所述移動(dòng)軌道與所述樣本承載架連接；所述移動(dòng)軌道穿過所述第一密封接口，分別與所述腐蝕測(cè)試儀和所述光譜測(cè)試儀連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述腐蝕測(cè)試儀和所述光譜測(cè)試儀分別設(shè)有柜門。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述腐蝕測(cè)試儀包含：第一測(cè)試腔體、腐蝕溶液存儲(chǔ)罐和腐蝕溶液注入器；
其中，所述第一測(cè)試腔體與所述移動(dòng)軌道連接，用于容置所述樣本承載架；所述腐蝕溶液注入器與所述腐蝕溶液存儲(chǔ)罐；所述腐蝕溶液注入器對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架上的樣本；
所述光譜測(cè)試儀包含：第二測(cè)試腔體、紫外可見近紅外分光光度計(jì)和處理器；
所述第二測(cè)試腔體所述移動(dòng)軌道連接，用于容置所述樣本承載架；所述紫外可見近紅外分光光度計(jì)對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架上的樣本；所述處理器與所述紫外可見近紅外分光光度計(jì)電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述樣本承載架設(shè)置有多個(gè)托盤，所述托盤用于放置所述樣本。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述腐蝕溶液注入器設(shè)置有多個(gè)端口，每個(gè)所述端口與一個(gè)所述托盤對(duì)應(yīng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述勻氣裝置，包括：帶通孔的圓盤和至少一個(gè)帶通孔的圓環(huán)；
所述至少一個(gè)帶通孔的圓環(huán)圍繞所述帶通孔的圓盤的圓心旋轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述勻氣裝置，包括：所述帶通孔的圓盤、帶通孔的第一圓環(huán)、帶通孔的第二圓環(huán)、帶通孔的第三圓環(huán)、帶通孔的第四圓環(huán)和一個(gè)帶通孔的子圓盤；
其中，所述帶通孔的第二圓環(huán)嵌套在所述帶通孔的第一圓環(huán)內(nèi)，所述帶通孔的第三圓環(huán)嵌套在所述帶通孔的第二圓環(huán)內(nèi)，所述帶通孔的第四圓環(huán)嵌套在所述帶通孔的第三圓環(huán)內(nèi)，所述帶通孔的子圓盤嵌套在所述帶通孔的第四圓環(huán)內(nèi)；
所述帶通孔的第一圓環(huán)、所述帶通孔的第二圓環(huán)、所述帶通孔的第三圓環(huán)和所述帶通孔的第四圓環(huán)圍繞所述帶通孔的圓盤的圓心旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述帶通孔的圓盤設(shè)置有第一固定孔位；所述帶通孔的第一圓環(huán)設(shè)置有與所述第一固定孔位匹配的第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽；
所述帶通孔的第一圓環(huán)具有固定螺栓穿過所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽與所述第一固定孔位固接；所述帶通孔的第一圓環(huán)能夠沿著所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽圍繞所述帶通孔的圓盤的圓心旋轉(zhuǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的銀飾批量處理設(shè)備，其特征在于，所述帶通孔的圓盤設(shè)置有第二固定孔位；所述帶通孔的第二圓環(huán)設(shè)置有與所述第二固定孔位匹配的第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽；
所述帶通孔的第二圓環(huán)具有固定螺栓穿過所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽與所述第二固定孔位固接；所述帶通孔的第二圓環(huán)能夠沿著所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽圍繞所述帶通孔的圓盤的圓心旋轉(zhuǎn)。