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一種銀飾批量處理設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):12920268閱讀:469來(lái)源:國(guó)知局
一種銀飾批量處理設(shè)備的制作方法與工藝

本實(shí)用新型涉及銀飾批量處理技術(shù),尤其涉及一種銀飾批量處理設(shè)備。



背景技術(shù):

現(xiàn)有技術(shù)在對(duì)銀飾進(jìn)行批量生產(chǎn)時(shí),需要對(duì)銀飾進(jìn)行保護(hù)膜添加處理?,F(xiàn)有技術(shù)往往采用原子層沉積技術(shù)進(jìn)行鍍膜,該技術(shù)能在復(fù)雜形貌襯底上形成高質(zhì)量的薄膜,具有精確的膜層組份控制能力和較好的臺(tái)階覆蓋率。

但采用原子層沉積技術(shù)后,由于保護(hù)膜均勻性較差,導(dǎo)致銀飾與空氣接觸一段時(shí)間后,其表面就會(huì)變得黯淡甚至發(fā)黑,嚴(yán)重影響了工藝飾品的表面質(zhì)量。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型提供一種銀飾批量處理設(shè)備,用于提高保護(hù)膜層厚度的均勻性。

本實(shí)用新型的第一個(gè)方面提供一種銀飾批量處理設(shè)備,包括:氣體注入設(shè)備、真空腔、反應(yīng)腔、勻氣裝置和測(cè)試裝置;

所述反應(yīng)腔設(shè)置于所述真空腔內(nèi),并且所述反應(yīng)腔設(shè)置有至少一個(gè)進(jìn)氣孔和至少一個(gè)出氣孔;所述勻氣裝置分別設(shè)置于所述進(jìn)氣孔和所述出氣孔處;所述氣體注入設(shè)備通過(guò)導(dǎo)管與所述進(jìn)氣孔連接;

其中,測(cè)試裝置包含:樣本承載架、移動(dòng)軌道、腐蝕測(cè)試儀和光譜測(cè)試儀;

所述樣本承載架設(shè)置于所述反應(yīng)腔內(nèi),所述反應(yīng)腔與所述真空腔之間設(shè)置有第一密封接口,所述移動(dòng)軌道與所述樣本承載架連接;所述移動(dòng)軌道穿過(guò)所述第一密封接口,分別與所述腐蝕測(cè)試儀和所述光譜測(cè)試儀連接。

較佳地,所述腐蝕測(cè)試儀和所述光譜測(cè)試儀分別設(shè)有柜門(mén)。

較佳地,所述腐蝕測(cè)試儀包含:第一測(cè)試腔體、腐蝕溶液存儲(chǔ)罐和腐蝕溶液注入器;

其中,所述第一測(cè)試腔體與所述移動(dòng)軌道連接,用于容置所述樣本承載架;所述腐蝕溶液注入器與所述腐蝕溶液存儲(chǔ)罐;所述腐蝕溶液注入器對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架上的樣本;

所述光譜測(cè)試儀包含:第二測(cè)試腔體、紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)和處理器;

所述第二測(cè)試腔體所述移動(dòng)軌道連接,用于容置所述樣本承載架;所述紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架上的樣本;所述處理器與所述紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)電連接。

較佳地,所述樣本承載架設(shè)置有多個(gè)托盤(pán),所述托盤(pán)用于放置所述樣本。

較佳地,所述腐蝕溶液注入器設(shè)置有多個(gè)端口,每個(gè)所述端口與一個(gè)所述托盤(pán)對(duì)應(yīng)。

較佳地,所述勻氣裝置,包括:帶通孔的圓盤(pán)和至少一個(gè)帶通孔的圓環(huán);

所述至少一個(gè)帶通孔的圓環(huán)圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

較佳地,所述勻氣裝置,包括:所述帶通孔的圓盤(pán)、帶通孔的第一圓環(huán)、帶通孔的第二圓環(huán)、帶通孔的第三圓環(huán)、帶通孔的第四圓環(huán)和一個(gè)帶通孔的子圓盤(pán);

其中,所述帶通孔的第二圓環(huán)嵌套在所述帶通孔的第一圓環(huán)內(nèi),所述帶通孔的第三圓環(huán)嵌套在所述帶通孔的第二圓環(huán)內(nèi),所述帶通孔的第四圓環(huán)嵌套在所述帶通孔的第三圓環(huán)內(nèi),所述帶通孔的子圓盤(pán)嵌套在所述帶通孔的第四圓環(huán)內(nèi);

所述帶通孔的第一圓環(huán)、所述帶通孔的第二圓環(huán)、所述帶通孔的第三圓環(huán)和所述帶通孔的第四圓環(huán)圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

較佳地,所述帶通孔的圓盤(pán)設(shè)置有第一固定孔位;所述帶通孔的第一圓環(huán)設(shè)置有與所述第一固定孔位匹配的第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽;

所述帶通孔的第一圓環(huán)具有固定螺栓穿過(guò)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽與所述第一固定孔位固接;所述帶通孔的第一圓環(huán)能夠沿著所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

較佳地,所述帶通孔的圓盤(pán)設(shè)置有第二固定孔位;所述帶通孔的第二圓環(huán)設(shè)置有與所述第二固定孔位匹配的第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽;

所述帶通孔的第二圓環(huán)具有固定螺栓穿過(guò)所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽與所述第二固定孔位固接;所述帶通孔的第二圓環(huán)能夠沿著所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

較佳地,所述帶通孔的圓盤(pán)設(shè)置有第三固定孔位;所述帶通孔的第三圓環(huán)設(shè)置有與所述第三固定孔位匹配的第三轉(zhuǎn)動(dòng)槽;

所述帶通孔的第三圓環(huán)具有固定螺栓穿過(guò)所述第三轉(zhuǎn)動(dòng)槽與所述第三固定孔位固接;所述帶通孔的第三圓環(huán)能夠沿著所述第三轉(zhuǎn)動(dòng)槽圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

較佳地,所述帶通孔的圓盤(pán)設(shè)置有第四固定孔位;所述帶通孔的第四圓環(huán)設(shè)置有與所述第四固定孔位匹配的第四轉(zhuǎn)動(dòng)槽;

所述帶通孔的第四圓環(huán)具有固定螺栓穿過(guò)所述第四轉(zhuǎn)動(dòng)槽與所述第四固定孔位固接;所述帶通孔的第四圓環(huán)能夠沿著所述第四轉(zhuǎn)動(dòng)槽圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

較佳地,所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心設(shè)置有第五固定孔位;所述帶通孔的子圓盤(pán)設(shè)置有與所述第五固定孔位匹配的第五轉(zhuǎn)動(dòng)孔;

所述帶通孔的子圓盤(pán)具有固定螺栓穿過(guò)所述第五轉(zhuǎn)動(dòng)孔與所述第五固定孔位固接;所述帶通孔的子圓盤(pán)能夠以所述第五轉(zhuǎn)動(dòng)孔方向?yàn)檩S心圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

較佳地,所述腐蝕測(cè)試儀包含:第一測(cè)試腔體、腐蝕溶液存儲(chǔ)罐和腐蝕溶液注入器;

其中,所述第一測(cè)試腔體與所述移動(dòng)軌道連接,用于容置所述樣本承載架;所述腐蝕溶液注入器與所述腐蝕溶液存儲(chǔ)罐;所述腐蝕溶液注入器對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架上的樣本;

所述光譜測(cè)試儀包含:第二測(cè)試腔體、紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)和處理器;

所述第二測(cè)試腔體所述移動(dòng)軌道連接,用于容置所述樣本承載架;所述紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架上的樣本;所述處理器與所述紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)電連接。

本實(shí)用新型提供的銀飾批量處理設(shè)備,通過(guò)增設(shè)勻氣裝置,來(lái)對(duì)采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)對(duì)銀飾進(jìn)行處理過(guò)程中,實(shí)現(xiàn)勻氣處理。從而使得保護(hù)膜層厚度更加均勻,從而使得銀飾的外觀及抗變色能力增強(qiáng)。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種銀飾批量處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種勻氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種銀飾批量處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種銀飾批量處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖,參照?qǐng)D1,該設(shè)備包括:氣體注入設(shè)備10、真空腔11、反應(yīng)腔12、勻氣裝置13和測(cè)試裝置;

所述反應(yīng)腔12設(shè)置于所述真空腔11內(nèi),并且所述反應(yīng)腔12設(shè)置有至少一個(gè)進(jìn)氣孔121和至少一個(gè)出氣孔122;所述勻氣裝置13分別設(shè)置于所述進(jìn)氣孔121和所述出氣孔處122;所述氣體注入設(shè)備10通過(guò)導(dǎo)管101與所述進(jìn)氣孔121連接。

其中,測(cè)試裝置包含:樣本承載架140、移動(dòng)軌道141、腐蝕測(cè)試儀142和光譜測(cè)試儀143;

所述樣本承載架140設(shè)置于所述反應(yīng)腔12內(nèi),所述反應(yīng)腔12與所述真空腔11之間設(shè)置有第一密封接口15,所述移動(dòng)軌道141與所述樣本承載架140連接;所述移動(dòng)軌道141穿過(guò)所述第一密封接口15,分別與所述腐蝕測(cè)試儀142和所述光譜測(cè)試儀143連接。

本實(shí)用新型提供的銀飾批量處理設(shè)備,通過(guò)增設(shè)勻氣裝置,來(lái)對(duì)采用化學(xué)氣相沉積技術(shù)對(duì)銀飾進(jìn)行處理過(guò)程中,實(shí)現(xiàn)勻氣處理。從而使得保護(hù)膜層厚度更加均勻,從而使得銀飾的外觀及抗變色能力增強(qiáng),通過(guò)增加測(cè)試裝置,從而在銀飾批量處理過(guò)程中,對(duì)銀飾的處理效果進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),提高處理質(zhì)量。

可選的,在腐蝕測(cè)試儀142和光譜測(cè)試儀143分別設(shè)置有柜門(mén)144,參照?qǐng)D1,柜門(mén)144用于設(shè)置移動(dòng)軌道141通過(guò),從而使得所述樣本承載架140穿過(guò)所述柜門(mén)144進(jìn)入腐蝕測(cè)試儀142;在完成腐蝕測(cè)試后,所述樣本承載架140再通過(guò)所述樣本承載架140進(jìn)入光譜測(cè)試儀143。

可選的,第一密封接口15設(shè)置有密封擋板,在關(guān)閉狀態(tài)中實(shí)現(xiàn)真空腔11的密封,密封擋板打開(kāi)時(shí),則可以將樣本承載架140通過(guò)移動(dòng)軌道141移動(dòng)至腐蝕測(cè)試儀142。類似的,柜門(mén)144也具備密封功能,可選的,還可以配合現(xiàn)有的其他密封機(jī)構(gòu)來(lái)達(dá)到密封效果。

可選的,所述樣本承載架設(shè)置有多個(gè)托盤(pán),所述托盤(pán)用于放置所述樣本。所述腐蝕溶液注入器設(shè)置有多個(gè)端口,每個(gè)所述端口與一個(gè)所述托盤(pán)對(duì)應(yīng)。

進(jìn)一步地,與勻氣裝置臨近的區(qū)域,尤其是靠近進(jìn)氣孔位置的膜層厚度比其他位置的膜層厚度厚,膜層厚度均勻性很差,即便調(diào)整鍍膜治具的高度,改進(jìn)工藝參數(shù),膜層厚度均勻性改善的效果并不明顯,膜層厚度均勻性始終大于8%。為了解決這一問(wèn)題,對(duì)該勻氣裝置進(jìn)行如下改進(jìn):所述勻氣裝置具體包括:帶通孔的圓盤(pán)和至少一個(gè)帶通孔的圓環(huán);并且所述至少一個(gè)帶通孔的圓環(huán)圍繞所述帶通孔的圓盤(pán)的圓心旋轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步地,為了對(duì)勻氣裝置改進(jìn)進(jìn)行說(shuō)明,下面通過(guò)具體實(shí)施例對(duì)該勻氣裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種勻氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖,參照?qǐng)D2,所述勻氣裝置,包括:所述帶通孔a的圓盤(pán)100、帶通孔b的第一圓環(huán)101、帶通孔c的第二圓環(huán)102、帶通孔d的第三圓環(huán)103、帶通孔e的第四圓環(huán)104和一個(gè)帶通孔f的子圓盤(pán)105;

其中,所述帶通孔c的第二圓環(huán)102嵌套在所述帶通孔b的第一圓環(huán)101內(nèi),所述帶通孔d的第三圓環(huán)103嵌套在所述帶通孔c的第二圓環(huán)102內(nèi),所述帶通孔e的第四圓環(huán)104嵌套在所述帶通孔d的第三圓環(huán)103內(nèi),所述帶通孔f的子圓盤(pán)105嵌套在所述帶通孔e的第四圓環(huán)104內(nèi);

所述帶通孔b的第一圓環(huán)101、所述帶通孔c的第二圓環(huán)102、所述帶通孔d的第三圓環(huán)103和所述帶通孔e的第四圓環(huán)104圍繞所述帶通孔a的圓盤(pán)100的圓心旋轉(zhuǎn)。

進(jìn)一步地,為了對(duì)各個(gè)圓環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)的范圍進(jìn)行限定,下面給出一種可能的實(shí)現(xiàn)方式:

所述帶通孔a的圓盤(pán)100設(shè)置有第一固定孔位1001;所述帶通孔b的第一圓環(huán)101設(shè)置有與所述第一固定孔位1001匹配的第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽1011;

所述帶通孔b的第一圓環(huán)101具有固定螺栓穿過(guò)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽1011與所述第一固定孔位1001固接;所述帶通孔b的第一圓環(huán)101能夠沿著所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)槽1011圍繞所述帶通孔a的圓盤(pán)100的圓心旋轉(zhuǎn)。

所述帶通孔a的圓盤(pán)100設(shè)置有第二固定孔位1002;所述帶通孔c的第二圓環(huán)102設(shè)置有與所述第二固定孔位1002匹配的第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽1021;

所述帶通孔c的第二圓環(huán)102具有固定螺栓穿過(guò)所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽1021與所述第二固定孔位1002固接;所述帶通孔c的第二圓環(huán)102能夠沿著所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)槽1021圍繞所述帶通孔a的圓盤(pán)100的圓心旋轉(zhuǎn)。

所述帶通孔a的圓盤(pán)100設(shè)置有第三固定孔位1003;所述帶通孔d的第三圓環(huán)103設(shè)置有與所述第三固定孔位1003匹配的第三轉(zhuǎn)動(dòng)槽1031;

所述帶通孔d的第三圓環(huán)103具有固定螺栓穿過(guò)所述第三轉(zhuǎn)動(dòng)槽1031與所述第三固定孔位1003固接;所述帶通孔d的第三圓環(huán)103能夠沿著所述第三轉(zhuǎn)動(dòng)槽1031圍繞所述帶通孔a的圓盤(pán)100的圓心旋轉(zhuǎn)。

所述帶通孔a的圓盤(pán)100設(shè)置有第四固定孔位1004;所述帶通孔e的第四圓環(huán)104設(shè)置有與所述第四固定孔位1004匹配的第四轉(zhuǎn)動(dòng)槽1041;

所述帶通孔e的第四圓環(huán)104具有固定螺栓穿過(guò)所述第四轉(zhuǎn)動(dòng)槽1041與所述第四固定孔位1004固接;所述帶通孔e的第四圓環(huán)104能夠沿著所述第四轉(zhuǎn)動(dòng)槽1041圍繞所述帶通孔a的圓盤(pán)100的圓心旋轉(zhuǎn)。

所述帶通孔a的圓盤(pán)100的圓心設(shè)置有第五固定孔位1005;所述帶通孔f的子圓盤(pán)105設(shè)置有與所述第五固定孔位1005匹配的第五轉(zhuǎn)動(dòng)孔1051;

所述帶通孔f的子圓盤(pán)105具有固定螺栓穿過(guò)所述第五轉(zhuǎn)動(dòng)孔1051與所述第五固定孔位1005固接;所述帶通孔f的子圓盤(pán)105能夠以所述第五轉(zhuǎn)動(dòng)孔1005方向?yàn)檩S心圍繞所述帶通孔a的圓盤(pán)100的圓心旋轉(zhuǎn)。

勻氣盤(pán)的下面是帶有通孔的圓盤(pán),在上面與其緊密貼合為帶有通孔的多個(gè)圓環(huán),每個(gè)圓環(huán)可以單獨(dú)圍繞著共同的圓心旋轉(zhuǎn),進(jìn)而改變不同圓環(huán)處的進(jìn)氣量和出氣量,從而改善膜層厚度的均勻性。通過(guò)對(duì)勻氣裝置的調(diào)整,整體膜層厚度均勻性有了很大程度的改善。

在圖1的基礎(chǔ)上,圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種銀飾批量處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖,參照?qǐng)D3,該腐蝕測(cè)試儀142包含:第一測(cè)試腔體142-1、腐蝕溶液存儲(chǔ)罐142-2和腐蝕溶液注入器142-3;

其中,所述第一測(cè)試腔體142-1與所述移動(dòng)軌道141連接,用于容置所述樣本承載架140;所述腐蝕溶液注入器142-3與所述腐蝕溶液存儲(chǔ)罐142-2;所述腐蝕溶液注入器142-3對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架140上的樣本;

所述光譜測(cè)試儀143包含:第二測(cè)試腔體143-1、紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)143-2和處理器143-3;

所述第二測(cè)試腔體143-1所述移動(dòng)軌道141連接,用于容置所述樣本承載架140;所述紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)143-2對(duì)準(zhǔn)所述樣本承載架140上的樣本;所述處理器143-3與所述紫外可見(jiàn)近紅外分光光度計(jì)143-2電連接。

可選的,該承載架140配有ISR-2600PLUS積分球附件;該處理器143-3運(yùn)行色彩分析軟件,實(shí)驗(yàn)過(guò)程中以硫酸鋇為標(biāo)準(zhǔn)件,分別對(duì)未鍍保護(hù)膜的銀飾及膜層厚度為30nm和45nm的銀飾表面進(jìn)行漫反射測(cè)試,測(cè)試的波段范圍為380nm-760nm,為了減小測(cè)試誤差,將銀飾樣本固定在積分球?qū)?yīng)的夾具上進(jìn)行鍍膜前后的測(cè)試。

最后應(yīng)說(shuō)明的是:以上各實(shí)施例僅用以說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案,而非對(duì)其限制;盡管參照前述各實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對(duì)其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的范圍。

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