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一種TiN涂層的制備方法與流程

文檔序號(hào):11455858閱讀:693來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明屬于陶瓷層制備技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種tin涂層的制備方法。



背景技術(shù):

等離子噴涂是一種應(yīng)用廣泛的材料表面強(qiáng)化和表面改性技術(shù),可以使基體表面具有耐磨、耐蝕、耐高溫氧化、隔熱、減磨等性能。但是,等離子噴涂涂層在形成過程中,部分顆粒不能完全熔化,容易在涂層中夾雜生粉,難以制備出具有陶瓷固有性能的涂層,陶瓷材料優(yōu)良的耐磨、耐蝕性能得不到充分發(fā)揮。等離子噴涂制備的tin涂層較為粗糙,涂層中的孔洞較大且多,涂層性能大大降低;且涂層中殘留不同程度的ti粉,使tin涂層本身所具備的高硬度、高耐磨性等性能無(wú)法表現(xiàn)出來(lái)。在制備過程中涂層的沉淀速率低,涂層與基體的結(jié)合性能較差,并且制備設(shè)備昂貴,增加了tin涂層的制備成本,制約著tin的應(yīng)用。

反應(yīng)等離子噴涂所用粉末為高放熱反應(yīng)體系,噴涂時(shí),粉末在飛行過程中與反應(yīng)氣體發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)產(chǎn)物顆粒沉積到基體上形成涂層。所得涂層呈典型的層狀組織結(jié)構(gòu),涂層由硬質(zhì)相原位合成,合成反應(yīng)熱與等離子弧熱疊加,有利于熔點(diǎn)高的硬質(zhì)相的熔化,但目前還沒有發(fā)現(xiàn)應(yīng)用反應(yīng)等離子噴涂方法來(lái)進(jìn)行tin涂層的制備。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,而提出一種tin涂層的制備方法。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題是采取以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:

一種tin涂層的制備方法,包含步驟如下:

(1)基體材料預(yù)處理,將基體材料用砂紙打磨,除去鐵銹、油污,提高試樣表面的粗糙度;

(2)在預(yù)處理后的基體材料上噴涂al/ni粉末,制備nial粘接底層,所述nial粘結(jié)底層制備參數(shù)為:ar離子氣體流量50~100l/min,n2離子氣體流量20~50l/min,送粉氣體流量0.5m3/h,電弧功率28~40kw,電流350~500a,噴涂距離100~150mm;

(3)采用反應(yīng)等離子噴涂ti粉制備tin涂層,所述tin涂層的制備參數(shù)為:ar離子氣體流量40~60l/min,n2離子氣體流量40~60l/min,送粉氣體流量3~5m3/h,電弧功率28~40kw,電流350~500a,噴涂距離80~120mm。

而且,基體材料為碳鋼或者不銹鋼。

而且,nial粘結(jié)底層的厚度為100~150um。

而且,ti粉的粒度為30~40um,tin涂層的厚度為100~300um。

而且,所述步驟(2)、(3)中送粉氣體為n2。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:

1、本發(fā)明采用反應(yīng)等離子噴涂制備tin涂層的成本低,工藝參數(shù)可控;

2、本發(fā)明通過控制噴涂參數(shù)可以得到不同厚度的tin涂層;

3、本發(fā)明所得tin涂層致密、性能優(yōu)良。

具體實(shí)施方式

以下對(duì)本發(fā)明實(shí)施例做進(jìn)一步詳述:需要強(qiáng)調(diào)的是,本發(fā)明所述的實(shí)施例是說(shuō)明性的,而不是限定性的,因此本發(fā)明并不限于具體實(shí)施方式中所述的實(shí)施例,凡是由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案得出的其它實(shí)施方式,同樣屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例一:

一種tin涂層的制備方法,包含如下步驟:

(1)基體材料預(yù)處理,將45#切成10mm×10mm×12mm的試樣,用砂紙打磨,除去鐵銹、油污,提高試樣表面的粗糙度。

(2)在預(yù)處理后的基體試樣上噴涂al/ni粉末,制備nial粘接底層。

其中,所述nial粘結(jié)底層制備參數(shù)為:ar離子氣體流量80l/min,n2離子氣體流量30l/min,送粉氣體n2的流量0.5m3/h,電弧功率28kw,電流350a,噴涂距離120mm。

所述nial粘結(jié)底層的厚度為100um。

(3)采用反應(yīng)等離子噴涂ti粉制備tin涂層。

所述tin涂層的制備參數(shù)為:ar離子氣體流量50l/min,n2離子氣體流量50l/min,送粉氣體n2的流量3m3/h,電弧功率28kw,電流350a,噴涂距離100mm。

所述ti粉的粒度為30um,所述tin涂層的厚度為100um。

實(shí)施例二:

一種tin涂層的制備方法,包含如下步驟:

(1)基體材料預(yù)處理,將45#切成10mm×10mm×12mm的試樣,用砂紙打磨,除去鐵銹、油污,提高試樣表面的粗糙度。

(2)在預(yù)處理后的基體試樣上噴涂al/ni粉末,制備nial粘接底層。

其中,所述nial粘結(jié)底層制備參數(shù)為:ar離子氣體流量100l/min,n2離子氣體流量50l/min,送粉氣體n2的流量0.5m3/h,電弧功率40kw,電流500a,噴涂距離100mm。

所述nial粘結(jié)底層的厚度為150um。

(3)制備tin涂層,采用反應(yīng)等離子噴涂復(fù)合粉制備tin涂層。

所述tin涂層的制備參數(shù)為:ar離子氣體流量60l/min,n2離子氣體流量60l/min,送粉氣體n2的流量5m3/h,電弧功率40kw,電流500a,噴涂距離80mm。

所述ti粉的粒度為40um,所述tin涂層厚度為300um。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種TiN涂層的制備方法,包含步驟有:(1)基體材料預(yù)處理,除去鐵銹、油污,提高表面粗糙度;(2)在預(yù)處理后的基體材料上噴涂Al/Ni粉末,制備NiAl粘接底層;(3)采用反應(yīng)等離子噴涂Ti粉制備TiN涂層,TiN涂層的制備參數(shù)為:Ar離子氣體流量40~60L/min,N2離子氣體流量40~60L/min,送粉氣體流量3~5m3/h,電弧功率28~40kW,電流350~500A,噴涂距離80~120mm。本發(fā)明制備TiN涂層的成本低,工藝參數(shù)可控,通過控制噴涂參數(shù)可以得到不同厚度的TiN涂層,所得TiN涂層致密、性能優(yōu)良。

技術(shù)研發(fā)人員:齊文艷;陳韶瑜;葉芳;甘智勇;李田;傅思偉;郭軍科;程明;文黎;溫力;李慶釗;曹建偉;張迅達(dá)
受保護(hù)的技術(shù)使用者:國(guó)網(wǎng)天津市電力公司;國(guó)家電網(wǎng)公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.04.07
技術(shù)公布日:2017.08.25
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