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一種銅蝕刻液及其應(yīng)用的制作方法

文檔序號(hào):11613685閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種銅蝕刻液及其應(yīng)用,該銅蝕刻液含有含有氯化銅和過(guò)氧化氫,還含有1?15wt%的3?(2,2,2?三氟乙氧基)吡啶?2?胺。本發(fā)明提供銅蝕刻液可應(yīng)用于印制電路板中。本發(fā)明提供的銅蝕刻液整體具有較高的蝕刻速率和較少的側(cè)蝕,配方合理,不易產(chǎn)生殘?jiān)哂休^好的工業(yè)應(yīng)用價(jià)值。

技術(shù)研發(fā)人員:王毅明;朱霞
受保護(hù)的技術(shù)使用者:江蘇和達(dá)電子科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.03.28
技術(shù)公布日:2017.08.04
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