技術(shù)特征：

1.一種高質(zhì)量的TiN薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)選用純度為99.95％以上的Ti鑄錠經(jīng)鍛造、軋制、熱處理、校平和機(jī)加工后制成鈦板條；然后用丙硝酸和氫氟酸組成的混合酸清洗，再依次用去離子水、無(wú)水乙醇清洗，真空干燥；然后用激光雕刻鈦板條各表面；最后用卷圓機(jī)將雕刻后的鈦板條卷圓成鈦環(huán)，清洗烘干后，得到濺射鈦環(huán)；

(2)采用鋼片作為基體，在制備氮化鈦薄膜前，將鋼片依次浸泡到洗滌劑和丙酮中，超聲震蕩5-15min，后取出，采用乙醇和去離子水清洗，真空干燥，待用；

(3)將鈦環(huán)和鈦鈀采用導(dǎo)電膠粘結(jié)好作為靶材，將預(yù)處理后的鋼片安裝在濺射室內(nèi)的樣品臺(tái)上，并將上述靶材安裝在濺射靶臺(tái)上；對(duì)濺射室進(jìn)行抽真空處理，并利用電阻加熱器對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行加熱，單獨(dú)向?yàn)R射室內(nèi)通入氬氣和氮?dú)?，?jīng)閘板閥調(diào)節(jié)濺射室內(nèi)氣壓為1.0Pa，經(jīng)外加電壓等離子化后，調(diào)節(jié)各工藝參數(shù)，在鋼片上沉積TiN薄膜。

2.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于，步驟(1)中，所述軋制的條件為：軋制張力為35-63MPa，道次變形量為10-20％，軋制總變形量為55-75％。

3.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于，步驟(1)中，所述熱處理的條件為：溫度880-1200℃，保溫時(shí)間0.5-2h。

4.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于：步驟(1)中，校平后平面度≤1mm，機(jī)加工后鈦板條平面度≤0.3mm，表面粗糙度≤1.6μm。

5.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于，步驟(1)中，所述激光雕刻的條件為：激光器脈沖寬度10-100ns，脈沖頻率20-100kHz，激光平均功率為20-200W，雕刻線速度為1000-3000mm/s，雕刻時(shí)分層雕刻，每層厚度為0.05-0.2mm。

6.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于：步驟(2)中，所述鈦鈀為圓柱形，其直徑與鈦環(huán)的內(nèi)徑相同。

7.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于：步驟(3)中，所述抽真空至濺射室內(nèi)的真空度為(1-6)×10^-6Pa，電阻加熱器對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行加熱至50-260℃。

8.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于：步驟(3)中，濺射功率為20-80W，電壓為0.2-0.4KV，濺射時(shí)間為40-160min。

9.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于，步驟(3)中氮?dú)夂蜌鍤獾牧髁糠謩e為：Ar 30-50cm³/min，N₂15-40cm³/min。

10.如權(quán)利要求1所述的一種高質(zhì)量TiN薄膜的制備方法，其征在于：所制備TiN薄膜的厚度為0.1-4μm。