技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種氮化硼刻蝕的方法；本發(fā)明采用壓印法以表面有圖案的聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板為印章，將氧化石墨烯溶液轉(zhuǎn)印到氮化硼薄膜表面，然后在硫化鉬蒸氣中在一定溫度下保溫一定時(shí)間，在氮化硼表面刻蝕出圖案，完成PDMS表面的圖案向氮化硼表面的轉(zhuǎn)移。本發(fā)明通過(guò)二硫化鉬蒸氣催化分解氮化硼，降低了氮化硼光刻條件，方法簡(jiǎn)單、方便和可操作性強(qiáng)。

技術(shù)研發(fā)人員：金圣忠;趙士超;翁嘉鑫;呂燕飛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：杭州電子科技大學(xué)
文檔號(hào)碼：201710043653
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.19
技術(shù)公布日：2017.06.13