1.一種氮化硼刻蝕的方法，其特征在于，該方法具體步驟是：
步驟(1)、氮化硼薄膜的制備
將表面生長有300nm厚氧化層的放入石英管中；石英管中持續(xù)通入氬氣和氫氣的混合氣，氬氣與氫氣的流量比為1～3:2,將電爐溫度升至900～1000℃后保溫5～30分鐘；保溫期間向石英管內(nèi)通入硼氨烷蒸氣；保溫結(jié)束后，將石英管冷卻到常溫，冷卻速率為20～30℃/min，取出硅片，獲得生長在硅片表面的氮化硼薄膜，氮化硼薄膜的厚度為20～300nm；其中硼氨烷蒸氣通過水浴加熱硼氨烷產(chǎn)生，水浴溫度40～100℃；
步驟(2)、PDMS印章的制作
采用市售的道康寧Sylgard 184有機(jī)硅和光柵為原材料制備PDMS印章；PDMS制備過程：取道康寧Sylgard 184中的單體：引發(fā)劑10～3：1的體積比例，將它們混合，然后使用潔凈的玻璃棒不停的攪拌1～3小時；攪拌1～3小時后，得到的混合試劑是一種粘度大的試劑，將混合試劑倒在光柵上，用玻璃棒使試劑均勻的涂覆在光柵表面，靜置10～24小時；靜置完成后，于50～70℃加熱5～10小時得到PDMS彈性薄膜，將PDMS薄膜從光柵表面機(jī)械剝離獲得表面有光柵圖案的PDMS印章；
步驟(3)、氮化硼薄膜刻蝕圖案的制備
取氮化硼薄膜，在氮化硼薄膜表面滴加氧化石墨烯溶液，氧化石墨烯的濃度為0.1-10mg/ml,每平方毫米氮化硼薄膜上滴加0.02-0.1ml；然后裁剪PDMS印章，將印有光柵圖案的一面，覆蓋氮化硼薄膜表面，將氧化石墨烯溶液夾在PDMS印章和氮化硼薄膜之間，使PDMS印章與氮化硼薄膜接觸緊密；整個過程置于通風(fēng)櫥內(nèi)；6～20小時后將PDMS印章與氮化硼薄膜分離，獲得表面有氧化石墨烯刻蝕圖案的氮化硼薄膜基片；
步驟(4)、氮化硼薄膜的刻蝕
把二硫化鉬粉體放入燒杯形狀的石英坩堝中，將表面轉(zhuǎn)印有氧化石墨烯的氮化硼基片覆蓋在石英坩堝的口部，基片表面有氮化硼的面朝向石英坩堝內(nèi)部；將盛有二硫化鉬的石英坩堝和氮化硼基片放入石英管中，石英管中充入氬氣和氫氣的混合氣至1個大氣壓，氬氣與氫氣的流量比為1～3:2,將石英管溫度升至400～600℃后保溫1～12小時，停止加熱，將石英管冷卻到常溫，冷卻速率為20～30℃/min，取出氮化硼薄膜，獲得刻蝕后有一定圖形的氮化硼薄膜。