本實(shí)用新型是一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置，屬于制備二維納米薄膜領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

目前，化學(xué)氣相沉積法以及碳偏析法是大面積制備二維納米薄膜如石墨烯薄膜的技術(shù)方法，采用這兩種方法制備二維納米薄膜的設(shè)備基本上都是石英管高溫爐?；谑⒐艿母邷貭t僅具備在已有金屬催化層上合成二維納米薄膜的單一功能，即不能先后連續(xù)對(duì)襯底材料的表面進(jìn)行處理，在襯底上制備合成二維納米薄膜所需的催化層和之后的二維納米薄膜的合成。并且，采用石英管式爐合成的二維納米薄膜如石墨烯的電子傳輸性能與機(jī)械剝離法制備的具有完美晶體結(jié)構(gòu)的石墨烯的電子傳輸相比還相差很大，這種差異，主要來(lái)自于合成石墨烯使用的管式爐設(shè)備-熱場(chǎng)梯度的存在，含碳?xì)庠捶植疾痪葘?dǎo)致管式爐不能大面積制備均勻的石墨烯薄膜，已經(jīng)嚴(yán)重制約了二維納米薄膜如石墨烯薄膜技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。

現(xiàn)有設(shè)備不適合大面積制備如石墨烯等均勻的二維納米薄膜。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本實(shí)用新型目的是提供一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置，以解決現(xiàn)有設(shè)備不適合大面積制備如石墨烯等均勻的二維納米薄膜等問(wèn)題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型是通過(guò)如下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置，其結(jié)構(gòu)包括：腳架、底座、機(jī)架、殼體、電氣箱、調(diào)節(jié)面板、平臺(tái)、氣體接口、制備裝置、進(jìn)料口、觀察窗、傳送 裝置、真空裝置、顯示屏、控制面板、出料箱；所述腳架固定連接于底座下，所述底座上固定連接有機(jī)架，所述機(jī)架外設(shè)有殼體，所述底座上設(shè)有電氣箱，所述底座上設(shè)有出料箱，所述電氣箱上設(shè)有調(diào)節(jié)面板，所述電氣箱上設(shè)有顯示屏，所述電氣箱上設(shè)有控制面板，所述機(jī)架上設(shè)有平臺(tái)，所述平臺(tái)上設(shè)有制備裝置，所述制備裝置上設(shè)有氣體接口，所述制備裝置上設(shè)有進(jìn)料口，所述制備裝置上設(shè)有觀察窗，所述制備裝置上設(shè)有傳送裝置，所述制備裝置上設(shè)有真空裝置，所述制備裝置由處理腔室、加熱裝置、平衡腔室、閥、薄膜制備腔室組成。

進(jìn)一步地，所述調(diào)節(jié)面板設(shè)于殼體上。

進(jìn)一步地，所述顯示屏設(shè)于殼體上。

進(jìn)一步地，所述控制面板設(shè)于殼體上。

進(jìn)一步地，所述電氣箱、調(diào)節(jié)面板、制備裝置、傳送裝置、真空裝置、顯示屏、控制面板通過(guò)導(dǎo)線連接。

進(jìn)一步地，所述加熱裝置設(shè)于處理腔室內(nèi)。

進(jìn)一步地，所述處理腔室與平衡腔室之間設(shè)有閥。

進(jìn)一步地，所述平衡腔室之間薄膜制備腔室設(shè)有閥。

本實(shí)用新型的有益效果：具有連續(xù)制備二維納米薄膜的特點(diǎn)，可以大面積、規(guī)?；苽淙缡?、過(guò)鍍金屬硫化物、硅烯、鍺烯或氮化硼等二維納米薄膜，適應(yīng)于產(chǎn)業(yè)化發(fā)展，有助于實(shí)現(xiàn)二維納米薄膜技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化，設(shè)有的觀察窗可查看制備的實(shí)時(shí)過(guò)程。

附圖說(shuō)明

通過(guò)閱讀參照以下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本實(shí)用新型的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯：

圖1為本實(shí)用新型一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置的制備裝置結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：腳架-1、底座-2、機(jī)架-3、殼體-4、電氣箱-5、調(diào)節(jié)面板-6、平臺(tái)-7、氣體接口-8、制備裝置-9、進(jìn)料口-10、觀察窗-11、傳送裝置-12、真空裝置-13、顯示屏-14、控制面板-15、出料箱-16、處理腔室-901、加熱裝置-902、平衡腔室-903、閥-904、薄膜制備腔室-905。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體實(shí)施方式，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。

請(qǐng)參閱圖1與圖2，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：一種連續(xù)制備二維納米薄膜的裝置，其結(jié)構(gòu)包括：腳架1、底座2、機(jī)架3、殼體4、電氣箱5、調(diào)節(jié)面板6、平臺(tái)7、氣體接口8、制備裝置9、進(jìn)料口10、觀察窗11、傳送裝置12、真空裝置13、顯示屏14、控制面板15、出料箱16；所述腳架1固定連接于底座2下，所述底座2上固定連接有機(jī)架3，所述機(jī)架3外設(shè)有殼體4，所述底座2上設(shè)有電氣箱5，所述底座2上設(shè)有出料箱16，所述電氣箱5上設(shè)有調(diào)節(jié)面板6，所述電氣箱5上設(shè)有顯示屏14，所述電氣箱5上設(shè)有控制面板15，所述機(jī)架3上設(shè)有平臺(tái)7，所述平臺(tái)7上設(shè)有制備裝置9，所述制備裝置9上設(shè)有氣體接口8，所述制備裝置9上設(shè)有進(jìn)料口10，所述制備裝置9上設(shè)有觀察窗11，所述制備裝置9上設(shè)有傳送裝置12，所述制備裝置9上設(shè)有真空裝置13，所述制備裝置9由處理腔室901、加熱裝置902、平衡腔室903、閥904、薄膜制備腔室905組成，所述調(diào)節(jié)面板6設(shè)于殼體4上，所述顯示屏14設(shè)于殼體4上，所述控制面板15設(shè)于殼體4上，所述電氣箱5、調(diào)節(jié)面板6、制備裝置9、傳送裝置12、真空裝置13、顯示屏14、控制面板15通過(guò)導(dǎo)線連接，所述加熱裝置902設(shè)于處理腔室901內(nèi)，所述處理腔室901與平衡腔室903之間設(shè)有閥904，所述平衡腔室903之間薄膜制備腔室905設(shè)有閥904。

在進(jìn)行使用時(shí)，通過(guò)氣體接口8接上氣管，通入電源，通過(guò)控制面板15打開(kāi)電源開(kāi)關(guān)，通過(guò)進(jìn)料口10將材料放進(jìn)去，通過(guò)調(diào)節(jié)面板6調(diào)節(jié)裝置 的參數(shù)至合適值，通過(guò)控制面板15控制制備裝置9開(kāi)始工作，通過(guò)傳送裝置12對(duì)該設(shè)備進(jìn)行連續(xù)制備，通過(guò)觀察窗11可查看制備的實(shí)時(shí)過(guò)程，通過(guò)出料箱16可取出制備好的薄膜。

以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn),對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。

此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書(shū)按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書(shū)的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書(shū)作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。