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一種防著板及磁控濺射設(shè)備的制作方法

文檔序號(hào):12430831閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型提供一種防著板,包括多個(gè)防著塊,各防著塊在成膜腔室內(nèi)壁同向拼接設(shè)置,且相鄰防著塊之間形成間隙。所述防著塊包括阻擋部,所述阻擋部位于所述間隙內(nèi),增加了相鄰防著塊之間的間隙內(nèi)的附著面積,從而減少了穿過防著塊之間間隙到達(dá)成膜腔室內(nèi)壁的等離子體的數(shù)量,從而解決成膜腔室內(nèi)壁的污染問題,延長成膜腔室的使用壽命。而且,相鄰防著塊之間的最小間隙大于或等于預(yù)設(shè)的閾值,能夠保證相鄰防著塊受熱膨脹時(shí)不會(huì)相互干涉。

技術(shù)研發(fā)人員:肖亮;丁冬;張勛澤;樸祥秀;張浩
受保護(hù)的技術(shù)使用者:合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
文檔號(hào)碼:201620728176
技術(shù)研發(fā)日:2016.07.11
技術(shù)公布日:2016.12.14

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