1.一種有機(jī)膜蒸鍍裝置，其包括蒸鍍裝置，涂覆有有機(jī)膜的第一施體基板或者元件基板被投入到所述蒸鍍裝置中并與形成有導(dǎo)電膜的第二施體基板對(duì)置，其特征在于，
所述蒸鍍裝置對(duì)涂覆有有機(jī)膜的所述第一施體基板的導(dǎo)電膜施加電場(chǎng)以產(chǎn)生焦耳熱，從而將涂覆在所述第一施體基板上的有機(jī)膜蒸鍍到所述第二施體基板上，接著對(duì)蒸鍍有有機(jī)膜的所述第二施體基板的導(dǎo)電膜施加電場(chǎng)以產(chǎn)生焦耳熱，從而將蒸鍍?cè)谒龅诙w基板上的有機(jī)膜蒸鍍到所述元件基板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括：
涂覆裝置，用于在形成有導(dǎo)電膜的所述第一施體基板涂覆有機(jī)膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括：
加載互鎖室，用于從所述涂覆裝置接收涂覆有有機(jī)膜的所述第一施體基板并投入到所述蒸鍍裝置中，或者接收從所述蒸鍍裝置排出的所述第一施體基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置包括：
蒸鍍室；
固定臺(tái)，設(shè)置在所述蒸鍍室的一側(cè)，用于安放所述第二施體基板；
固定部，設(shè)置在所述蒸鍍室的另一側(cè)，以與所述第二施體基板對(duì)置的方式固定所述第一施體基板，并且進(jìn)行升降；
驅(qū)動(dòng)部，用于移動(dòng)所述固定部，以使所述第一施體基板接近或遠(yuǎn)離所述第二施體基板；以及
供電裝置，用于對(duì)所述第一施體基板或者所述第二施體基板的導(dǎo)電膜 施加電場(chǎng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置包括：
蒸鍍室；
固定臺(tái)，設(shè)置在所述蒸鍍室內(nèi)的一側(cè)，用于安放所述第一施體基板；
固定部，其與所述第一施體基板對(duì)置，用于固定所述第二施體基板并進(jìn)行升降；
供電裝置，用于對(duì)所述第一施體基板或者所述第二施體基板施加電場(chǎng)；以及
驅(qū)動(dòng)部，用于移動(dòng)所述固定部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，所述涂覆裝置包括：
涂覆室，形成用于收容所述第一施體基板的內(nèi)部空間；
工作臺(tái)，設(shè)置在所述涂覆室的下部，用于安放所述第一施體基板；
有機(jī)物供給裝置，用于供給有機(jī)物；以及
噴頭，從所述有機(jī)物供給裝置接收有機(jī)物，并對(duì)安放在所述工作臺(tái)上的所述第一施體基板噴射有機(jī)物，從而在所述第一施體基板上涂覆有機(jī)物。
7.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括：
側(cè)面支撐部，其設(shè)置在所述蒸鍍室中，用于對(duì)投入到所述蒸鍍室內(nèi)的所述元件基板進(jìn)行支撐。
8.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，
所述蒸鍍室中設(shè)置有朝向位于下部的工作臺(tái)的側(cè)面上部凸出且末端的一部分被折彎的下部支撐部，或者位于所述工作臺(tái)上部的一個(gè)以上的中央支撐部，以便對(duì)投入到所述蒸鍍室內(nèi)的所述元件基板進(jìn)行支撐并防止所 述元件基板的中央部位下垂。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的有機(jī)膜蒸鍍裝置，其特征在于，
所述蒸鍍裝置是與多個(gè)涂覆裝置以及裝載及卸載裝置相連的枚葉式設(shè)備的一部分，所述裝載及卸載裝置用于將所述元件基板裝載到所述蒸鍍裝置中或從所述蒸鍍裝置卸載所述元件基板。
10.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括：
蒸鍍室；
固定臺(tái)，設(shè)置在所述蒸鍍室內(nèi)的一側(cè)，用于安放第二施體基板；
固定部，與所述第二施體基板對(duì)置，用于固定第一施體基板并進(jìn)行升降；
供電裝置，用于對(duì)所述第一施體基板或者所述第二施體基板施加電場(chǎng)；以及
驅(qū)動(dòng)部，用于移動(dòng)所述固定部。
11.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括：
蒸鍍室；
固定臺(tái)，設(shè)置在所述蒸鍍室內(nèi)的一側(cè)，用于安放第一施體基板；
固定部，其與所述第一施體基板對(duì)置，用于固定第二施體基板并進(jìn)行升降；
供電裝置，用于對(duì)所述第一施體基板或者所述第二施體基板施加電場(chǎng)；以及
驅(qū)動(dòng)部，用于移動(dòng)所述固定部。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的蒸鍍裝置，其特征在于，進(jìn)一步包括：
側(cè)面支撐部，其設(shè)置在所述蒸鍍室中，用于對(duì)投入到所述蒸鍍室內(nèi)的元件基板進(jìn)行支撐。
13.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的蒸鍍裝置，其特征在于，
所述蒸鍍室中設(shè)置有朝向工作臺(tái)的側(cè)面上部凸出且末端的一部分被折彎的下部支撐部，或者位于所述工作臺(tái)上部的一個(gè)以上的中央支撐部，以便對(duì)投入到所述蒸鍍室內(nèi)的元件基板進(jìn)行支撐并防止所述元件基板的中央部位下垂。