1.抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征主要包括如下步驟：
步驟一，鈦片機(jī)械拋光處理
在拋光機(jī)上用240、600、1200和2400目金剛砂依次將鈦片打磨，至表面光滑，將拋光鈦片依次置于丙酮、無水乙醇和去離子水中各超聲清洗10-15分鐘，室溫下自然干燥，備用；
步驟二，制備ZnO種子層
將步驟一得到的拋光鈦片作為基底，采用溶膠-凝膠法或原子層沉積法或高真空磁控濺射法鍍一層均勻的ZnO種子層；
步驟三，制備ZnO納米棒
將步驟二得到的涂有ZnO種子層的基底倒置懸浮在含0.015-0.025mol/L六水硝酸鋅、0.015-0.025mol/L六次甲基四胺的水溶液中，水熱反應(yīng)溫度為70-90℃，水熱反應(yīng)時間為3-6小時，反應(yīng)后自然冷卻，取出基底后用去離子水清洗后干燥后即為ZnO納米棒。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，步驟二所述的溶膠-凝膠法，具體步驟為：
1)配制0.35-0.85mol/L二水合乙酸鋅和0.35-0.85mol/L乙醇胺的乙醇溶液，之后持續(xù)攪拌2-4小時得到無色透明膠體并在室溫下保存20-24小時，待溶膠充分陳化，即獲得前驅(qū)體溶液；
2)使用旋轉(zhuǎn)涂覆儀涂覆20-30μL前驅(qū)體溶液到鈦片上，前期500-1000轉(zhuǎn)持續(xù)10-15秒，后期3000-5000轉(zhuǎn)持續(xù)20-30秒，之后用氮?dú)獯蹈桑窟^程重復(fù)2次；
3)之后將涂覆有種子層的鈦片在400-500℃燒制40-60分鐘，緩慢降至室溫。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，對于原子層沉積法，具體方法為：
1)以二乙基鋅和水做為鋅源和氧源制備氧化鋅溶液作為前驅(qū)體，然后對基底進(jìn)行沉積，具體為在沉積溫度為80-100℃，沉積壓強(qiáng)為20-40Pa，沉積流量為10-20的條件下，以通水
脈沖0.1s、高純氮清洗20s、二乙基鋅脈沖0.1s、高純氮清洗20s作為一個循環(huán)進(jìn)行沉積，循環(huán)次數(shù)為200-300，在基底上獲得ZnO種子層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，對于高真空磁控濺射法，具體方法為：
1)利用射頻磁控濺射，先讓壓力降到6.0×10-4Pa以下，然后通高純氬作為工作氣體到壓力為2.0-3.0Pa，濺射溫度為15-25℃，濺射功率為100-120W，濺射時間80-120秒。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，步驟1)的二水合乙酸鋅的濃度為0.75mol/L、乙醇胺的濃度為0.75mol/L。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，步驟2)的旋涂參數(shù)為前期1000轉(zhuǎn)持續(xù)15s，后期5000轉(zhuǎn)持續(xù)30s。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，步驟3)的燒制參數(shù)為500℃下60分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，步驟1)的反應(yīng)沉積溫度為100℃、沉積壓強(qiáng)為40Pa、沉積流量為20、反應(yīng)循環(huán)次數(shù)為300。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，步驟1)的濺射溫度為25℃、濺射功率為120W、濺射時間120s。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗菌疏水性ZnO納米棒的制備方法，其特征在于，步驟3)的六水硝酸鋅的濃度為0.025mol/L、六次甲基四胺的濃度為0.025mol/L。