本發(fā)明涉及退火隔離劑，具體地指一種提高低溫鑄坯加熱高磁感取向硅鋼底層質(zhì)量的退火隔離劑。

背景技術(shù)：

取向硅鋼大量用作磁性鐵芯材料，要求其磁通密度(B₈)高，鐵損(P_17/50)低。低溫鑄坯加熱工藝因其生產(chǎn)的高磁感取向硅鋼的磁性能明顯優(yōu)于傳統(tǒng)工藝生產(chǎn)的高磁感取向硅鋼，且其具有節(jié)能、環(huán)保及低成本的優(yōu)點，因此，低溫鑄坯加熱工藝得到了廣泛應(yīng)用。

在實際生產(chǎn)中，采用低溫鑄坯加熱工藝生產(chǎn)的高磁感取向硅鋼Als含量低，需要在脫碳退火過程增加滲氮處理，使抑制劑的抑制力增強(qiáng)，完善二次再結(jié)晶，然而滲氮處理容易造成氧化層SiO₂薄膜破壞，后續(xù)的高溫退火過程中AlN分解放出的N₂氣形成氣泡，氣泡破裂容易使得基體露出，從而容易引起底層形成不良，造成底層缺陷。

中國專利申請CN200510110899.3公開了一種具有良好底層的低溫加熱生產(chǎn)取向硅鋼的方法，其提出主要通過控制脫碳退火和滲氮過程的露點，并在隔離劑中加入Na、K、Zn、Ca、Zr、Sr、Ti、Sb的氧化物或鹽類，使底層形成優(yōu)良和均勻。中國專利申請CN201110108269.8公開了一種具有優(yōu)異磁性能和良好底層的高磁感取向硅鋼生產(chǎn)方法，其提出通過解決滲氮后板內(nèi)氮穩(wěn)定性問題，使高溫退火過程中二次再結(jié)晶完善，可獲得無露晶和霜降缺陷的良好底層高磁感取向硅鋼。中國專利申請CN201310686022.3公開了一種底層質(zhì)量優(yōu)良的取向硅鋼的生產(chǎn)方法，其主要通過控制脫碳退火后鋼板的氧含量和退火隔離劑中的水含量，以及脫碳和滲氮工藝過程來獲得底層質(zhì)量優(yōu)良的取向硅鋼。中國專利申請CN201310026686.7公開了一種取向硅鋼隔離涂層的涂料配方，提出采用輕質(zhì)氧化鎂和納米氧化鎂的配方，并控制去離子水的電導(dǎo)率來改善底層質(zhì)量問題。以上文獻(xiàn)中所提供的方法，要么隔離劑成本過高，要么工藝流程復(fù)雜，而且所獲得的鋼板底層質(zhì)量仍有待提高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的就是要提供一種提高低溫鑄坯加熱高磁感取向硅鋼底層質(zhì)量的退火隔離劑，該退火隔離劑大幅提高高磁感取向硅鋼底層質(zhì)量。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：一種提高低溫鑄坯加熱高磁感取向硅鋼底層質(zhì)量的退火隔離劑，包括以下組分及質(zhì)量含量：

硅鋼級氧化鎂：9～14％；

TiO₂：0.3～1.0％；

Sb₂(SO₄)₃：0.05～1.2％；

余量：水；

所述硅鋼級氧化鎂的檸檬酸活性值為50～120sec，粘度為15～60C.P。

進(jìn)一步地，包括以下組分及質(zhì)量含量：

硅鋼級氧化鎂：9～12％；

TiO₂：0.5～0.7％；

Sb₂(SO₄)₃：0.5～0.65％；

余量：水；

所述硅鋼級氧化鎂的檸檬酸活性值為80～95sec，粘度為18～56C.P。

進(jìn)一步地，所述硅鋼級氧化鎂中的B含量為0.055～0.08％。

進(jìn)一步地，所述硅鋼級氧化鎂的粒度分布為：D10<2.5μm，D50<6μm，D90<16μm。

進(jìn)一步地，所述退火隔離劑干燥后帶入的水分量為干燥后退火隔離劑總重量的1.5～3.0％，1000℃灼減為干燥后退火隔離劑總重量的0.3～1.0％。

進(jìn)一步地，所述硅鋼級氧化鎂中的B含量為0.055～0.075％。

更進(jìn)一步地，所述硅鋼級氧化鎂的粒度分布為：D10為1.2～2.5μm，D50為3.2～5.1μm，D90為10.9～15.9μm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點：

其一，本發(fā)明的退火隔離劑解決了目前低溫鑄坯加熱高磁感取向硅鋼的最大問題，即：底層缺陷問題，使得涂層外觀優(yōu)良，附著性達(dá)到C級以上，層間電阻大，進(jìn)而提升了高磁感取向硅鋼的產(chǎn)品質(zhì)量。

其二，本發(fā)明的退火隔離劑可顯著降低低溫高磁感取向硅鋼的底層讓步率，一方面有利于擴(kuò)大低溫高磁感取向硅鋼的產(chǎn)能，大幅降低高磁感取向硅鋼的生產(chǎn)成本，另一方面可進(jìn)一步提升取向硅鋼產(chǎn)品的外觀品質(zhì)，增強(qiáng)市場競爭力。

其三，本發(fā)明的退火隔離劑通過優(yōu)化控制退火隔離劑的各項性能指標(biāo)，提供了一種獲得具有優(yōu)良底層的低溫鑄坯加熱高磁感取向硅鋼的途徑。其中，在硅鋼級氧化鎂中加入B元素有利于硅酸鎂底層的形成；另外，硅鋼級氧化鎂活性過低，容易反應(yīng)不完全，底層形成不均勻，活性過高，則容易破壞基體，鋼板磁性降低，本發(fā)明將硅鋼級氧化鎂的檸檬酸活性值控制在50～120sec，粘度15～60C.P，使得形成均勻的鎂橄欖石膜底層；而且，本發(fā)明還通過嚴(yán)格控制硅鋼級氧化鎂的粒度，避免因高溫退火過程氧化鎂顆粒團(tuán)聚而使鋼板底層產(chǎn)生缺陷。

其四，本發(fā)明的退火隔離劑干燥后帶入的水分量控制在1.5～3.0％，1000℃灼減為0.3～1.0％，嚴(yán)格控制硅鋼級氧化鎂中帶入的游離水分，避免高溫退火過程退火隔離劑中的水分揮發(fā)造成底層缺陷。

具體實施方式

下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，便于更清楚地了解本發(fā)明，但它們不對本發(fā)明構(gòu)成限定。

以下實施例及對比例中采用的高磁感取向硅鋼熱軋板的組分及質(zhì)量百分比如下：C：0.02～0.05％，Si：3.2～3.5％，Mn：0.10～0.16％，S：0.02～0.03％，Als：0.025～0.035％，N：0.005～0.008％，P：0.015～0.035％，S≤0.007％，余量由Fe和不可避免的雜質(zhì)。

實施例1～8

對高磁感取向硅鋼熱軋板冷軋后進(jìn)行脫碳退火和滲氮處理，滲氮結(jié)束后涂布本發(fā)明的退火隔離劑，在環(huán)形爐中進(jìn)行高溫退火，高磁感取向硅鋼鋼板表面形成底層。其中，退火隔離劑的組分配比(余量為水)和性能指標(biāo)見下表1。底層性能結(jié)果數(shù)據(jù)見下表2。

對比例9～10(D9～D10)

對高磁感取向硅鋼熱軋板冷軋后進(jìn)行脫碳退火和滲氮處理，滲氮結(jié)束后涂布退火隔離劑，在環(huán)形爐中進(jìn)行高溫退火，高磁感取向硅鋼鋼板表面形成底層。其中，該退火隔離劑的組分配比(余量為水)和性能指標(biāo)見下表1。底層性能結(jié)果數(shù)據(jù)見下表2。

表1

表2

從表2可以看出，相比對比例9和對比例10中的退火隔離劑，采用本發(fā)明的退火隔離劑獲得了優(yōu)良的底層質(zhì)量，涂層外觀優(yōu)良，附著性達(dá)到B級或C級，層間電阻大。