技術(shù)總結(jié)
一種陽(yáng)極膜線性離子源輔助立方氮化硼涂層刀具的制備方法，其特征是它的主要步驟有：刀具襯底的預(yù)處理；將襯底放入陽(yáng)極膜線性離子源輔助射頻磁控濺射沉積系統(tǒng)中沉積立方氮化硼（cBN）涂層，沉積具體參數(shù)：N2和Ar的流量分別為5?10sccm、25?40sccm，襯底置于靶材上方約90mm，襯底負(fù)偏壓100?220V，襯底溫度為600?900?C，射頻功率300W，陽(yáng)極膜線性離子源功率100?300W，本底真空度5×10?4Pa，沉積氣壓0.5Pa，沉積時(shí)間4?5h。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單、操作較容易，涂層與基底結(jié)合性能得到明顯提升，刀具韌性得到極大提高。

技術(shù)研發(fā)人員：徐鋒;葉鵬;吳金鑫;田帥;左敦穩(wěn)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南京航空航天大學(xué)
文檔號(hào)碼：201610688091
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.19
技術(shù)公布日：2016.11.16