本發(fā)明涉及用于在基板上成膜而形成薄膜圖案的成膜掩模，特別是涉及可實(shí)現(xiàn)具備觸摸面板的顯示裝置的顯示質(zhì)量的提高的成膜掩模、成膜掩模的制造方法和觸摸面板。

背景技術(shù)：

在現(xiàn)有的這種成膜掩模中，以橫穿上述開口部的方式將加強(qiáng)線連接到至少具有1個(gè)以上的開口部的掩模部分的一面，在上述掩模部分的另一面與上述加強(qiáng)線之間存在間隙(例如參照專利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：特開平10－330910號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問題

但是，在這種現(xiàn)有的成膜掩模中，加強(qiáng)線僅是橫穿開口部地將多個(gè)細(xì)線平行地排列設(shè)置、或僅形成為網(wǎng)格狀，關(guān)于加強(qiáng)線的排列間距，沒有進(jìn)行任何考慮。因而，在使用這種成膜掩模進(jìn)行成膜而形成了例如觸摸面板的透明電極的情況下，有可能由于轉(zhuǎn)印到透明電極表面的上述加強(qiáng)線的陰影而產(chǎn)生作為膜厚不勻的莫爾條紋、衍射條紋。因此，有可能使具備觸摸面板的顯示裝置的顯示質(zhì)量降低。

因此，本發(fā)明的目的在于應(yīng)對(duì)這種問題，提供能實(shí)現(xiàn)提高具備觸摸面板的顯示裝置的顯示質(zhì)量的成膜掩模、成膜掩模的制造方法和觸摸面板。

用于解決問題的方案

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的成膜掩模具備：掩模層，其與在基板上成膜形成的薄膜圖案對(duì)應(yīng)地具有與該薄膜圖案的形狀尺寸相同的開口圖案；以及支撐層，其具有橫穿上述開口圖案而設(shè)置于上述掩模層的一個(gè)面的多個(gè)細(xì)線，上述支撐層的細(xì)線的排列間距設(shè)為能抑制由于作為成膜的膜厚不勻而轉(zhuǎn)印到上述薄膜圖案上的上述細(xì)線的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生的尺寸。

另外，本發(fā)明的成膜掩模的制造方法進(jìn)行：第1步驟，與在基板上成膜形成的薄膜圖案對(duì)應(yīng)，在金屬母材上通過電鍍形成具有與該薄膜圖案的形狀尺寸相同的開口圖案的磁性金屬材料的掩模層；以及第2步驟，其在上述掩模層的一個(gè)面通過電鍍形成橫穿上述開口圖案而具有多個(gè)細(xì)線的磁性金屬材料的支撐層，在上述第2步驟中，按能抑制由于作為成膜的膜厚不勻而轉(zhuǎn)印到上述薄膜圖案上的上述細(xì)線的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生的排列間距形成上述支撐層的細(xì)線。

而且，本發(fā)明的觸摸面板具有使用成膜掩模從上述支撐層側(cè)成膜形成于顯示元件的顯示面的透明電極，上述成膜掩模具備：掩模層，其具有與成膜形成的透明電極的形狀尺寸相同的開口圖案；以及支撐層，其具有橫穿上述開口圖案而設(shè)置于上述掩模層的一個(gè)面的多個(gè)細(xì)線，在上述觸摸面板中，作為成膜的膜厚不勻而轉(zhuǎn)印到上述透明電極上的上述細(xì)線的陰影的排列間距是能抑制由于該細(xì)線的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生的尺寸。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明的成膜掩模，能抑制由成膜的膜厚不勻而轉(zhuǎn)印到薄膜圖案上的支撐層的細(xì)線的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生。因而，在使用本發(fā)明的成膜掩模形成了觸摸面板的透明電極的情況下，也能在顯示畫面中不產(chǎn)生莫爾條紋、衍射條紋，實(shí)現(xiàn)顯示裝置的顯示質(zhì)量的提高。

附圖說明

圖1是表示本發(fā)明的成膜掩模的一實(shí)施方式的圖，(a)是平面圖，(b)是(a)的中心線截面圖，(c)是主要部分放大平面圖，(d)是(c)的A－A線截面向視圖。

圖2是上述實(shí)施方式的掩模層的局部放大平面圖。

圖3是表示上述實(shí)施方式的支撐層與顯示面板之間的間隙變動(dòng)時(shí)的支撐線的陰影的發(fā)生狀況的實(shí)驗(yàn)例，(a)是表示支撐線的陰影的發(fā)生狀況的截面圖，(b)是表示支撐層與顯示面板之間的間隙的變動(dòng)的截面圖。

圖4是表示上述實(shí)施方式的支撐層與顯示面板之間的間隙變大時(shí)的支撐線的陰影的發(fā)生狀況的實(shí)驗(yàn)例，(a)是表示支撐線的陰影的發(fā)生狀況的截面圖，(b)是表示在支撐層與顯示面板之間存在相當(dāng)于掩模層的間隙的截面圖。

圖5是表示支撐線相對(duì)于像素圖案的排列方向的設(shè)置方法的說明圖，(a)表示平行排列的多個(gè)支撐線以與像素圖案的排列方向按90°交叉的方式設(shè)置的情況，(b)表示以格子狀交叉的多個(gè)支撐線以與像素圖案的排列方向按45°交叉的方式設(shè)置的情況。

圖6是表示上述實(shí)施方式的支撐層的支撐線的一構(gòu)成例的平面圖。

圖7是說明上述支撐層的支撐線的效果的平面圖，(a)表示沒有支撐層的情況，(b)表示有支撐層的情況。

圖8是以支撐線的排列間距為參數(shù)表示可視光的波長與產(chǎn)生的干擾條紋的間隔的關(guān)系的坐標(biāo)圖。

圖9是表示上述實(shí)施方式的支撐層的支撐線的其它構(gòu)成例的圖，(a)表示支撐線的陰影的發(fā)生狀況，(b)是與(a)對(duì)應(yīng)表示的支撐層的截面圖。

圖10是表示上述實(shí)施方式的支撐層的支撐線的另一構(gòu)成例的平面圖。

圖11是表示本發(fā)明的成膜掩模的制造方法中的掩模層形成工序的說明圖。

圖12是表示本發(fā)明的成膜掩模的制造方法中的支撐層形成工序的說明圖。

圖13是表示本發(fā)明的成膜掩模的制造方法中的框架連接工序的說明圖。

具體實(shí)施方式

以下，基于附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施方式。圖1是表示本發(fā)明的成膜掩模的一實(shí)施方式的圖，(a)是平面圖，(b)是(a)的中心線截面圖，(c)是主要部分放大平面圖，(d)是(c)的A－A線截面向視圖。該成膜掩模用于在基板上成膜而形成薄膜圖案，構(gòu)成為具備掩模層1、支撐層2和框架3。此外，在此說明基板是顯示裝置的顯示面板5、薄膜圖案是觸摸面板的透明電極的情況。

上述掩模層1與在顯示面板的顯示面上成膜形成的透明電極(薄膜圖案)對(duì)應(yīng)而具有與該透明電極的形狀尺寸相同的開口圖案4，包括例如鎳、鎳合金、殷鋼或者殷鋼合金等磁性金屬材料。

圖2是上述掩模層1的局部放大平面圖。在該圖中，空白部分是與透明電極對(duì)應(yīng)的開口圖案4，相鄰的開口圖案4的分隔壁4a的寬度最小為10μm程度。此外，具體地說，開口圖案4的平面面積大的開口部與觸摸面板的電極部對(duì)應(yīng)，從該電極部延伸的細(xì)線狀開口部與連接到省略圖示的控制部的引出線對(duì)應(yīng)。

掩模層1的厚度對(duì)形成于透明電極表面的后述的支撐層2的細(xì)線(以下稱為“支撐線2a”)的陰影的濃度和透明電極的表面電阻帶來影響。在此，所謂上述支撐線2a的陰影是指透明導(dǎo)電膜的位于支撐線2a的下側(cè)的部分且膜厚比其它部分的膜厚薄的部分。因而，在位于透明導(dǎo)電膜的支撐線2a的下側(cè)的部分的膜厚與其它部分的膜厚的差變大時(shí)，支撐線2a的陰影變濃且清楚。同時(shí)，透明電極的表面電阻值變大。另一方面，在上述膜厚的差變小時(shí)，支撐線2a的陰影變得模糊且淡。同時(shí)，透明電極的表面電阻值變小。

具體地說，在掩模層1的厚度變薄時(shí)，支撐線2a與顯示面板5的顯示面之間的間隙變小，繞到支撐線2a的下側(cè)而附著于顯示面的成膜材料變少。由此，透明導(dǎo)電膜的位于支撐線2a的下側(cè)的部分的膜厚與其它部分的膜厚的差變大，形成于透明電極表面的支撐線2a的陰影變濃且清楚。因而，易于發(fā)生由支撐線2a的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋，并且透明電極的表面電阻值變大。

圖3是表示支撐層2與顯示面板5的顯示面之間的間隙變動(dòng)時(shí)的支撐線2a的陰影的發(fā)生狀況的實(shí)驗(yàn)例。在該圖中，示出了這樣的情況:在左側(cè)，支撐層2被配置于顯示面板5的里面的磁鐵14吸引而與顯示面板5的顯示面貼緊，隨著往右側(cè)而在支撐層2與顯示面板5的顯示面之間產(chǎn)生間隙，在右端該間隙成為約10μm的情況(參照?qǐng)D3(b))。如從圖3(a)可知，支撐線2a的陰影越往左側(cè)越清楚，越往在支撐層2與顯示面板5的顯示面之間產(chǎn)生間隙的右側(cè)，支撐線2a的陰影越模糊。

反之，如圖4(b)所示，在掩模層1的厚度變厚時(shí)，支撐線2a與顯示面板5的顯示面之間的間隙變大，繞到支撐線2a的下側(cè)而附著于顯示面板5的顯示面的成膜材料變多。由此，位于透明導(dǎo)電膜的支撐線2a的下側(cè)的部分的膜厚與其它部分的膜厚的差變小，如圖4(a)所示，形成于透明電極表面的支撐線2a的陰影變得模糊且變淡。因而，可抑制由支撐線2a的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋的發(fā)生，并且透明電極的表面電阻值變小。圖4是表示在掩模層1的厚度(支撐層2與顯示面板5的顯示面之間的間隙)為約40μm時(shí)的支撐線2a的陰影的發(fā)生狀況的實(shí)驗(yàn)例。

一般地，觸摸面板中的例如ITO(Indium Tin Oxide：銦錫氧化物)透明電極的表面電阻值只要是40Ω/sq.以下即可，可通過實(shí)驗(yàn)適當(dāng)?shù)貨Q定掩模層1的厚度。在本實(shí)施方式中，掩模層1的厚度設(shè)定為約40μm。

上述掩模層1包括位于開口圖案4的內(nèi)部且從下支撐支撐層2的支撐線2a的間隔物6(參照?qǐng)D1(c)、(d))。該間隔物6具有與掩模層1相同的厚度(約40μm)，橫截面呈約10μm×約30μm的細(xì)長的細(xì)片狀，其長軸與支撐層2的支撐線2a交叉設(shè)置(參照?qǐng)D1(c))。由此，能使支撐層2的支撐線2a相對(duì)于上述間隔物6的形成位置精度寬松。

另外，優(yōu)選支撐線2a與間隔物6的交叉角度θ₁是0°＜θ₁＜180°。在以間隔物6的長軸與支撐線2a的延伸設(shè)置方向一致的方式設(shè)置間隔物6的情況下，在用磁鐵14吸引成膜掩模而使成膜掩模與顯示面板5貼緊時(shí)，支撐線2a有可能發(fā)生彎曲而使間隔物6傾斜。在該情況下，有可能使支撐線2a與顯示面板5接近而導(dǎo)致支撐線2a的陰影變得顯著。另一方面，在以間隔物6的長軸與支撐線2a按上述角度θ₁交叉的方式設(shè)置間隔物6的情況下，即使支撐線2a發(fā)生彎曲，間隔物6也不易傾斜。因而，支撐線2a不會(huì)與顯示面板5接近，可抑制支撐線2a的陰影的形成。此外，在本實(shí)施方式中設(shè)為θ₁＝45°。

在上述掩模層1的一個(gè)面1a中，覆蓋圖1(a)的由虛線包圍的開口圖案4的形成區(qū)域而設(shè)有支撐層2。該支撐層2用于將開口圖案4維持為一定形狀，具有橫穿開口圖案4設(shè)置的多個(gè)支撐線2a。并且，例如由鎳、鎳合金、殷鋼或者殷鋼合金等磁性金屬材料形成。在該情況下，優(yōu)選上述支撐線2a的排列間距是能抑制由于作為向顯示面板5的顯示面上成膜的透明導(dǎo)電膜的膜厚不勻而轉(zhuǎn)印到透明電極上的上述支撐線2a的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生的尺寸。

而且，如圖1(c)所示，更優(yōu)選在顯示面板5和掩模層1被定位的狀態(tài)下，按大于0度且小于180度的角度θ₂(0°＜θ₂＜180°)與在顯示面板5排列為一列而形成的多個(gè)矩形形狀像素圖案R、G、B的各排列方向交叉的方式設(shè)置支撐線2a。圖5是表示支撐線2a相對(duì)于像素圖案R、G、B的各排列方向的設(shè)置方法的說明圖。此外，在此為了避免附圖變得復(fù)雜而省略掩模層1。該圖(a)表示平行排列的多個(gè)支撐線2a以按90°與像素圖案R、G、B的各排列方向交叉的方式設(shè)置的情況，該圖(b)表示以格子狀交叉的多個(gè)支撐線2a以按45°與像素圖案R、G、B的各排列方向交叉的方式設(shè)置的情況。由此，可抑制轉(zhuǎn)印到顯示面板5的透明電極的支撐線2a的陰影與像素的干涉，可抑制莫爾條紋的發(fā)生。

圖6是表示支撐層2的支撐線2a的一構(gòu)成例的平面圖。在該圖所示的構(gòu)成例中，支撐層2的多個(gè)支撐線2a橫豎交叉而呈網(wǎng)格狀的構(gòu)成。由此，如圖7(a)所示，在未設(shè)有支撐線2a的成膜掩模中，如在圖7(a)中用箭頭所示，將掩模層1拉伸固定于后述的框架3時(shí)，開口圖案4的形狀有時(shí)會(huì)變形，但在本發(fā)明中，橫穿開口圖案4而設(shè)有網(wǎng)格狀的支撐線2a，因此即使對(duì)掩模層1和支撐層2如在圖7(b)中用箭頭所示施加張力，也可維持開口圖案4的形狀。

圖8是將支撐線2a的排列間距作為參數(shù)表示透射過顯示面板5的顯示面的可視光的波長與產(chǎn)生的干涉條紋的間隔的關(guān)系的坐標(biāo)圖。一般，如果干涉條紋的間隔是100μm～200μm程度以下，則不易看到干涉條紋。因而，根據(jù)圖8，優(yōu)選支撐線2a的排列間距設(shè)定為1mm以上。

此外，支撐層2不限于如圖6所示支撐線2a形成為網(wǎng)格狀，支撐線2a也可以在掩模層1的一個(gè)面1a中沿二維平面內(nèi)的一個(gè)方向延伸設(shè)置。在該情況下，如圖9(b)所示，可以以具有相互不同的間隔的多個(gè)支撐線2a為1組按一定的排列間距(例如2mm～3mm程度的長周期)配置有多組。由此，也能抑制由圖9(a)所示的上述支撐線2a的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生。

而且，如圖10所示，在掩模層1的開口圖案4對(duì)應(yīng)于設(shè)計(jì)為開口圖案4的邊緣部(分隔壁4a)相對(duì)于按各色的像素圖案R、G、B的排列方向延伸并形成為條紋狀的彩色濾光片不平行而是按預(yù)先決定的規(guī)定角度交叉的透明電極的情況下，支撐層2也可以使以0°＜θ₂＜180°的角度θ₂與上述條紋狀的彩色濾光片(與像素圖案R、G、B的各排列方向一致)交叉的多個(gè)支撐線2a平行配置。由此，可抑制彩色濾光片與透明電極之間的莫爾條紋的發(fā)生，并且還可抑制彩色濾光片與支撐線2a的陰影之間的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生。另外，在該情況下，支撐線2a的排列間距即使縮窄為500μm程度，也可抑制莫爾條紋的發(fā)生。

在上述掩模層1的一個(gè)面1a設(shè)有框架3。該框架3用于在使掩模層1與該面平行地伸展的狀態(tài)下保持掩模層1，是具有內(nèi)置支撐層2的大小的開口部的框狀的殷鋼或者殷鋼合金等的磁性金屬構(gòu)件，其端面3a與掩模層1的一個(gè)面1a的周緣部被點(diǎn)焊連接。

接著，說明這樣構(gòu)成的成膜掩模的制造方法。

進(jìn)行如下步驟來制造本發(fā)明的成膜掩模：第1步驟，與在顯示面板5的顯示面上成膜形成的透明電極對(duì)應(yīng)地通過電鍍?cè)诮饘倌覆纳闲纬删哂信c該透明電極的形狀尺寸相同的開口圖案4的磁性金屬材料的掩模層1；第2步驟，通過電鍍?cè)谏鲜鲅谀?的一個(gè)面1a橫穿上述開口圖案4而形成具有多個(gè)支撐線2a的磁性金屬材料的支撐層2；以及第3步驟，將上述掩模層1的一個(gè)面1a的周緣部連接到框狀的框架3。以下詳細(xì)說明各步驟。

圖11是說明上述第1步驟的圖，是表示掩模層形成工序的說明圖。

首先，如圖11(a)所示，在金屬母材7上的平坦面涂敷光致抗蝕劑8。此時(shí)，光致抗蝕劑8按與要形成的掩模層1大致相同的40μm程度的厚度涂敷。

接著，如圖11(b)所示，使用光掩模對(duì)上述光致抗蝕劑8進(jìn)行曝光和顯影，與要形成的開口圖案4對(duì)應(yīng)地形成與該開口圖案4的形狀尺寸相同的島圖案9。同時(shí)，在島圖案9的內(nèi)側(cè)，與要形成的間隔物6對(duì)應(yīng)地按到達(dá)金屬母材7的表面的深度形成與該間隔物6的形狀尺寸相同的槽10。另外，也可以在開口圖案形成區(qū)域外的預(yù)先決定的位置形成用于與顯示面板5對(duì)齊的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記用的島圖案。

接下來，將上述金屬母材7浸漬在鎳等磁性金屬材料的電鍍?cè)≈?，如圖11(c)所示，通過電鍍將磁性金屬材料11A按40μm程度的厚度形成于在上述島圖案9的外側(cè)9a和槽10內(nèi)露出的金屬母材7的表面。由此，在金屬母材7上形成掩模層1。

圖12是說明上述第2步驟的圖，是表示支撐層形成工序的說明圖。

首先，如圖12(a)所示，在形成于上述金屬母材7上的掩模層1上涂敷光致抗蝕劑8。此時(shí)，光致抗蝕劑8按與要形成的支撐層2大致相同的10μm程度的厚度涂敷。

接著，如圖12(b)所示，使用光掩模對(duì)上述光致抗蝕劑8進(jìn)行曝光和顯影，與如圖1(c)所示的例如橫豎交叉而延伸的支撐線2a對(duì)應(yīng)地按到達(dá)上述掩模層1的深度形成與該支撐線2a的形狀尺寸相同的槽12。此外，圖12(b)是在與支撐線2a對(duì)應(yīng)地左右延伸的槽12的中央位置截?cái)嗟慕孛鎴D。

接下來，將上述金屬母材7浸漬在鎳等磁性金屬材料的電鍍?cè)≈校鐖D12(c)所示，通過電鍍將支撐層2的磁性金屬材料11B按10μm程度的厚度形成于在上述槽12內(nèi)露出的掩模層1的磁性金屬材料11A的表面(相當(dāng)于開口圖案4的分隔壁4a的上表面和間隔物6的上表面)。由此，通過2階段的電鍍?cè)诮饘倌覆?上形成掩模層1和支撐層2。

之后，將金屬母材7在溶劑中或者光致抗蝕劑8的剝離液中洗凈，使光致抗蝕劑8溶解而除去。而且，從金屬母材7一體地剝離掩模層1和支撐層2。由此，形成了圖1(c)、(d)所示的掩模片13，在該掩模片13中，形成有開口圖案4和間隔物6的掩模層1以及形成有多個(gè)支撐線2a的支撐層2成為一體。在該情況下，在設(shè)有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記用的島圖案時(shí)，在掩模片13中還形成有與上述島圖案對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的開口。

圖13是說明上述第3步驟的圖，是表示框架連接工序的說明圖。

首先，如圖13(a)所示，在使在一個(gè)面1a具備支撐層2的掩模層1的該一個(gè)面1a與框狀的框架3的端面3a面對(duì)面的狀態(tài)下，對(duì)掩模片13向與該面平行的側(cè)方(圖13(a)所示的箭頭方向)賦予一定的張力而沿框架3拉伸掩模片13。

接下來，如圖13(b)所示，對(duì)掩模片13的周緣區(qū)域照射激光L，將掩模片13點(diǎn)焊到框架3的端面3a。由此，本發(fā)明的成膜掩模完成。

接著，說明使用了本發(fā)明的成膜掩模的觸摸面板的制造。

現(xiàn)有的觸摸面板的制造實(shí)施了如下工序：利用氟酸從兩面蝕刻顯示面板5而減小厚度，并且通過蝕刻研磨并除去增加了深度的表面損傷；在顯示面的整個(gè)面中濺射形成ITO的透明導(dǎo)電膜；在該透明導(dǎo)電膜上涂敷光致抗蝕劑，使用光掩模進(jìn)行曝光和顯影而形成抗蝕劑掩模；以及使用該抗蝕劑掩模蝕刻上述透明導(dǎo)電膜，形成透明電極。因而，存在制造工序復(fù)雜且運(yùn)行成本變高的問題。

觸摸面板對(duì)透明電極的圖案不要求高分辨率且位置精度也可以寬松。因此，本發(fā)明的觸摸面板在利用氟酸從兩面蝕刻顯示面板5而減小厚度后，使用本發(fā)明的成膜掩模濺射形成透明導(dǎo)電膜，在顯示面板5的顯示面直接形成透明電極。

此外，在本發(fā)明的觸摸面板的制造中，顯示面板5的表面的損傷不會(huì)對(duì)透明電極的形成帶來任何不良影響，因此能省略用于通過蝕刻將使深度增加了的表面損傷除去的研磨工序。因而，在本發(fā)明的觸摸面板的制造中，有與以往的制造方法相比能縮短制造工序并能降低運(yùn)行成本的效果。

以下，詳細(xì)說明本發(fā)明的觸摸面板的制造，特別是透明電極的形成工序。

首先，將顯示面板5以顯示面為ITO靶側(cè)設(shè)置、固定到例如濺射成膜裝置的真空室內(nèi)的基板支架。在該情況下，在基板支架內(nèi)置有磁鐵14(參照?qǐng)D9)。

另一方面，將本發(fā)明的成膜掩模以掩模層1側(cè)為顯示面板5側(cè)設(shè)置、固定到上述濺射成膜裝置的掩模支架。

接著，在使顯示面板5與成膜掩模面對(duì)面的狀態(tài)下，例如通過照相機(jī)觀察而使預(yù)先形成于顯示面板5的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與成膜掩模的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)齊，進(jìn)行顯示面板5與成膜掩模的對(duì)準(zhǔn)。

接下來，使內(nèi)置于基板支架的磁鐵14的磁力作用于成膜掩模的磁性金屬材料，吸引成膜掩模，使掩模層1與顯示面板5的顯示面貼緊。

之后，關(guān)閉真空室的蓋，排出室內(nèi)的空氣直至真空室內(nèi)的真空度成為規(guī)定的真空度為止。在室內(nèi)的真空度達(dá)到規(guī)定的真空度時(shí)，導(dǎo)入規(guī)定量的例如氬(Ar)氣等稀有氣體。并且，對(duì)基板支架與保持有ITO靶的靶支架之間施加高電壓。由此，在顯示面板5與ITO靶之間生成等離子體，開始透明導(dǎo)電膜的濺射。

由于等離子體的生成而被離子化的氬離子被吸引向靶側(cè)而與靶碰撞，將ITO的靶粒子彈飛。被彈飛的靶粒子朝向顯示面板5飛射，通過成膜掩模的相鄰的支撐線2a的間隙而堆積到顯示面板5的顯示面。由此，在顯示面板5的顯示面上，與掩模層1的開口圖案4對(duì)應(yīng)地形成透明導(dǎo)電膜，形成觸摸面板的透明電極。在該情況下，在上述支撐線2a與顯示面板5的顯示面之間存在與掩模層1的厚度相同的約40μm的間隙，因此上述靶粒子還會(huì)繞到支撐線2a的下側(cè)，還會(huì)堆積到支撐線2a的下側(cè)的顯示面。

上述透明電極的與支撐線2a的下側(cè)對(duì)應(yīng)的部分的膜厚比其它部分的膜厚薄。因而，基于上述膜厚的差而在透明電極中形成有支撐線2a的陰影。因此，由于該支撐線2a的陰影而有可能在顯示面中產(chǎn)生莫爾條紋或者衍射條紋。但是，在本發(fā)明的成膜掩模中，至少上述支撐線2a的排列間距設(shè)為能抑制由于作為成膜的膜厚不勻而轉(zhuǎn)印到透明電極上的支撐線2a的陰影導(dǎo)致的莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生的尺寸，因此可抑制上述莫爾條紋或者衍射條紋的發(fā)生。因而，能提高使用了本發(fā)明的觸摸面板的顯示裝置的顯示質(zhì)量。

此外，在上述實(shí)施方式中，濺射裝置使基板和ITO靶靜止而成膜，但也可以一邊使基板和ITO靶相對(duì)地移動(dòng)一邊成膜。另外，透明導(dǎo)電膜的成膜不限于濺射，可以應(yīng)用真空蒸鍍等其它公知的成膜技術(shù)。而且，透明導(dǎo)電膜不限于ITO(銦錫氧化物)，可以是氧化鋅或氧化錫等。

另外，在上述實(shí)施方式中說明了成膜掩模具備框架3的情況，但本發(fā)明不限于此，也可以沒有框架3。在該情況下，可以在對(duì)掩模片13的與掩模支架的面平行的側(cè)方賦予一定的張力的狀態(tài)下將掩模片13保持于掩模支架。

附圖標(biāo)記說明

1：掩模層

1a：掩模層的一個(gè)面

2：支撐層

2a：支撐線(細(xì)線)

4：開口圖案

5：顯示面板(基板或者顯示元件)

6：間隔物

7：金屬母材

14：磁鐵

R：與紅色對(duì)應(yīng)的像素圖案的排列

G：與綠色對(duì)應(yīng)的像素圖案的排列

B：與藍(lán)色對(duì)應(yīng)的像素圖案的排列。