制殼生產(chǎn)線蠟?zāi)A苌把b置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公布了一種制殼生產(chǎn)線蠟?zāi)A苌把b置,屬于熔模鑄造領(lǐng)域,其技術(shù)方案是在主箱體內(nèi)部的設(shè)置了導(dǎo)流板,導(dǎo)流板將主箱體分成三個(gè)區(qū)域,分別是淋砂區(qū)和以淋砂區(qū)為對(duì)稱結(jié)構(gòu)的兩側(cè)拋砂區(qū),拋砂區(qū)下部設(shè)置了拋砂滾筒,主箱體底部設(shè)置了沸騰槽;本實(shí)用新型使用時(shí),淋砂經(jīng)導(dǎo)流板分成兩部分,一部分從導(dǎo)流板的中部處,實(shí)現(xiàn)對(duì)蠟?zāi)5牧苌?,另一部分從?dǎo)流板的另一側(cè)落入到拋砂滾筒上,隨著拋砂滾筒8的旋轉(zhuǎn),最終將砂拋到蠟?zāi)5南?、?cè)表面,其中,部分落入淋砂區(qū)、拋砂區(qū)底部的淋砂在沸騰槽的作用下再次吹起,沾到蠟?zāi)5牡撞浚岣吡肆苌暗睦寐?,這樣,即可實(shí)現(xiàn)對(duì)蠟?zāi)I?、下以及左右?cè)面的全方位的沾砂,使得蠟?zāi)1砻嬲瓷案鶆颉?br>
【專利說明】制殼生產(chǎn)線蠟?zāi)A苌把b置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于熔模鑄造領(lǐng)域,具體涉及一種制殼生產(chǎn)線蠟?zāi)A苌把b置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前精密鑄造領(lǐng)域中的熔模鑄造工藝一般包括以下步驟:模具設(shè)計(jì)一制造一壓蠟一修蠟一蠟?zāi)=M樹一制殼一脫蠟一焙燒一澆注一震動(dòng)脫殼一制殼一鑄件與澆鑄棒切割分離一磨澆口一拋丸處理一拋丸清理一成品檢一入庫(kù),其中,制殼過程中,蠟?zāi)U礉{后需要在其表面粘砂,現(xiàn)有技術(shù)中,這一工序一般通過人工淋砂操作或是淋砂機(jī)來完成,人工操作勞動(dòng)強(qiáng)度大,生產(chǎn)效率低,淋砂質(zhì)量不穩(wěn)定,而淋砂機(jī)一般需要不同的蠟?zāi)_M(jìn)行定制生產(chǎn),前期投入費(fèi)用較高,對(duì)于中小企業(yè)不具有普遍的適用性。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型針對(duì)上述技術(shù)問題,提供了一種可代替人工操作,又不需要投入較大資金的蠟?zāi)A苌把b置。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的最終目的,擬采用以下技術(shù):
[0005]制殼生產(chǎn)線蠟?zāi)A苌把b置,包括儲(chǔ)砂箱(I)以及與儲(chǔ)砂箱(I)連接在一起的主箱體(10),所述主箱體(10)上方設(shè)置有集塵罩(5),集塵罩(5)上方設(shè)置有除塵裝置(4),所述集塵罩(5)內(nèi)設(shè)置有連通至主箱體(10)內(nèi)部的導(dǎo)流板(50),所述導(dǎo)流板(50)將主箱體(10)分成三個(gè)區(qū)域,分別是位于主箱體(10)中部的淋砂區(qū)(6)、以淋砂區(qū)(6)為對(duì)稱結(jié)構(gòu)的兩側(cè)拋砂區(qū)(7),所述拋砂區(qū)(7)下部,主箱體(10)底部處設(shè)置有拋砂滾筒(8),所述主箱體(10)底部、淋砂區(qū)(6)的正下方設(shè)置有沸騰槽(9)。
[0006]進(jìn)一步地,所述儲(chǔ)砂箱(I)與主箱體(10)之間設(shè)置有砂泵(2)。
[0007]進(jìn)一步地,所述導(dǎo)流板(50)位于集塵罩(5)內(nèi)的部分呈豎直狀,位于主箱體(10)內(nèi)的部分呈傾斜狀。
[0008]進(jìn)一步地,所述拋砂滾筒(8)上設(shè)置有均勻分布的肋板。
[0009]進(jìn)一步地,所述導(dǎo)流板(50)傾斜角為1(Γ30°。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型使用時(shí),砂箱內(nèi)的砂在集塵罩內(nèi)經(jīng)導(dǎo)流板分成兩部分,一部分從導(dǎo)流板的中部處,也就是淋砂區(qū)內(nèi)落下,實(shí)現(xiàn)對(duì)蠟?zāi)5牧苌?,另一部分從?dǎo)流板的另一側(cè)落下,也就是從拋砂區(qū)落到拋砂滾筒上,隨著拋砂滾筒的旋轉(zhuǎn),滾筒上的肋板將砂拋起,最終將砂拋到蠟?zāi)5南隆?cè)表面,其中,部分落入淋砂區(qū)、拋砂區(qū)底部的淋砂在沸騰槽的作用下再次吹起,沾到蠟?zāi)5牡撞?,提高了淋砂的利用率,這樣,即可以對(duì)蠟?zāi)?shí)現(xiàn)上、下以及左右側(cè)面的全方位的沾砂,使得沾砂表面均勻。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0013]制殼生產(chǎn)線蠟?zāi)A苌把b置,包括儲(chǔ)砂箱I以及與儲(chǔ)砂箱I連接在一起的主箱體10,所述主箱體10上方設(shè)置有集塵罩5,集塵罩5上方設(shè)置有除塵裝置4,所述集塵罩5內(nèi)設(shè)置有連通至主箱體10內(nèi)部的導(dǎo)流板50,所述導(dǎo)流板50將主箱體10分成三個(gè)區(qū)域,分別是位于主箱體10中部的淋砂區(qū)6、以淋砂區(qū)6為對(duì)稱結(jié)構(gòu)的兩側(cè)拋砂區(qū)7,所述拋砂區(qū)7下部,主箱體10底部處設(shè)置有拋砂滾筒8,所述主箱體10底部、淋砂區(qū)6的正下方設(shè)置有沸騰槽9。
[0014]本實(shí)用新型使用時(shí),儲(chǔ)砂箱I內(nèi)的砂在集塵罩5內(nèi)經(jīng)導(dǎo)流板50分成兩部分,一部分從導(dǎo)流板50的中部處,也就是淋砂區(qū)6內(nèi)落下,實(shí)現(xiàn)對(duì)蠟?zāi)?的淋砂,另一部分從導(dǎo)流板50的另一側(cè)落下,也就是從拋砂區(qū)7落到拋砂滾筒8上,隨著拋砂滾筒8的旋轉(zhuǎn),滾筒上的肋板將砂拋起,最終將砂拋到蠟?zāi)?的下、側(cè)表面,其中,部分落入淋砂區(qū)6、拋砂區(qū)7底部的淋砂在沸騰槽9的作用下再次吹起,沾到蠟?zāi)?的底部,提高了淋砂的利用率,這樣,即可以對(duì)蠟?zāi)?實(shí)現(xiàn)上、下以及左右側(cè)面的全方位的沾砂,使得蠟?zāi)?表面沾砂更均勻。
【權(quán)利要求】
1.制殼生產(chǎn)線蠟?zāi)A苌把b置,包括儲(chǔ)砂箱(I)以及與儲(chǔ)砂箱(I)連接在一起的主箱體(10),其特征在于:所述主箱體(10)上方設(shè)置有集塵罩(5),集塵罩(5)上方設(shè)置有除塵裝置(4),所述集塵罩(5)內(nèi)設(shè)置有連通至主箱體(10)內(nèi)部的導(dǎo)流板(50),所述導(dǎo)流板(50)將主箱體(10)分成三個(gè)區(qū)域,分別是位于主箱體(10)中部的淋砂區(qū)(6)、以淋砂區(qū)(6)為對(duì)稱結(jié)構(gòu)的兩側(cè)拋砂區(qū)(7),所述拋砂區(qū)(7)下部,主箱體(10)底部處設(shè)置有拋砂滾筒(8),所述主箱體(10)底部、淋砂區(qū)(6)的正下方設(shè)置有沸騰槽(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蠟?zāi)A苌把b置,其特征在于:所述儲(chǔ)砂箱(I)與主箱體(10)之間設(shè)置有砂泵(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蠟?zāi)A苌把b置,其特征在于:所述導(dǎo)流板(50)位于集塵罩(5)內(nèi)的部分呈豎直狀,位于主箱體(10)內(nèi)的部分呈傾斜狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蠟?zāi)A苌把b置,其特征在于:所述拋砂滾筒(8)上設(shè)置有均勻分布的肋板。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蠟?zāi)A苌把b置,其特征在于:所述導(dǎo)流板(50)傾斜角為10?30。。
【文檔編號(hào)】B22C9/04GK204135298SQ201420579605
【公開日】2015年2月4日 申請(qǐng)日期:2014年10月9日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月9日
【發(fā)明者】李偉, 曾光前, 吳枝峰, 郁建定 申請(qǐng)人:四川法拉特不銹鋼鑄造有限公司