一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，包括水平排列設(shè)置的一級離心萃取室、離心水洗室和離心反萃室，以及萃余液中轉(zhuǎn)室、水洗中轉(zhuǎn)室與反萃液中轉(zhuǎn)室，所述萃余液中轉(zhuǎn)室分別管道連接一級離心萃取室和離心水洗室，所述水洗中轉(zhuǎn)室分別管道連接離心水洗室和離心反萃室，所述反萃液中轉(zhuǎn)室管道連接離心反萃室，所述一級離心萃取室、離心水洗室和離心反萃室均安裝有S心機(jī)。本廣品可有效提局蝕刻廢液的萃取效率，積極提高分離銅速度和回收率，極大地降低萃取耗時，同時減少設(shè)備的空間占用以及相關(guān)使用物料消耗，從而實(shí)現(xiàn)蝕刻廢液的大量處理工作，并且提高其經(jīng)濟(jì)效益，減少環(huán)境污染。
【專利說明】一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種廢液萃取機(jī)，特別是一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002] 電子工業(yè)印制線路板企業(yè)在生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生一種含有大量銅的線路板蝕刻廢 液，蝕刻廢液若直接排放或者處置不當(dāng)，會對水體和土壤造成嚴(yán)重污染，且蝕刻廢液已被列 于國家危險廢物名錄中，因此電子線路板生產(chǎn)企業(yè)產(chǎn)生的蝕刻廢液必須集中處理?，F(xiàn)時這 些蝕刻廢液的回用辦法一般是經(jīng)過混合澄清槽萃取分離后將萃余液經(jīng)過適當(dāng)參數(shù)調(diào)配回 到生產(chǎn)線，由于成本和場地限制，生產(chǎn)企業(yè)一般都投入小型的混合澄清設(shè)備進(jìn)行蝕刻液的 處理，此類設(shè)備效率較低，處理量跟不上節(jié)奏，很難滿足大型企業(yè)的生產(chǎn)需求，而且伴隨著 大量的廢水排放，難以體現(xiàn)工藝的優(yōu)勢，在當(dāng)前環(huán)保政策下，這些廢水的排放都嚴(yán)重制約企 業(yè)的發(fā)展。
[0003] 現(xiàn)有的PCB蝕刻廢液萃取分離銅的工藝是通過將萃取劑和廢液的輕重兩相同時 按照一定比例通入攪拌設(shè)備使得輕相能夠萃取到重相中的銅，通過混合后溢流至澄清槽 內(nèi)，通過重力作用使得不溶的輕重量分開后分別收集，如此循環(huán)進(jìn)而將蝕刻液中的銅離子 萃取干凈。原工藝由于在重力作用下將輕重兩相分開的時間長，所以澄清槽比較長，占地 面積較大，同時造成滯留大量的吸銅劑，導(dǎo)致投入和運(yùn)營的物料成本過高，同時由于澄清分 層時間過長導(dǎo)致設(shè)備的處理量有限，處理較多的蝕刻廢液時需要投入更多的設(shè)備和場地物 料，既占用空間，又浪費(fèi)大量資源，且處理耗時長成本效益低。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0004] 為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，可 減省空間占用，同時提高處理效率和回用效益。
[0005] 本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：
[0006] -種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，包括水平排列設(shè)置的一級離心萃取室、離心水 洗室和離心反萃室，以及萃余液中轉(zhuǎn)室、水洗中轉(zhuǎn)室與反萃液中轉(zhuǎn)室，所述萃余液中轉(zhuǎn)室分 別管道連接一級離心萃取室和離心水洗室，所述水洗中轉(zhuǎn)室分別管道連接離心水洗室和離 心反萃室，所述反萃液中轉(zhuǎn)室管道連接離心反萃室，所述一級離心萃取室、離心水洗室和離 心反萃室均安裝有離心機(jī)。
[0007] 作為上述技術(shù)方案的改進(jìn)，所述萃余液中轉(zhuǎn)室、水洗中轉(zhuǎn)室與反萃液中轉(zhuǎn)室內(nèi)均 設(shè)置有數(shù)個分隔室，所述分隔室按序依次連通。
[0008] 作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)，所述萃取液中轉(zhuǎn)室、水洗中轉(zhuǎn)室與反萃液中轉(zhuǎn) 室分別設(shè)置有萃余液排出區(qū)、水洗排出區(qū)、萃取劑排出區(qū)。
[0009] 進(jìn)一步，離心萃取設(shè)備還包括萃取劑沼化室，所述萃取劑沼化室分別管道連接所 述反萃液中轉(zhuǎn)室與一級離心萃取室。
[0010] 進(jìn)一步，所述離心萃取設(shè)備還包括二級離心萃取室，所述二級離心萃取室安裝有 離心機(jī)，所述一級離心萃取室先管道連接二級離心萃取室，再通過二級離心萃取室管道連 接所述萃余液中轉(zhuǎn)室。
[0011] 進(jìn)一步，離心萃取設(shè)備還包括電控室，所述電控室內(nèi)裝有通過連接導(dǎo)線連接各裝 置的電控電路，且連接導(dǎo)線上套置有保護(hù)管。
[0012] 本實(shí)用新型的有益效果是：本廣品可有效提1?蝕刻廢液的萃取效率，積極提1?分 離銅速度和回收率，極大地降低萃取耗時，同時減少設(shè)備的空間占用以及相關(guān)使用物料消 耗，從而實(shí)現(xiàn)蝕刻廢液的大量處理工作，并且提高其經(jīng)濟(jì)效益，減少環(huán)境污染。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0014] 圖1是本實(shí)用新型的安裝結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015] 圖2是本實(shí)用新型的內(nèi)室結(jié)構(gòu)俯視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0016] 參照圖1和圖2,本實(shí)用新型的一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，包括水平排列設(shè) 置的一級離心萃取室1、離心水洗室2和離心反萃室3,以及萃余液中轉(zhuǎn)室4、水洗中轉(zhuǎn)室5 與反萃液中轉(zhuǎn)室6,所述萃余液中轉(zhuǎn)室4分別管道連接一級離心萃取室1和離心水洗室2， 所述水洗中轉(zhuǎn)室5分別管道連接離心水洗室2和離心反萃室3,所述反萃液中轉(zhuǎn)室6管道 連接離心反萃室3,所述一級離心萃取室1、離心水洗室2和離心反萃室3均安裝有離心機(jī)。 進(jìn)行離心萃取時首先在一級離心萃取室1中注入含銅的蝕刻廢液和萃取液，兩者混合時銅 離子從蝕刻廢液轉(zhuǎn)入萃取液，而且萃取液與蝕刻廢液不相溶并在離心機(jī)的作用下快速上下 分層，從而實(shí)現(xiàn)高速高效澄清分離，其中所分離出的萃余液從管道進(jìn)入萃余液中轉(zhuǎn)室4,經(jīng) 過萃余液中轉(zhuǎn)室4后注入離心水洗室2并加水進(jìn)行水洗，也同樣地進(jìn)行澄清分離，其中水洗 過后富銅萃取液經(jīng)過水洗中轉(zhuǎn)室5后注入離心反萃室3,同時在離心反萃室3中加入硫酸溶 液與富銅萃取液反應(yīng)生成硫酸銅和貧銅萃取液并注入到反萃液中轉(zhuǎn)室6,由此將硫酸銅從 反萃液中轉(zhuǎn)室6中提取出來后通過電解便可回收分離出銅。另外，上述各室均為立式的箱 體結(jié)構(gòu)，并組合成矩形體的整機(jī)設(shè)備，減少了設(shè)備的占地面積同時提高了空間的使用率。
[0017] 作為上述實(shí)施方式的改進(jìn)，所述萃余液中轉(zhuǎn)室4、水洗中轉(zhuǎn)室5與反萃液中轉(zhuǎn)室6 內(nèi)均設(shè)置有數(shù)個分隔室，所述分隔室按序依次連通，延長液體在中轉(zhuǎn)室的流動距離，使液體 的分層效果更為徹底和顯著，方便后續(xù)溶液處理。
[0018] 作為上述實(shí)施方式的進(jìn)一步改進(jìn)，所述萃取液中轉(zhuǎn)室4、水洗中轉(zhuǎn)室5與反萃液中 轉(zhuǎn)室6分別設(shè)置有萃余液排出區(qū)42、水洗排出區(qū)52、萃取劑排出區(qū)62,避免在排放過程影響 液體分層，一般地，所述各排出區(qū)選擇設(shè)置在所述分隔室的后部，以提高排出液的純度。
[0019] 進(jìn)一步，優(yōu)選地，離心萃取設(shè)備還包括萃取劑沼化室8,所述萃取劑沼化室8分別 管道連接所述反萃液中轉(zhuǎn)室6與一級離心萃取室1,反萃液中轉(zhuǎn)室6的貧銅液注入到萃取劑 沼化室8中，經(jīng)過處理后回復(fù)出萃取液并重新輸入到一級離心萃取室1中進(jìn)行萃取使用，從 而大大提高萃取液的利用率，降低原料浪費(fèi)。
[0020] 進(jìn)一步，作為一種優(yōu)選方案，作為一種優(yōu)選機(jī)構(gòu)，所述離心萃取設(shè)備還包括二級離 心萃取室7,所述二級離心萃取室7安裝有離心機(jī)，所述一級離心萃取室1先管道連接二級 離心萃取室7,再通過二級離心萃取室7管道連接所述萃余液中轉(zhuǎn)室4,使廢液通過兩次萃 取和分離，進(jìn)一步提高廢液銅的萃取率。
[0021] 進(jìn)一步，離心萃取設(shè)備還包括電控室9,所述電控室9內(nèi)裝有通過連接導(dǎo)線連接各 裝置的電控電路，且連接導(dǎo)線上套置有保護(hù)管，保護(hù)導(dǎo)線等不受液體影響，確保電路控制正 堂 巾。
[0022] 以上所述，只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式而已，但本實(shí)用新型并不限于上述實(shí) 施例，只要其以任何相同或相似手段達(dá)到本實(shí)用新型的技術(shù)效果，都應(yīng)落入本實(shí)用新型的 保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，其特征在于：包括水平排列設(shè)置的一級離心萃取 室（1)、離心水洗室（2)和離心反萃室（3),以及萃余液中轉(zhuǎn)室（4)、水洗中轉(zhuǎn)室（5)與反萃液 中轉(zhuǎn)室（6)，所述萃余液中轉(zhuǎn)室（4)分別管道連接一級離心萃取室（1)和離心水洗室（2)，所 述水洗中轉(zhuǎn)室（5)分別管道連接離心水洗室（2)和離心反萃室（3)，所述反萃液中轉(zhuǎn)室（6) 管道連接離心反萃室（3)，所述一級離心萃取室（1 )、離心水洗室（2)和離心反萃室（3)均安 裝有離心機(jī)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，其特征在于：所述萃余液 中轉(zhuǎn)室（4)、水洗中轉(zhuǎn)室（5)與反萃液中轉(zhuǎn)室（6)內(nèi)均設(shè)置有數(shù)個分隔室，所述分隔室按序 依次連通。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，其特征在于：所述萃取液 中轉(zhuǎn)室（4)、水洗中轉(zhuǎn)室（5)與反萃液中轉(zhuǎn)室（6)分別設(shè)置有萃余液排出區(qū)（42)、水洗排出 區(qū)（52)、萃取劑排出區(qū)（62)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，其特征在于：離心 萃取設(shè)備還包括萃取劑沼化室（8)，所述萃取劑沼化室（8)分別管道連接所述反萃液中轉(zhuǎn) 室（6)與一級離心萃取室（1)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，其特征在于：所述 離心萃取設(shè)備還包括二級離心萃取室（7)，所述二級離心萃取室（7)安裝有離心機(jī)，所述一 級離心萃取室（1)先管道連接二級離心萃取室（7 )，再通過二級離心萃取室（7 )管道連接所 述萃余液中轉(zhuǎn)室（4)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種廢液分離銅的離心萃取設(shè)備，其特征在于：離心萃取設(shè) 備還包括電控室（9)，所述電控室（9)內(nèi)裝有通過連接導(dǎo)線連接各裝置的電控電路，且連接 導(dǎo)線上套置有保護(hù)管。
【文檔編號】C22B15/00GK204022911SQ201420370086
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年7月4日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月4日
【發(fā)明者】王萬春 申請人:江門市蓬江區(qū)大盈機(jī)電設(shè)備有限公司