干蝕刻清洗剝離防護(hù)液的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，主要由乙醇胺、氨基酸、有機(jī)溶劑組成，其中，各組份之間的比例為乙醇胺：氨基酸：有機(jī)溶劑=20～30：0.1～10：65～75。本發(fā)明所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液的有益效果主要有：在干蝕刻清洗劑或剝離液中可以很簡單地消除或減少鋁金屬的腐蝕，而且不會(huì)對(duì)環(huán)境造成不良影響，同時(shí)配方簡單，易混合，而且成本低廉，使用溫度易控。經(jīng)試驗(yàn)，該干蝕刻清洗剝離防護(hù)液安全無毒，即可以達(dá)到防止或減少鋁金屬在干蝕刻過程中的腐蝕，又可以達(dá)到環(huán)保要求，同時(shí)配方簡單，易混合，而且成本低廉，使用溫度易控。
【專利說明】干蝕刻清洗剝離防護(hù)液

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及干蝕刻領(lǐng)域，具體是干蝕刻清洗剝離防護(hù)液。

【背景技術(shù)】
[0002] 金屬蝕刻（etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。金屬 蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻（wet etching)和干蝕刻（dry etching)兩類。
[0003] 通常所指金屬蝕刻也稱光化學(xué)金屬蝕刻（photochemical etching),指通過曝光 制版、顯影后，將要金屬蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在金屬蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐 蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。最早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣 泛地被使用于減輕重量（Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形 工件等的加工；經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄 片零件精密金屬蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，金屬蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。
[0004] 在鋁金屬干蝕刻的技術(shù)上，鋁金屬的表面損壞是一個(gè)嚴(yán)重的問題，工業(yè)上現(xiàn)在有 幾種方式防止或減少鋁金屬的腐蝕，一是用溫和的材料做防護(hù)劑，但通過無法徹底清除殘 余物質(zhì)，二是用反腐劑，但通過的反腐劑材料是有毒性的，三是在清洗剝離過程中加 PH控 制材料減少腐蝕程度，但這樣處理程度就會(huì)比較復(fù)雜了。目前還沒有一種天然的化學(xué)產(chǎn)品 ，即可以達(dá)到防止或減少鋁金屬在干蝕刻過程中的腐蝕，又可以達(dá)到環(huán)保要求的干蝕刻清 洗剝離專用的成分、生產(chǎn)工藝都比較簡單的防護(hù)產(chǎn)品。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明正是針對(duì)以上技術(shù)問題，提供一種天然的化學(xué)產(chǎn)品，即可以達(dá)到防止或減 少鋁金屬在干蝕刻過程中的腐蝕，又可以達(dá)到環(huán)保要求的干蝕刻清洗剝離專用的成分、生 產(chǎn)工藝都比較簡單的防護(hù)產(chǎn)品。
[0006] 干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，主要由乙醇胺、氨基酸、有機(jī)溶劑組成，其中，各組份之間 的比例為乙醇胺：氨基酸：有機(jī)溶劑=20?30 :0. 1?10 :65?75。有機(jī)溶劑為一種或兩種 有機(jī)溶劑混合組成。有機(jī)溶劑為二甲基亞砜。有機(jī)溶劑為二乙二醇丁醚。氨基酸為油酸。 干蝕刻清洗剝離防護(hù)液的使用溫度為50°C?90°C。
[0007] 本發(fā)明還提供干蝕刻清洗剝離防護(hù)液的制備方法，包括以下步驟：1、制備混合溶 齊U，將一或兩種溶劑放入混合槽；2、添加乙醇胺，在步驟1中的混合溶劑中邊通風(fēng)攪拌邊加 入乙醇胺；3、添加氨基酸，在步驟2中的混合溶液中加入氨基酸，繼續(xù)通風(fēng)攪拌30分鐘；4、 將步驟2中的混合溶液經(jīng)過0. 2 μ m過濾。
[0008] 本發(fā)明所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液的有益效果主要有：在干蝕刻清洗劑或剝離液 中可以很簡單地消除或減少鋁金屬的腐蝕，而且不會(huì)對(duì)環(huán)境造成不良影響，同時(shí)配方簡單， 易混合，而且成本低廉，使用溫度易控。
[0009] 經(jīng)試驗(yàn)證明，將某些具有-C00H功能基團(tuán)的其他有機(jī)酸取代本發(fā)明所述的氨基 酸，雖然也能達(dá)到部分要求，但由于其來源及與金屬之間的結(jié)合等多方面原因，綜合性能比 采用本發(fā)明所述氨基酸要稍差，因此，本發(fā)明選用氨基酸作為防護(hù)液主要成分。

【具體實(shí)施方式】
[0010] 下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。 實(shí)施例
[0011] 將甲基亞砜：二乙二醇丁醚：乙醇胺：油酸按45 :28 :25 :2的比例準(zhǔn)備好，先將甲 基亞砜與二乙二醇丁醚制備成混合溶劑，在具有通風(fēng)設(shè)備的非金屬單一材質(zhì)混合槽中充分 混合，然后將乙醇胺在通風(fēng)攪拌的情況下加入混合槽中的混合溶劑內(nèi)，最后將油酸在通風(fēng) 攪拌的情況下加入混合槽，繼續(xù)通風(fēng)攪拌30分鐘后，經(jīng)0. 2 μ m過濾后包裝待用。
[0012] 經(jīng)試驗(yàn)，該干蝕刻清洗剝離防護(hù)液安全無毒，即可以達(dá)到防止或減少鋁金屬在干 蝕刻過程中的腐蝕，又可以達(dá)到環(huán)保要求，同時(shí)配方簡單，易混合，而且成本低廉，使用溫度 易控。
【權(quán)利要求】
1. 干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，主要由乙醇胺、氨基酸、有機(jī)溶劑組成，其中，各組份之間的 比例為乙醇胺：氨基酸：有機(jī)溶劑=20?30 :0. 1?10 :65?75。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，其特征在于所述有機(jī)溶劑為一種或兩 種有機(jī)溶劑混合組成。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，其特征在于所述有機(jī)溶劑為二甲基亞 砜。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，其特征在于所述有機(jī)溶劑為二乙二醇 丁醚。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，其特征在于所述氨基酸為油酸。
6. 據(jù)權(quán)利要求1所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液，其特征在于所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液 的使用溫度為50°C?90°C。
7. 干蝕刻清洗剝離防護(hù)液的制備方法，包括以下步驟：1、制備混合溶劑，將一或兩種 溶劑放入混合槽；2、添加乙醇胺，在步驟1中的混合溶劑中邊通風(fēng)攪拌邊加入乙醇胺；3、添 加氨基酸，在步驟2中的混合溶液中加入氨基酸，繼續(xù)通風(fēng)攪拌30分鐘；4、將步驟2中的混 合溶液經(jīng)過0. 2 μ m過濾。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述干蝕刻清洗剝離防護(hù)液的制備方法，其特征在于所述步驟1、步 驟2、步驟3均在非金屬單一材質(zhì)的混合槽中進(jìn)行。
【文檔編號(hào)】C23G1/00GK104195576SQ201410457140
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月10日
【發(fā)明者】曹大妹 申請人:昆山欣谷微電子材料有限公司