用連續(xù)鑄造模具減少金屬鑄錠內(nèi)氣泡或氣袋的方法和設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種方法和設(shè)備以用連續(xù)鑄造模具鑄造金屬鑄錠以使鑄錠基本沒有氣袋，該氣袋由形成期間困于鑄錠的糊狀區(qū)和固態(tài)區(qū)的氣泡產(chǎn)生。其中這些氣泡可由向形成中的鑄錠的熔化的液態(tài)部分傾倒金屬熔液引起或由等離子體焰炬的等離子體羽撞擊在熔化的液態(tài)部分上表面引起。
【專利說明】用連續(xù)鑄造模具減少金屬鑄錠內(nèi)氣泡或氣袋的方法和設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明一般涉及用于熔化金屬的爐。尤其是，本發(fā)明涉及連續(xù)鑄造爐及消除或減少鑄錠內(nèi)氣泡或氣袋的方法。

【背景技術(shù)】
[0002]金屬鑄錠連續(xù)鑄造的問題之一是形成或截留鑄錠內(nèi)的氣泡或氣袋。下文進行更詳細的進一步討論，這些氣泡或氣袋可能由向連續(xù)鑄造模具內(nèi)的金屬熔液中傾倒熔料引起或由等離子焰炬的羽流沿著模具內(nèi)熔融材料上表面的沖擊引起。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]一方面，本發(fā)明提供一種方法，包括如下步驟:提供分段連續(xù)鑄造模具，所述連續(xù)鑄造模具包括交替的多個導電且向上伸出的多個指狀物及多個不導電的高溫絕緣片；將金屬鑄錠從所述模具退出，其中，所述鑄錠包括固態(tài)部分、位于所述固態(tài)部分頂上的糊狀區(qū)及位于所述糊狀區(qū)頂上的液態(tài)部分；通過下述至少一個方式在所述液態(tài)部分產(chǎn)生氣泡:(a)向所述液態(tài)部分內(nèi)傾倒金屬熔液及(b)用等離子體焰炬的等離子體羽加熱所述液態(tài)部分；及用與所述模具相鄰的感應(yīng)線圈加熱所述液態(tài)部分，所述液態(tài)部分包括液態(tài)金屬頭及氣泡區(qū)，以使所述液態(tài)金屬頭(metal head)位于所述糊狀區(qū)頂上且基本沒有氣泡，所述氣泡區(qū)位于所述液態(tài)金屬頭頂上并包括氣泡。
[0004]另一方面，本發(fā)明提供一種方法，包括以下步驟:提供分段連續(xù)鑄造模具，所述連續(xù)鑄造模具包括交替的多個導電且向上伸出并具有各自頂部的指狀物及多個不導電的高溫絕緣片；從所述模具中退出金屬鑄錠；用頂部構(gòu)件阻止所述傾倒中的金屬熔液接觸所述多個指狀物的頂部，所述頂部構(gòu)件設(shè)置在所述多個指狀物正上方并與所述多個指狀物相鄰；和用與所述模具相鄰的感應(yīng)線圈加熱所述模具中的所述鑄錠的一部分。
[0005]另一方面，本發(fā)明提供一種設(shè)備，包括:分段連續(xù)鑄造模具，包括交替的多個導電且向上伸出并具有各自頂部的指狀物及多個不導電的高溫絕緣件；頂部構(gòu)件，設(shè)置在所述多個指狀物的頂部正上方且與所述多個指狀物的頂部相鄰，并適于阻止傾倒中的金屬熔液與所述多個指狀物的頂部接觸；和感應(yīng)線圈，與所述模具相鄰。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0006]本發(fā)明的優(yōu)選實施方案(其描述了 申請人:采用其原理而構(gòu)思出的最佳方式)將在下文描述中闡明并在附圖中示出，并且在所附的權(quán)利要求中具體地和明確地指出并闡明。
[0007]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中連續(xù)鑄造設(shè)備剖視圖，顯示了被限制在鑄錠內(nèi)的氣泡或氣袋；
[0008]圖2為一示例性實施例的側(cè)視圖，帶有以截面顯示的各種組件；
[0009]圖3為沿圖2中3-3線取的連續(xù)鑄造模具的頂部構(gòu)件及部分俯視圖；
[0010]圖4為連續(xù)鑄造模具沿圖3中4-4線的剖視圖；
[0011]圖5為沿圖4中5-5線的剖視圖；
[0012]圖6為與圖2中相同視角的視圖并顯示了基本沒有氣泡截留的鑄錠結(jié)構(gòu)。
[0013]附圖中相同的標號指相同的部分。

【具體實施方式】
[0014]參照圖1，更詳細地說明現(xiàn)有技術(shù)?，F(xiàn)有的連續(xù)鑄造爐可包括連續(xù)鑄造模具CCM、熔化爐H及位于模具上方的等離子體焰炬T。在鑄錠I形成期間，鑄錠將具有固態(tài)區(qū)或部分S、位于固態(tài)部分S上方的糊狀區(qū)M及位于糊狀區(qū)M上方的液態(tài)部分或池L。本領(lǐng)域眾所周知的是，糊狀區(qū)M是過渡區(qū)，其部分為固體、部分為液體，且隨著鑄錠I降下和冷卻變?yōu)楣腆w。當金屬熔液MM從爐H倒入模具CCM內(nèi)液態(tài)部分L頂上時，傾倒中的金屬熔液迫使一些氣泡BP (氣泡BP可能是惰性氣體泡)進入液態(tài)區(qū)L。當使用等離子體焰炬時，它的等離子體羽P沖擊液態(tài)區(qū)L的上表面，且可能也會在液態(tài)區(qū)L產(chǎn)生氣泡BT。由于鑄錠I冷卻及下降，一些氣泡BP和BT也可能會進入糊狀區(qū)M并最終被困在固態(tài)區(qū)S，這樣形成具有氣泡或氣袋BP、BT的鑄錠I。不幸的是這些氣袋或氣孔不能通過鑄錠的機械熱處理去除，且對最終產(chǎn)品的機械性能不利。
[0015]本發(fā)明的爐的示例性實施例總體上由圖2中的I表示。爐I可包括熔化腔室2、分段連續(xù)鑄造模具4、熔化爐6、供給機構(gòu)8、爐熱源(如爐等離子體焰炬10)、模具熱源(如模具等離子體焰炬12)、蓋或頂板或構(gòu)件16、鑄錠升降器18、真空泵20及惰性氣源22。熔化腔室2包括腔室壁24，腔室壁24限定設(shè)置有模具4、爐6、供給機構(gòu)8、焰炬10和12、感應(yīng)線圈14及頂部構(gòu)件16的內(nèi)腔室26。鑄錠升降器18的頂部可移動進入及退出內(nèi)腔室26。尤其是，熔化腔室2還包括環(huán)形通道壁28，環(huán)形通道壁28固定至壁24并具有限定通道30的內(nèi)周，通道30與內(nèi)腔室26及壁24和腔室2外的大氣相通。鑄錠升降器18的頂部因而可通過通道30進入和移出內(nèi)部腔室26。爐I可在通道壁28區(qū)域內(nèi)配置有各類密封組件，諸如在此通過引用而包括在本文中的美國專利8，196，641中所描述的。通常，這些密封組件與鑄錠的外周形成密封，以阻止鑄錠鑄造期間空氣通過通道30進入腔室26。
[0016]供給機構(gòu)8可以為任何類型的供給機構(gòu)，如輸送機、振動給料器或其它本領(lǐng)域已知的用于向爐6的熔化腔室32供給固體金屬的供給機構(gòu)。爐6還可包括溢出或傾倒邊緣34，溢出或傾倒邊緣34沿著爐6的一側(cè)以允許金屬熔液通過溢出邊緣34移動進入模具4的頂部。爐焰炬10設(shè)置在熔化腔室32上方，以當模具焰炬12同樣設(shè)置在模具4上方以加熱模具4內(nèi)金屬時，加熱腔室32內(nèi)的金屬。感應(yīng)線圈4可包圍模具4，在下文進一步詳細描述。頂部構(gòu)件16為設(shè)置在模具4頂部的正上方并與模具4頂部相鄰的環(huán)形構(gòu)件。
[0017]主要參照圖3?5，模具4包括具有內(nèi)周38的模具側(cè)壁36，內(nèi)周38限定了模具腔或通道40，模具腔或通道40具有頂部入口 42和底部入口 44。通道40具有位于通道40中心的中心垂直軸X。內(nèi)周38具有基本垂直的下部和基本垂直的上部，該下部限定腔或通道40的較窄的下腔部分46，上部限定腔室或通道40的較寬的上腔室部分48。當下部46和上部48為圓柱形(典型地是與內(nèi)周38關(guān)于軸X同軸)時，較窄的部分46的內(nèi)徑小于較寬的部分48的內(nèi)徑。內(nèi)周38在臺階50處從上部分48的底部向下部分46的頂部向內(nèi)進一個臺階。臺階50可形成從上部48的底部至下部46的頂部徑向向內(nèi)且向下的角。側(cè)壁36可包括具有下部54和上部56的導電或金屬部分52。下部54和上部56均為環(huán)形。下部54限定環(huán)形腔58，環(huán)形腔58圍繞或包圍下腔部分46的下部，與底部入口 44相鄰。金屬部分52(可由銅形成)包括向上伸出的多個指狀物60，多個指狀物60為從下部54的頂部向上至限定側(cè)壁36頂部的終端或頂端62及模具4的懸臂。
[0018]因此，每個指狀物60具有底端64，底端64作為上部56的底端和下部54的頂端。每個指狀物60的底端64剛性固定連接至下部54的頂端，并向上延伸，或從那里向上形成懸臂。因此，每個指狀物60大體垂直并包括內(nèi)表面66、外表面68及一對相對的側(cè)面70和72，側(cè)面70和72從軸X徑向向外從內(nèi)表面66向外表面68延伸。指狀物60的內(nèi)表面66形成較寬的上腔部分48的大部和較窄的下腔部分45的上部。至于每對相鄰的指狀物60，該對之一的側(cè)面70和該對中另外一個指狀物的側(cè)面72通常為直立的、相互平行且緊密相鄰，并于二者間限定槽或間隙74,槽或間隙74從底端64向頂端62并從內(nèi)表面66向外表面68延伸。
[0019]側(cè)壁36還包括位于每個間隙74內(nèi)的耐火絕緣片76，間隙74從相鄰的底端64向相鄰的頂端62延伸，以使每個片76的相對面分別緊靠側(cè)面70和側(cè)面72，側(cè)面70和側(cè)面72限定給出的間隙74。每個片76的內(nèi)表面與相鄰的一對指狀物的內(nèi)表面66大體齊平，該相鄰一對指狀物限定了設(shè)置有片76的間隙。同樣的，每個片76的外表面與相鄰的一對指狀物60的外表面68大體齊平，該相鄰一對指狀物60限定了設(shè)置有片76的間隙。每個絕緣片76可由云母或其它合適的非導電耐高溫絕緣材料組成。指狀物60和片76具有上段和下段，上段限定上腔部分48，下段限定下腔部分45的上部。盡管所有的指狀物60通過它們與金屬部分52的下部54的物理和電接觸彼此電通信，限定給定間隙的每對表面70和72相互間不直接電接觸。因此，模具4包括交替的多個導電的向上延伸的指狀物60和多個向上延伸的非導電的耐高溫絕緣片76。示例中，模具4包括16個指狀物60，而這個數(shù)量可根據(jù)需要的具體特征變化。感應(yīng)線圈14的頂部可與多個指狀物60的頂端62、片76的頂部和模具4的頂部相鄰，而感應(yīng)線圈14的底部可與多個指狀物60的底端64和片76的底端相鄰。
[0020]金屬部分52內(nèi)形成有多個大體垂直的指狀物通道78，每個指狀物通道78具有封閉的頂端80和與環(huán)形腔58相通的底部入口 82。每個指狀物通道78向上延伸入指狀物60，并從指狀物60延伸至鄰近并低于其頂端62處。空心環(huán)84設(shè)置在環(huán)形腔58內(nèi)從而包圍下腔部分46的下部。環(huán)84限定環(huán)形通道85。多個流體管86連接至環(huán)84的頂端并從環(huán)84的頂端向上延伸，并分別進入指狀物通道78。每個流體管86可大體垂直并限定大體垂直的通道88。通道88具有頂部入口 90和底部入口 92，頂端入口 90鄰近并位于封閉頂端80下方，底端入口 92與環(huán)形通道85連通。下部54限定流體(或水)入口 94和流體(或水)出口96，流體(或水)入口 94與環(huán)形腔85流體連通，流體(或水)出口 96與環(huán)形腔85流體連通。流體輸送管線98和流體返回管線100的一端分別連接至入口 94和出口 96，另一端連接至水源或其它冷卻液源102。
[0021]頂部構(gòu)件16 (圖2、3、6)包括總體凹陷/中空(hollow)的環(huán)形壁104，因此環(huán)形壁104限定環(huán)形傾倒通道106。壁104具有頂面108和底面110，頂面108為圓環(huán)形、面向上且總體水平，底面110為圓環(huán)形、面向下且總體水平，底面110與多個指狀物的頂端62及模具4的頂端相鄰，并與二者的上方有間隔。壁104具有圓環(huán)形內(nèi)表面(或內(nèi)周)112及圓環(huán)形外表面(或外周)114，圓環(huán)形內(nèi)表面(或內(nèi)周)112呈放射狀面向內(nèi)并從頂面108向底面110延伸，圓環(huán)形外表面(或外周)114呈放射狀面向外并從頂面108向底面110延伸。內(nèi)周112限定了通過通道116，通過通道116具有頂部入口 118和底部入口 120，底部入口 120位于頂部入口 42正上方以使通道116和通道40相互流體連通。內(nèi)周112可位于內(nèi)周38的上部分的正上方或關(guān)于內(nèi)周38的上部分徑向向內(nèi)，內(nèi)周38限定上腔部分48，而外周114可位于壁104外周/多個指狀物60的外表面68的正上方，以使頂部構(gòu)件16完全覆蓋指狀物60的頂端62，使從上面看頂端62不可見，如圖3所示。
[0022]壁104由導電材料(如銅或另外的金屬)形成，除了它的相鄰的圓周端122和124(圖3)，壁104形成幾乎連續(xù)的環(huán)。圓周端122和124相互面對且相互緊密相鄰以在二者間限定間隙126。間隙126從頂面108向底面110、從內(nèi)周112向外周114連續(xù)延伸。在實施例中，間隙126充滿水泥漿128或其它非導電材料。如圖3所示，壁104沿著外周114限定與端122相鄰的水或流體入口 130和與端124相鄰的流體或水出口 132，以使入口 130和出口 132在間隙126和水泥漿128的兩側(cè)并與間隙126和水泥漿128相鄰。供料管線134的一端連接至入口 130，相對端連接至冷卻液源102或其它的相似源。同樣，回流管136的一端連接至出口 132，相對端連接至源102或其它類似源。雖然圖中未示出，但感應(yīng)線圈104也采用水冷或液冷，因此通常具有供料管線和回流管，供料管線從感應(yīng)線圈14的入口間向源(如源102)延伸，回流管從感應(yīng)線圈14的出口向源(如源102)延伸。
[0023]現(xiàn)在，主要參照圖6描述示例性的爐的運作。例如使用等離子體焰炬的情況下，要求腔室26內(nèi)為惰性氣氛，使用真空泵20排空腔室26，因而從那里基本去除所有空氣，然后用來自源22的惰性氣體回填，以在腔室26內(nèi)產(chǎn)生惰性氣氛，腔室26內(nèi)全部或基本全部為惰性氣體，如氬氣或氮氣。移動固體金屬從供給機構(gòu)(圖2)進入爐6的腔32內(nèi)，點燃爐焰炬10以加熱并熔化固體金屬以在腔32內(nèi)形成熔料MM，并保持加熱以使其維持熔化形態(tài)。然后通過頂部構(gòu)件16的通道116將金屬熔液2倒入模具4的通道40內(nèi)，至升降器18頂部頂上模具4或至模具4內(nèi)的起動樁(starter stub)上。頂部構(gòu)件16配置為阻止傾倒中的從爐6至模具4內(nèi)的金屬熔液接觸多個指狀物60的頂端62及模具4的頂端。感應(yīng)線圈14是電動的，以在水或其它冷卻液從源102穿過感應(yīng)線圈14、模具4的水冷系統(tǒng)和頂部構(gòu)件16以冷卻感應(yīng)線圈14、模具4及頂部構(gòu)件16電感加熱模具4內(nèi)的金屬熔液。尤其是，參照圖4，冷卻液流動(圖4中各類箭頭)通過供料管線98進入環(huán)形腔85并從腔85向上經(jīng)由入口 92進入通道88內(nèi)，并從通道88經(jīng)由出口 90進入指狀物通道78。然后，液體從通道78頂部向通道78底部向下流動，經(jīng)由底部入口 82進入腔58，并從腔58進入回流管100回到源102。如圖3中箭頭所示，同樣的，從源102抽送水或其它類似冷卻液經(jīng)由入口 130至頂部構(gòu)件16的環(huán)形通道106，流過通道106流通至出口 132，從出口 132經(jīng)由回流管136回到源102。同樣，點燃模具焰炬12以產(chǎn)生等離子體羽P以從頂端加熱模具4內(nèi)液態(tài)部分L的金屬熔液。
[0024]參照前面描述的圖1中現(xiàn)有技術(shù)例子，將熔料麗(圖6)傾倒至液態(tài)部分或區(qū)L的頂上，在液態(tài)部分L內(nèi)產(chǎn)生氣泡BP，這些氣泡通常由惰性氣體(如氬氣或氦氣)形成，特別是在用等離子體焰炬熔化的情況下形成。此外，熔化涉及到模具等離子體焰炬12的使用，當羽流P加熱液態(tài)部分L時，焰炬的羽流P撞擊液態(tài)部分L的上表面也在那里形成氣泡BT。然而，不同于現(xiàn)有技術(shù)的系統(tǒng)，示例性的實施例中闡明了液態(tài)區(qū)L可分為氣泡區(qū)BZ和液態(tài)金屬頭MH，氣泡區(qū)BZ位于沿著液態(tài)部分L的上部，并包括氣泡BP和/或BT，液態(tài)金屬頭MH位于氣泡區(qū)BZ正下方，液態(tài)金屬頭MH沒有或基本沒有氣泡BP或BT。金屬頭MH位于糊狀區(qū)M的頂部正上方并與糊狀區(qū)M的頂部接觸，糊狀區(qū)M位于鑄錠I的固態(tài)部分S頂部正上方，并與固態(tài)部分S頂部接觸。感應(yīng)線圈14及模具4的使用允許熔化池或液態(tài)部分L具有比先前已知的更大的深度，以允許氣泡BP和BT在被困在糊狀區(qū)M和固態(tài)部分S之前有足夠的時間如現(xiàn)有技術(shù)的系統(tǒng)和方法的情況那樣向上移動至液態(tài)部分L的上表面。因此，糊狀區(qū)M和固態(tài)部分S沒有或基本沒有氣泡或氣袋。熔化(或液態(tài))部分L從臺階50上方向臺階50下方延伸通常至指狀物60的底端64和線圈14的底部或低于指狀物60的底端64和線圈14的底部。隨著鑄錠I通過升降器18下降或從模具4退出及額外的金屬熔液麗傾倒在模具4內(nèi)的液態(tài)部分L的頂上，液態(tài)部分L或金屬頭MH的下部冷卻并成為糊狀區(qū)M的一部分，隨后成為鑄錠的固態(tài)部分S的一部分，鑄造過程中，金屬頭MH保持沒有氣泡BP和BT以形成基本沒有氣袋的鑄錠I。
[0025]因此，此處示例性的方法和設(shè)備的例子提供用連續(xù)鑄造模具生產(chǎn)鑄錠的途徑，其中，鑄錠沒有或基本沒有在其內(nèi)形成的氣袋，這些氣袋由向模具內(nèi)傾倒金屬熔液引起的氣泡和/或由等離子體焰炬的等離子體羽沖擊模具內(nèi)金屬熔液上表面引起的氣泡引起。該方法和設(shè)備示例因此提供大幅改進鑄錠的能力。
[0026]在前面的描述中，使用了某些術(shù)語以便于描述的簡潔，清楚和可理解。因為這些術(shù)語是用于描述的目的，并應(yīng)予以廣義的解釋，所以對這些術(shù)語并無超出現(xiàn)有技術(shù)要求之外的不必要限定。
[0027]此外，本發(fā)明的優(yōu)選方案的說明書和附圖只是示例，本發(fā)明不局限于顯示或描述的具體細節(jié)。
【權(quán)利要求】
1.一種方法，包括如下步驟: 提供分段連續(xù)鑄造模具，所述連續(xù)鑄造模具包括交替的多個導電的向上伸出的指狀物及多個不導電的高溫絕緣片； 將金屬鑄錠從所述模具退出，其中，所述鑄錠包括固態(tài)部分、位于所述固態(tài)部分頂上的糊狀區(qū)及位于所述糊狀區(qū)頂上的液態(tài)部分； 通過下述至少一種方式在所述液態(tài)部分產(chǎn)生氣泡:(a)向所述液態(tài)部分內(nèi)傾倒金屬熔液，以及(b)用等離子體焰炬的等離子體羽加熱所述液態(tài)部分；和 用與所述模具相鄰的感應(yīng)線圈加熱包含液態(tài)金屬頭及氣泡區(qū)的所述液態(tài)部分，以使所述液態(tài)金屬頭位于所述糊狀區(qū)頂上且基本沒有氣泡，所述氣泡區(qū)位于所述液態(tài)金屬頭頂上并包括氣泡。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括用等離子體焰炬的等離子體羽加熱所述液態(tài)部分的步驟。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括將金屬熔液倒入所述液態(tài)部分的步驟。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述傾倒步驟包括如下步驟:從爐中向所述液態(tài)部分倒入金屬熔液；其中，所述爐及所述模具在惰性氣氛中。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，還包括用等離子體焰炬的等離子體羽加熱所述液態(tài)部分的步驟。
6.如權(quán)利要求3所述的方法，還包括用頂部構(gòu)件阻止所述傾倒中的金屬熔液接觸所述多個指狀物的頂部的步驟，所述頂部構(gòu)件直接設(shè)置在所述多個指狀物正上方并與所述多個指狀物相鄰。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括通過傾倒通道向所述模具內(nèi)傾倒熔料的步驟，所述傾倒通道由直接設(shè)置在所述多個指狀物正上方并與所述多個指狀物相鄰的環(huán)形頂部構(gòu)件限定。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述頂部構(gòu)件具有頂面、底面、外周及內(nèi)周，所述內(nèi)周限定所述傾倒通道；所述頂部構(gòu)件內(nèi)形成間隙，從所述頂面至所述底面、從所述外周至所述內(nèi)周延伸。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，還包括在所述間隙內(nèi)的非導電材料。
10.如權(quán)利要求7所述的方法，還包括使冷卻液移動穿過所述頂部構(gòu)件內(nèi)形成的冷卻通道冷卻所述頂部構(gòu)件的步驟。
11.如權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述頂部構(gòu)件完全覆蓋所述多個指狀物的頂部以使所述多個指狀物的頂部從上面看不可見。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述模具具有側(cè)壁，所述側(cè)壁具有內(nèi)周，所述內(nèi)周限定其內(nèi)設(shè)有所述液態(tài)部分的模具型腔；所述內(nèi)周限定較寬的上腔部分及較窄的下腔部分，并包括從所述較寬的上腔部分向所述較窄的下腔部分向內(nèi)延伸的臺階。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述臺階形成從所述較寬的上腔部分向所述較窄的下腔部分向內(nèi)且向下的角。
14.如權(quán)利要求12所述的方法，其中，所述多個指狀物包括各自的上段及各自的下段，所述上段限定所述較寬的上腔部分，所述下端限定所述較窄的下腔部分的至少一部分。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中，所述側(cè)壁具有下部；所述多個指狀物為從所述下部向上的懸臂。
16.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述感應(yīng)線圈包圍所述模具。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其中，所述多個指狀物具有各自的底部；所述感應(yīng)線圈具有與所述多個指狀物的底部相鄰的底部。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述多個指狀物具有各自的頂部；所述感應(yīng)線圈具有與所述多個指狀物的頂部相鄰的頂部。
19.一種方法，包括如下步驟: 提供分段連續(xù)鑄造模具，所述連續(xù)鑄造模具包括交替的多個導電并向上伸出的具有各自頂部的指狀物及多個不導電的高溫絕緣片； 從所述模具中退出金屬鑄錠； 用頂部構(gòu)件阻止所述傾倒中的金屬熔液接觸所述多個指狀物的頂部，所述頂部構(gòu)件設(shè)置在所述多個指狀物正上方并與所述多個指狀物相鄰；和 用與所述模具相鄰的感應(yīng)線圈加熱所述模具中的所述鑄錠的一部分。
20.—種設(shè)備,包括: 分段連續(xù)鑄造模具，包括交替的多個導電并向上伸出且具有各自頂部的指狀物及多個不導電的高溫絕緣件； 頂部構(gòu)件，設(shè)置在所述多個指狀物的頂部正上方且與所述多個指狀物的頂部相鄰并適于阻止傾倒中的金屬熔液與所述多個指狀物的頂部接觸；和 感應(yīng)線圈，與所述模具相鄰。
【文檔編號】B22D11/00GK104128573SQ201410112247
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年3月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月2日
【發(fā)明者】邁克爾·P·杰克斯, K·O·余 申請人:Rti國際金屬公司