一種掩模板清洗系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種掩模板清洗系統(tǒng)，其具有第一清洗設(shè)備，用于清洗表面的有機材料殘留物、第二清洗設(shè)備，用于清洗顆粒雜質(zhì)和第一漂洗裝置、第二漂洗裝置，分別用于對經(jīng)第一清洗設(shè)備和第二清洗設(shè)備清洗過的掩模板進行漂洗，最終將掩模板清洗干凈，本發(fā)明不僅可有效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率，從而降低清洗成本。同時，在清洗的過程中，本發(fā)明采用機械手對掩模板進行轉(zhuǎn)運，可實現(xiàn)清洗過程的連續(xù)化和自動化控制，提高了清洗效率，并進一步降低了清洗成本。
【專利說明】一種掩模板清洗系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及清洗設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種掩模板清洗系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002] 有機電致發(fā)光器件，具有自發(fā)光、反應(yīng)時間快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、 分辨率佳及高亮度等多項優(yōu)點，被認(rèn)為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。在0LED (Organic Light-Emitting Diode,有機電致發(fā)光二極管）技術(shù)中，用于真空蒸鍍的掩模板 是一項非常重要和關(guān)鍵的部件，該部件的質(zhì)量直接影響0LED產(chǎn)品的質(zhì)量和制造成本。
[0003] 掩模板（Mask)，特別是細小網(wǎng)格的掩模板（Fine Mask)，在初加工成型后，會在網(wǎng) 格內(nèi)或表面殘留金屬邊角料等顆粒物質(zhì)，影響掩模板的正常使用。在循環(huán)使用的過程中，掩 模板上會沾上有機發(fā)光材料等雜質(zhì)，這些雜質(zhì)將影響掩模板的精度或正常使用，在將掩模 板再次投入使用前必須清除。
[0004] 由于掩模板特別是Fine Mask對精度要求非?？量?，例如，一般要求掩模板的網(wǎng) 格大小誤差在3 μ m內(nèi)，因此，目前傳統(tǒng)的清洗設(shè)備無法用于對Fine Mask或掩模板進行有 效清洗，導(dǎo)致掩模板的使用成本大大增加，而且容易因清洗效果不佳而嚴(yán)重影響所生產(chǎn)出 的0LED顯示屏的質(zhì)量，甚至?xí)a(chǎn)生大量不良品，直接或間接地提高了 0LED顯示屏的生產(chǎn)成 本。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的主要目的在于，針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種掩模板清洗系統(tǒng)， 可有效清洗掩模板表面和蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)，并且不會對掩模板造成任何傷害，也不會 對掩模板的精度產(chǎn)生不利影響，從而在用于制造0LED顯示屏產(chǎn)品時，顯著提高產(chǎn)品的良品 率。
[0006] 為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案。
[0007] 本發(fā)明提供一種掩模板清洗系統(tǒng)，所述掩模板具有蒸鍍孔，所述掩模板清洗系統(tǒng) 包括用于去除所述掩模板表面的有機材料殘留物的第一清洗設(shè)備、用于漂洗所述掩模板的 第一漂洗設(shè)備、用于去除所述蒸鍍孔內(nèi)的顆粒雜質(zhì)的第二清洗設(shè)備和用于漂洗所述掩模板 的第二漂洗設(shè)備，所述第一漂洗設(shè)備與所述第一清洗設(shè)備鄰接設(shè)置，所述第二漂洗設(shè)備與 所述第二清洗設(shè)備鄰接設(shè)置；所述第一清洗設(shè)備包括至少一個超聲清洗槽，所述第一漂洗 設(shè)備包括至少一個第一漂洗槽，所述掩模板在所述超聲清洗槽內(nèi)清洗后再在所述第一漂洗 槽內(nèi)漂洗，以去除所述有機材料殘留物；所述第二清洗設(shè)備包括至少一個電解清洗槽，所述 第二漂洗設(shè)備包括至少一個第二漂洗槽，所述掩模板在所述電解清洗槽內(nèi)清洗后再在所述 第二漂洗槽內(nèi)漂洗，以去除所述顆粒雜質(zhì)。
[0008] 優(yōu)選地，還包括用于回收第一清洗液的第一純化回收設(shè)備，所述第一純化回收設(shè) 備鄰接于所述第一清洗設(shè)備，所述超聲清洗槽內(nèi)盛裝有所述第一清洗液，所述有機材料殘 留物的沸點低于所述有機材料殘留物。
[0009] 優(yōu)選地，還包括用于回收第一漂洗液的第二純化回收設(shè)備，所述第二純化回收設(shè) 備鄰接于所述第一漂洗設(shè)備，所述第一漂洗槽內(nèi)盛裝有第一漂洗液，所述第一漂洗液的沸 點低于所述第一清洗液，或者所述第一漂洗液在常溫下易揮發(fā)。
[0010] 優(yōu)選地，還包括用于回收第二清洗液的第三純化回收設(shè)備，所述第三純化回收設(shè) 備鄰接于所述第二清洗設(shè)備，所述第二清洗設(shè)備中盛裝有第二清洗液。
[0011] 優(yōu)選地，還包括用于回收第二漂洗液的第四純化回收設(shè)備，所述第四純化回收設(shè) 備鄰接于所述第二漂洗設(shè)備，所述第二漂洗槽內(nèi)盛裝有第二漂洗液，所述第二漂洗液的沸 點低于所述第二清洗液。
[0012] 優(yōu)選地，還包括封閉外罩，所述第一清洗設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備和第 二漂洗設(shè)備均設(shè)置于所述封閉外罩內(nèi)。
[0013] 優(yōu)選地，還包括機械手，所述機械手設(shè)置于一支架上，對所述掩模板進行轉(zhuǎn)運。
[0014] 優(yōu)選地，所述掩模板容置于一洗籃內(nèi)，所述機械手適于通過所述洗籃對所述掩模 板進行轉(zhuǎn)運。
[0015] 優(yōu)選地，還包括電控箱，所述電控箱包括極性相反的第一電極和第二電極，所述電 解清洗槽內(nèi)至少設(shè)置有兩個側(cè)壁，所述掩模板浸泡于所述第一清洗液中，且位于所述兩個 側(cè)壁之間；所述兩個側(cè)壁與所述第一電極連接，所述掩模板與所述第二電極連接。
[0016] 優(yōu)選地，還包括適于裝載掩模板料臺，所述料臺鄰接于所述第一清洗設(shè)備。
[0017] 本發(fā)明具有以下優(yōu)點： 本發(fā)明利用第一清洗設(shè)備去除掩模板上蒸鍍孔處的有機材料殘留物，利用第二清洗設(shè) 備去除掩模板表面的顆粒雜質(zhì)，并在第一清洗設(shè)備和第二清洗設(shè)備中盛裝不同的清洗液， 由于本發(fā)明是根據(jù)清洗液的不同，采用不同的清洗裝置對不同的雜質(zhì)進行清洗，因此，不僅 可有效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率，從而降低清洗成 本。同時，在清洗的過程中，本發(fā)明采用機械手對掩模板進行轉(zhuǎn)運，可實現(xiàn)清洗過程的連續(xù) 化和自動化控制，提高了清洗效率，并進一步降低了清洗成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018] 圖1是本發(fā)明實施例中掩模板清洗系統(tǒng)的框架示意圖。
[0019] 圖2是本發(fā)明實施例中掩模板清洗系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020] 圖3是本發(fā)明實施例中電解清洗槽的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021] 本發(fā)明目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。

【具體實施方式】
[0022] 以下將結(jié)合附圖及具體實施例詳細說明本發(fā)明的技術(shù)方案，以便更清楚、直觀地 理解本發(fā)明的發(fā)明實質(zhì)。
[0023] 參照圖1和圖2所示，本實施例提供一種掩模板清洗系統(tǒng)100,其主要用于清洗掩 模板200表面附著的有機發(fā)光材料的殘留物和掩模板200上的蒸鍍孔處的顆粒雜質(zhì)。該掩 模板清洗系統(tǒng)1〇〇包括第一清洗設(shè)備1、第一漂洗設(shè)備2、第二清洗設(shè)備3和第二漂洗設(shè)備 4,且第一漂洗設(shè)備與第一清洗設(shè)備鄰接設(shè)置，第二漂洗設(shè)備與第二清洗設(shè)備鄰接設(shè)置。其 中，第一清洗設(shè)備1用于去除掩模板表面的有機發(fā)光材料的殘留物，第二清洗設(shè)備3用于去 除蒸鍍孔內(nèi)的顆粒雜質(zhì)，第一漂洗設(shè)備2和第二漂洗設(shè)備4用于漂洗上述清洗過的掩模板 200。
[0024] 具體地，第一清洗設(shè)備1包括至少一個超聲清洗槽11 (本實施例設(shè)置為1飛個)， 第一漂洗設(shè)備2包括至少一個第一漂洗槽21 (本實施例設(shè)置為廣3個)，掩模板200在上述 超聲清洗槽11內(nèi)經(jīng)1飛次清洗后再在第一漂洗槽內(nèi)漂洗1~3次，以去除有機發(fā)光材料殘留 物。第二清洗設(shè)備3包括至少一個電解清洗槽31 (本實施例設(shè)置為1~3個)，第二漂洗設(shè)備 4包括至少一個第二漂洗槽41 (本實施例設(shè)置為1~3個)，掩模板200在電解清洗槽31內(nèi) 清洗Γ3次后再在第二漂洗槽41內(nèi)漂洗Γ3次，以去除顆粒雜質(zhì)，從而將掩模板200清洗 潔凈，使其達到生產(chǎn)0LED顯示屏所要求的潔凈度。
[0025] 掩模板200放置于第一清洗液中進行超聲清洗，通過第一清洗液對掩模板200表 面或網(wǎng)格中的有機發(fā)光材料殘留物進行清除，完成第一階段的清洗。
[0026] 為了節(jié)約清洗成本，減少廢水排放，本實施例還包括用于回收第一清洗液的第一 純化回收設(shè)備12,所述第一純化回收設(shè)備12鄰接于所述第一清洗設(shè)備1，所述超聲清洗槽 11內(nèi)盛裝有所述第一清洗液，所述有機材料殘留物的沸點低于所述有機材料殘留物。一般 的有機發(fā)光材料沸點大約在150攝氏度左右，為了便于使第一清洗液與第一漂洗液分開， 本實施例的第一清洗液的沸點大約為80攝氏度左右。
[0027] 第一階段清洗完成后，便可將掩模板200放入第一漂洗設(shè)備2中漂洗，以去除掩模 板200表面的第一清洗液，達到進一步清潔的作用。
[0028] 本實施例還包括用于回收第一漂洗液的第二純化回收設(shè)備22,所述第二純化回收 設(shè)備22鄰接于所述第一漂洗設(shè)備2,所述第一漂洗槽21內(nèi)盛裝有第一漂洗液，所述第一漂 洗液的沸點低于所述第一清洗液，或者所述第一漂洗液在常溫下易揮發(fā)，以便于將第一漂 洗液與第一清洗液分尚開來。
[0029] 具體地，參照圖3所示，本實施例的掩模板清洗系統(tǒng)100還設(shè)置有電控箱5,該電 控箱5包括極性相反的第一電極(未圖示）和第二電極(未圖示)，所述電解清洗槽31內(nèi)至 少設(shè)置有兩個側(cè)壁311，所述掩模板200在完成第一漂洗設(shè)備2的漂洗后，被放置于第二清 洗設(shè)備3,并浸泡于所述第二清洗液中，利用第二清洗液對其進行第二階段的清洗。掩模板 200位于所述兩個側(cè)壁311之間，且兩個側(cè)壁311與第一電極連接，掩模板200與第二電極 連接。這樣，在放電時，掩模板200上通有強電流。根據(jù)大電流末端放電原理，掩模板200 上的細小網(wǎng)格線會產(chǎn)生放電現(xiàn)象，凸出于網(wǎng)格線表面的金屬顆粒或灰塵顆粒上會產(chǎn)生大量 的熱量，從而將金屬顆粒或灰塵顆粒等雜質(zhì)燒融或剝離。
[0030] 同時，本實施例的第一清洗液在強電流的作用下電解，會產(chǎn)生高速氣體，這些高速 氣體帶動第一清洗液運動，使第一清洗液產(chǎn)生"沸騰"的效果，從而對掩模板200進行沖刷， 將燒融或剝離后的顆粒雜質(zhì)帶走，從而完成第二階段的清洗。
[0031] 本實施例還包括用于回收第二清洗液的第三純化回收設(shè)備32,所述第三純化回收 設(shè)備32鄰接于所述第二清洗設(shè)備3,第二清洗液盛放于所述電解清洗槽31中。
[0032] 第二階段清洗完成后，將掩模板200放入第二漂洗設(shè)備3中漂洗去除表面的第二 清洗液，達到進一步清潔的目的。
[0033] 本實施例還包括用于回收第二漂洗液的第四純化回收設(shè)備42,所述第四純化回收 設(shè)備42鄰接于所述第二漂洗設(shè)備4,所述第二漂洗槽41內(nèi)盛裝有第二漂洗液，所述第二漂 洗液的沸點低于所述第二清洗液。當(dāng)然，第二漂洗液可以采用與第一漂洗液相同的漂洗液， 并且易揮發(fā)，這樣便有利于將第二漂洗液從第二清洗液中分離，以便循環(huán)利用。
[0034] 本實施例還設(shè)置有用于轉(zhuǎn)運掩模板200的機械手6,該機械手6可將掩模板200放 入第一清洗設(shè)備1、第一漂洗設(shè)備2、第二清洗設(shè)備3和第二漂洗設(shè)備4中，這樣便可使本實 施例的掩模板清洗設(shè)備100實現(xiàn)自動化，連續(xù)性操作。
[0035] 同時，本實施例還包括有封閉外罩7,上述第一清洗設(shè)備1、第一漂洗設(shè)備2、第二 清洗設(shè)備3和第二漂洗設(shè)備4均設(shè)置于封閉外罩7內(nèi)，使內(nèi)部形成一個無塵空間，避免清洗 后的掩模板200再次沾染到灰塵。
[0036] 參照圖3,為了便于機械手6的抓持或掛置，本實施例將掩模板200容置于一洗籃 300內(nèi)，該洗籃300可以放入到第一清洗設(shè)備1、第一漂洗設(shè)備2、第二清洗設(shè)備3和第二漂 洗設(shè)備4中，作為掩模板200的托架，機械手6可以通過該洗籃300對掩模板200進行轉(zhuǎn)運。
[0037] 本實施例中，電解清洗裝置11是通過大電流尖端放電原理去除顆粒雜質(zhì)的，在電 極放電時，電流從掩模板200中穿過，使掩模板200通有強電流，從而將顆粒雜質(zhì)去除。為 保證電極能長時間使用而不被第二清洗液腐蝕，本實施例的電極由耐強堿導(dǎo)電材料制成， 該耐強堿導(dǎo)電材料包括但不限于鈦合金、鉛合金和石墨。
[0038] 當(dāng)采用的第二漂洗液為常溫下易揮發(fā)性溶劑時，掩模板200經(jīng)過第二漂洗液漂洗 后，其表面的第二漂洗液自然風(fēng)干，因此無需再設(shè)置干燥設(shè)備。若采用其它常溫下不易揮發(fā) 的溶劑，則可根據(jù)需要設(shè)置一干燥設(shè)備，對掩模板200進行風(fēng)干處理。
[0039] 此外，本實施例還設(shè)置有料臺8,用于裝載掩模板，該料臺8鄰接于第一清洗設(shè)備 1，機械手6可以從料臺8上抓取掩模板200,放入第一清洗設(shè)備1中清洗。
[0040] 綜上所述，本發(fā)明利用第一清洗設(shè)備去除掩模板上蒸鍍孔處的有機材料殘留物， 利用第二清洗設(shè)備去除掩模板表面的顆粒雜質(zhì)，并在第一清洗設(shè)備和第二清洗設(shè)備中盛裝 不同的清洗液，由于本發(fā)明是根據(jù)清洗液的不同，采用不同的清洗裝置對不同的雜質(zhì)進行 清洗，因此，不僅可有效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率， 從而降低清洗成本。同時，在清洗的過程中，本發(fā)明采用機械手對掩模板進行轉(zhuǎn)運，可實現(xiàn) 清洗過程的連續(xù)化和自動化控制，提高了清洗效率，并進一步降低了清洗成本。
[0041] 以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本發(fā)明 說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng) 域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種掩模板清洗系統(tǒng)，所述掩模板具有蒸鍍孔，其特征在于：所述掩模板清洗系統(tǒng) 包括用于去除所述掩模板表面的有機材料殘留物的第一清洗設(shè)備、用于漂洗所述掩模板的 第一漂洗設(shè)備、用于去除所述蒸鍍孔內(nèi)的顆粒雜質(zhì)的第二清洗設(shè)備和用于漂洗所述掩模板 的第二漂洗設(shè)備，所述第一漂洗設(shè)備與所述第一清洗設(shè)備鄰接設(shè)置，所述第二漂洗設(shè)備與 所述第二清洗設(shè)備鄰接設(shè)置；所述第一清洗設(shè)備包括至少一個超聲清洗槽，所述第一漂洗 設(shè)備包括至少一個第一漂洗槽，所述掩模板在所述超聲清洗槽內(nèi)清洗后再在所述第一漂洗 槽內(nèi)漂洗，以去除所述有機材料殘留物；所述第二清洗設(shè)備包括至少一個電解清洗槽，所述 第二漂洗設(shè)備包括至少一個第二漂洗槽，所述掩模板在所述電解清洗槽內(nèi)清洗后再在所述 第二漂洗槽內(nèi)漂洗，以去除所述顆粒雜質(zhì)。
2. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括用于回收第一清洗液的 第一純化回收設(shè)備，所述第一純化回收設(shè)備鄰接于所述第一清洗設(shè)備，所述超聲清洗槽內(nèi) 盛裝有所述第一清洗液，所述有機材料殘留物的沸點低于所述有機材料殘留物。
3. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括用于回收第一漂洗液的 第二純化回收設(shè)備，所述第二純化回收設(shè)備鄰接于所述第一漂洗設(shè)備，所述第一漂洗槽內(nèi) 盛裝有第一漂洗液，所述第一漂洗液的沸點低于所述第一清洗液，或者所述第一漂洗液在 常溫下易揮發(fā)。
4. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括用于回收第二清洗液的 第三純化回收設(shè)備，所述第三純化回收設(shè)備鄰接于所述第二清洗設(shè)備，所述第二清洗設(shè)備 中盛裝有第二清洗液。
5. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括用于回收第二漂洗液的 第四純化回收設(shè)備，所述第四純化回收設(shè)備鄰接于所述第二漂洗設(shè)備，所述第二漂洗槽內(nèi) 盛裝有第二漂洗液，所述第二漂洗液的沸點低于所述第二清洗液。
6. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括封閉外罩，所述第一清洗 設(shè)備、第二清洗設(shè)備、第一漂洗設(shè)備和第二漂洗設(shè)備均設(shè)置于所述封閉外罩內(nèi)。
7. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括機械手，所述機械手設(shè)置 于一支架上，對所述掩模板進行轉(zhuǎn)運。
8. 如權(quán)利要求7所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：所述掩模板容置于一洗籃內(nèi)，所 述機械手適于通過所述洗籃對所述掩模板進行轉(zhuǎn)運。
9. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括電控箱，所述電控箱包括 極性相反的第一電極和第二電極，所述電解清洗槽內(nèi)至少設(shè)置有兩個側(cè)壁，所述掩模板浸 泡于所述第一清洗液中，且位于所述兩個側(cè)壁之間；所述兩個側(cè)壁與所述第一電極連接，所 述掩模板與所述第二電極連接。
10. 如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗系統(tǒng)，其特征在于：還包括適于裝載掩模板料臺， 所述料臺鄰接于所述第一清洗設(shè)備。
【文檔編號】C23C14/04GK104152846SQ201410059568
【公開日】2014年11月19日 申請日期:2014年2月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月21日
【發(fā)明者】唐軍 申請人:唐軍