一種區(qū)塊掩模板結(jié)構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種區(qū)塊掩模板結(jié)構。
【背景技術】
[0002]現(xiàn)有全彩主動有機發(fā)光二極體顯示屏生產(chǎn)中，金屬掩模直接影響蒸鍍品質(zhì)，而在金屬掩模板制造過程中，區(qū)塊金屬掩模板總有許多設計如半蝕刻區(qū)與緩沖區(qū)設計是為了使張力更加平均施力，但區(qū)塊金屬掩模板在制造上往往有無法區(qū)別管理的問題，故希望設計一種區(qū)塊掩模板結(jié)構，能實現(xiàn)張力分散與管理訊息合并的要求。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]針對上述問題，本實用新型提供一種區(qū)塊掩模板結(jié)構，以實現(xiàn)張力分散與識別管理的功能。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型的技術方案如下:
[0005]區(qū)塊掩模板結(jié)構，其特征在于，包括掩模板本體，所述掩模板本體上設置有半蝕刻區(qū)與緩沖區(qū)，所述緩沖區(qū)位于半蝕刻區(qū)的外側(cè)，在所述半蝕刻區(qū)或緩沖區(qū)設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼。
[0006]在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中，所述二維條碼設置在所述半蝕刻區(qū)。
[0007]在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中，所述二維條碼設置在所述緩沖區(qū)。進一步，所述二維條碼的寬度與緩沖區(qū)的寬度一致。
[0008]在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中，所述二維條碼設置在緩沖區(qū)的中部位置?；蛘?，所述二維條碼設置在緩沖區(qū)的端部位置。
[0009]本實用新型通過在所述半蝕刻區(qū)或緩沖區(qū)設置二維條碼的技術解決方案，既實現(xiàn)了張力均勻分散，不容易產(chǎn)生皺折，又通過二維條碼方便管理。
[0010]本實用新型的特點可參閱本案圖式及以下較好實施方式的詳細說明而獲得清楚地了解。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型在實施例1中的示意圖。
[0012]圖2為圖1的張力分布示意圖。
[0013]圖3為現(xiàn)有技術的不意圖。
[0014]圖4為圖3的張力分布示意圖。
[0015]圖5為本實用新型在實施例2中的示意圖。
[0016]圖6為本實用新型在實施例3中的示意圖。
【具體實施方式】
[0017]為了使本實用新型實現(xiàn)的技術手段、創(chuàng)作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體實施例進一步闡述本實用新型。
[0018]實施例1
[0019]參見圖1和2，一種區(qū)塊掩模板結(jié)構，包括掩模板本體10，掩模板本體上設置有半蝕刻區(qū)11與緩沖區(qū)12，緩沖區(qū)12位于半蝕刻區(qū)11的外側(cè)，在緩沖區(qū)12的中部位置設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼13。優(yōu)選二維條碼13的寬度與緩沖區(qū)12的寬度一致。在其它實施例中，二維條碼13的寬度也可以根據(jù)實際需要通過模擬來確定。參見圖3和圖4，與現(xiàn)有的區(qū)塊掩模板結(jié)構相比，現(xiàn)有技術中的緩沖區(qū)12的圖案有序排列，造成張力不利完全分散(參見圖4中的箭頭所示的張力分布示意圖)，容易產(chǎn)生皺折;而本申請中通過設置二維條碼13，使張力分散均勻(參見圖2中的箭頭所示的張力分布示意圖)，且通過二維條碼兼容管理功能。
[0020]實施例2
[0021 ]參見圖5，一種區(qū)塊掩模板結(jié)構，包括掩模板本體10，掩模板本體10上設置有半蝕刻區(qū)11與緩沖區(qū)12，緩沖區(qū)12位于半蝕刻區(qū)11的外側(cè)，在半蝕刻區(qū)11設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼14。
[0022]實施例3
[0023]參見圖6，一種區(qū)塊掩模板結(jié)構，包括掩模板本體10，掩模板本體上設置有半蝕刻區(qū)11與緩沖區(qū)12，緩沖區(qū)12位于半蝕刻區(qū)11的外側(cè)，在緩沖區(qū)12的端部位置設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼15。
[0024]以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征和本實用新型的優(yōu)點。本行業(yè)的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型的范圍內(nèi)。本實用新型要求的保護范圍由所附的權利要求書及其等同物界定。
【主權項】
1.區(qū)塊掩模板結(jié)構，其特征在于，包括掩模板本體，所述掩模板本體上設置有半蝕刻區(qū)與緩沖區(qū)，所述緩沖區(qū)位于半蝕刻區(qū)的外側(cè)，在所述半蝕刻區(qū)或緩沖區(qū)設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼。2.根據(jù)權利要求1所述的區(qū)塊掩模板結(jié)構，其特征在于，所述二維條碼設置在所述半蝕刻區(qū)。3.根據(jù)權利要求1所述的區(qū)塊掩模板結(jié)構，其特征在于，所述二維條碼設置在所述緩沖區(qū)。4.根據(jù)權利要求3所述的區(qū)塊掩模板結(jié)構，其特征在于，所述二維條碼的寬度與緩沖區(qū)的寬度一致。5.根據(jù)權利要求3所述的區(qū)塊掩模板結(jié)構，其特征在于，所述二維條碼設置在緩沖區(qū)的中部位置。6.根據(jù)權利要求3所述的區(qū)塊掩模板結(jié)構，其特征在于，所述二維條碼設置在緩沖區(qū)的端部位置。
【專利摘要】本實用新型公開了一種區(qū)塊掩模板結(jié)構，包括掩模板本體，所述掩模板本體上設置有半蝕刻區(qū)與緩沖區(qū)，所述緩沖區(qū)位于半蝕刻區(qū)的外側(cè)，在所述半蝕刻區(qū)或緩沖區(qū)設置有起張力分散與識別管理作用的二維條碼。本實用新型通過在半蝕刻區(qū)或緩沖區(qū)設置二維條碼的技術解決方案，既實現(xiàn)了張力均勻分散，不容易產(chǎn)生皺折，又通過二維條碼方便管理。
【IPC分類】C23C14/04
【公開號】CN205295445
【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】余國正
【申請人】上海和輝光電有限公司
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2016年1月8日