技術編號：3310156
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供一種掩模板清洗系統(tǒng)，其具有第一清洗設備，用于清洗表面的有機材料殘留物、第二清洗設備，用于清洗顆粒雜質和第一漂洗裝置、第二漂洗裝置，分別用于對經(jīng)第一清洗設備和第二清洗設備清洗過的掩模板進行漂洗，最終將掩模板清洗干凈，本發(fā)明不僅可有效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率，從而降低清洗成本。同時，在清洗的過程中，本發(fā)明采用機械手對掩模板進行轉運，可實現(xiàn)清洗過程的連續(xù)化和自動化控制，提高了清洗效率，并進一步降低了清洗成本。專利說明一...
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