研磨治具的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種研磨治具,用于結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物,其包括:在一預設(shè)寬幅的基材作用一側(cè)通過膠來結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小的承置空間的置放座,并在所述基材的另一側(cè)設(shè)置一層用于貼設(shè)一底座的膠;所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一側(cè)的置放座中的承置空間,且所述待研磨物底部能與所述承置空間內(nèi)部的膠形成確切的方位結(jié)合,所述研磨治具反向組設(shè)于機臺上進行拋光處理。由此,本實用新型可以避免待研磨物在進行拋光處理時不慎發(fā)生脫落的問題,并可提升待研磨物的拋光合格率。
【專利說明】研磨治具【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種研磨治具,特別是指一種能避免待研磨物在進行拋光處理時不慎發(fā)生脫落,并提升待研磨物的拋光良率的研磨治具。
【背景技術(shù)】
[0002]目前用于拋光諸如智能型手機屏幕面板或各種辨識系統(tǒng)面板之類的研磨治具的結(jié)構(gòu)基本是:一預設(shè)寬幅的基材上結(jié)合有多個PU發(fā)泡綿體,以將預作拋光的待研磨物(即組設(shè)在默認對象上的屏幕玻璃,或稱為藍寶石)吸附在基材的PU發(fā)泡綿體上,隨即再將整個結(jié)合有待研磨物的研磨治具反向設(shè)置在拋光機臺上(該機臺的結(jié)合部位作用面是朝下狀態(tài)),以配合組設(shè)在拋光機臺另一靠下部位的研磨機具在啟動后旋轉(zhuǎn),來對待研磨物做所需精密度及預設(shè)厚度的拋光處理。在反向設(shè)置的過程中容易因PU發(fā)泡綿體的吸附力道不足,致使待研磨物因地心引力的因素而掉落,或者在研磨過程中無法控制待研磨物,致使待研磨物被拋出破裂等等因素,造成產(chǎn)品合格率低落。 [0003]上述這些允許待研磨物結(jié)合其間的研磨治具在使用上無法確實達到預期穩(wěn)定的組設(shè)在拋光機臺上的功效,而且結(jié)合在研磨治具中的待研磨物是利用PU發(fā)泡綿體進行方位結(jié)合,以致在作拋光處理時無法固定而產(chǎn)生空轉(zhuǎn)或因待研磨物掉落、被拋出研磨治具,使得PU發(fā)泡綿體無法重復使用。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]針對上述問題,本實用新型的主要目的在于提供一種能克服在吸附上存在脫落問題的研磨治具,其可避免待研磨物在進行反向設(shè)置或拋光處理時發(fā)生脫落,并提升待研磨物的拋光合格率。
[0005]為達到上述目的,本實用新型所提供的一種研磨治具,用于結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物,其特征在于包括:在一預設(shè)寬幅的基材作用一側(cè)通過膠來結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小的承置空間的置放座,并在所述基材的另一側(cè)設(shè)置一層用于貼設(shè)一底座的膠;所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一側(cè)的置放座中的承置空間,且所述待研磨物底部能與所述承置空間內(nèi)部的膠形成確切的方位結(jié)合,所述研磨治具為反向組設(shè)于機臺上進行拋光處理。
[0006]為達到上述目的,本實用新型還提供了另一技術(shù)方案:一種研磨治具,用于結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物,其特征在于包括:在一預設(shè)寬幅的基材作用一側(cè)通過膠結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間的置放座,并在每一所述承置空間內(nèi)部置入朝上層面設(shè)有一層膠的結(jié)合片,所述結(jié)合片底部與所述承置空間內(nèi)的膠呈方位牽制,而在所述基材的另一側(cè)也設(shè)有一層用于貼設(shè)一底座的膠;所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一側(cè)的置放座中的承置空間,且所述待研磨物底部能與所述結(jié)合片上的膠形成確切的方位結(jié)合,所述研磨治具為反向組設(shè)于機臺上進行拋光處理。
[0007]為達到上述目的,本實用新型還提供了再一技術(shù)方案:一種研磨治具,用于結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物,其特征在于包括:在一預設(shè)寬幅的基材作用一側(cè)通過膠結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間的置放座,并在每一所述承置空間內(nèi)部置入結(jié)合片,所述結(jié)合片底部與所述承置空間內(nèi)的膠呈方位牽制,而在所述基材的另一側(cè)也設(shè)有一層用于貼設(shè)一底座的膠;所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一側(cè)的置放座中的承置空間,且所述待研磨物底部能與用水沾濕的結(jié)合片形成確切的方位結(jié)合,所述研磨治具為反向組設(shè)于機臺上進行拋光處理。
[0008]采用上述技術(shù)方案,本實用新型采用在研磨治具的基材作用一側(cè)通過膠來結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間的置放座,以使待研磨物可依序置入并受到每一承置空間相應部位的膠所產(chǎn)生的確切的方位結(jié)合,從而避免待研磨物反向設(shè)置在機臺上時的脫落,同時達到確切固定且不致產(chǎn)生空轉(zhuǎn)防止研磨過程中待研磨物被拋出的功效,以提升待研磨物的拋光合格率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型研磨治具的俯視圖;
[0010]圖2是本實用新型研磨治具的構(gòu)件分解前視截面圖;
[0011]圖3是本實用新型研磨治具的組體前視截面圖;
[0012]圖4是本實用新型研磨治具未結(jié)合待研磨物時的前視截面圖;
[0013]圖5是本實用新型研磨治具與待研磨物完成結(jié)合的前視截面圖;
[0014]圖6是本實用新型將結(jié)合有待研磨物的研磨治具貼設(shè)在機臺上的前視圖;
[0015]圖7是本實用新型研磨治具第二實施例的構(gòu)件分解前視截面圖;
[0016]圖8是本實用新型研磨治具第二實施例的組體前視截面圖;
[0017]圖9是本實用新型研磨治具第二實施例未結(jié)合待研磨物時的前視截面圖;
[0018]圖10是本實用新型研磨治具第二實施例與待研磨物完成結(jié)合的前視截面圖;
[0019]圖11是本實用新型將結(jié)合有待研磨物的研磨治具貼設(shè)在機臺上的前視圖;
[0020]圖12是本實用新型研磨治具第三實施例的組體前視截面圖;
[0021]圖13是本實用新型研磨治具第三實施例未結(jié)合待研磨物時的前視截面圖。
【具體實施方式】
[0022]為了詳細說明本實用新型的結(jié)構(gòu)、特點及功效,現(xiàn)舉以下較佳實施例并配合【專利附圖】
【附圖說明】如下。
[0023]本實用新型所提供的研磨治具的第一實施形態(tài)如圖1、圖2、圖3所示,結(jié)合有厚度較薄且需拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物的研磨治具6包括:在一預設(shè)寬幅的基材I(在本實施例中基材I是以PP(Polyproylene)即聚丙烯作為實施)作用一側(cè)設(shè)一層膠2,以通過這層膠2來結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間31 (此承置空間31的孔徑是依據(jù)預結(jié)合入的待研磨物的外周邊作大小相符的設(shè)定)的置放座3,并在基材I的另一側(cè)也設(shè)一層膠2,用來配合貼設(shè)一底座4,同時,設(shè)置在置放座3的每一承置空間31內(nèi)部的膠2在未結(jié)合待研磨物之前是用離型膜5進行覆設(shè),由此構(gòu)成一研磨治具6。
[0024]將待研磨物7結(jié)合入上述結(jié)構(gòu)的研磨治具6的操作,如圖3、圖4所示,是先將覆設(shè)在置放座3內(nèi)每一承置空間31的離型膜5撕下,再將待研磨物7 (在本實施例中是以如藍寶石之類為例)依序置入基材I 一側(cè)置放座3中的承置空間31,并使待研磨物7底部能與承置空間31內(nèi)部的膠2形成一確切的位置固定(如圖5所示);之后,再將研磨治具6反向并使其中的基材I另一側(cè)結(jié)合的底座4能與拋光機臺8上組設(shè)的陶磁盤作方位限制(如圖6所示),由此,鄰靠在拋光機臺8下方的研磨機具在啟動后通過旋轉(zhuǎn)對待研磨物7進行所需精密度及預設(shè)厚度的拋光處理,而結(jié)合在研磨治具6內(nèi)的每一待研磨物7在進行拋光處理時,因是呈完全的置入相應承置空間31內(nèi)并呈確切貼合,而能避免研磨時的掉落,以提升待研磨物7的拋光合格率。
[0025]本實用新型所提供的研磨治具的另一實施形態(tài)如圖7、圖8所示,也是用來結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物的研磨治具6’包括:在一預設(shè)寬幅的基材I (在本實施例中基材I是以PP(Polyproylene)即聚丙烯作為實施)作用一側(cè)設(shè)一層膠2,以通過這層膠2來結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間31 (此承置空間31的孔徑是依據(jù)預結(jié)合入的待研磨物外周邊作大小相符的設(shè)定)的置放座3,并在每一承置空間31內(nèi)部置入朝上層面設(shè)有一層膠33的結(jié)合片32 (在本實施例中結(jié)合片32是以絨布作為實施),結(jié)合片32底部與承置空間31內(nèi)的膠2呈一方位牽制,而在基材I的另一側(cè)也設(shè)一層膠2,用來配合一底座4的方位貼設(shè),而在置放座3的每一承置空間31內(nèi)部結(jié)合片32上的膠33上,則可在未結(jié)合待研磨物之前用離型膜5進行覆設(shè),由此構(gòu)成一研磨治具6’。
[0026]將待研磨物7結(jié)合入上述結(jié)構(gòu)的研磨治具6’的操作,如圖8、圖9所示,是先將覆設(shè)在置放座3中每一承置空間31的離型膜5撕下,再將待研磨物7 (在本實施例中是以如藍寶石之類為例)依序置入基材I 一側(cè)置放座3中的承置空間31,并使待研磨物7底部能與結(jié)合片32上的膠33形成確切的方位結(jié)合(如圖10所示),之后,再將研磨治具6’反向并使其中的基材I另一側(cè)結(jié)合的底座4能與拋光機臺8上組設(shè)的陶磁盤作一方位限制(如圖11所示),由此,對相鄰靠下方位的研磨機具在啟動后旋轉(zhuǎn)來對待研磨物7進行所需精密度及預設(shè)厚度的拋光處理,而結(jié)合在研磨治具6’中的每一待研磨物7在進行拋光處理時,因是呈完全的置入相應承置空間31、并與其中的結(jié)合片32保持確切的貼合,使結(jié)合片32在研磨過程中擔任緩沖舒壓的功能,避免研磨過程中過于硬碰硬,以提升待研磨物7的拋光合格率。
[0027]本實用新型所提供的研磨治具的第三實施形態(tài)如圖12、圖13所示,也是用于結(jié)合厚度較薄(厚度約0.27_)且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物的研磨治具6’’包括:在一預設(shè)寬幅的基材I (在本實施例中基材I是以FRP作為實施)作用一側(cè)為設(shè)一層膠2,以通過該層膠2來結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間31 (此承置空間31的孔徑是依據(jù)預結(jié)合入的待研磨物外周邊作大小相符的設(shè)定)的置放座3,并在每一承置空間31內(nèi)部置入結(jié)合片32 (在本實施例中結(jié)合片32是以絨布作為實施),結(jié)合片32底部與承置空間31內(nèi)的膠2呈一方位牽制,而在基材I的另一側(cè)也設(shè)置一層膠2,用來配合一底座4的方位貼設(shè),同時,在置放座3的每一承置空間31內(nèi)部的結(jié)合片32與待研磨物7結(jié)合之前,是用水34將結(jié)合片32層面噴濕,以產(chǎn)生一與待研磨物7形成確切附著的附著力,從而構(gòu)成一研磨治具6’ ’。而研磨治具6’ ’配合拋光機臺的組設(shè)、及與相鄰靠下方位的研磨機具作為待研磨物7的拋光處理是和前述第一、第二實施的動作方式一致。
【權(quán)利要求】
1.一種研磨治具,用于結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物,其特征在于包括:在一預設(shè)寬幅的基材作用一側(cè)通過膠來結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小的承置空間的置放座,并在所述基材的另一側(cè)設(shè)置一層用于貼設(shè)一底座的膠; 所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一側(cè)的置放座中的承置空間,且所述待研磨物底部能與所述承置空間內(nèi)部的膠形成確切的方位結(jié)合,所述研磨治具為反向組設(shè)于機臺上進行拋光處理。
2.一種研磨治具,用于結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物,其特征在于包括:在一預設(shè)寬幅的基材作用一側(cè)通過膠結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間的置放座,并在每一所述承置空間內(nèi)部置入朝上層面設(shè)有一層膠的結(jié)合片,所述結(jié)合片底部與所述承置空間內(nèi)的膠呈方位牽制,而在所述基材的另一側(cè)也設(shè)有一層用于貼設(shè)一底座的膠; 所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一側(cè)的置放座中的承置空間,且所述待研磨物底部能與所述結(jié)合片上的膠形成確切的方位結(jié)合,所述研磨治具為反向組設(shè)于機臺上進行拋光處理。
3.一種研磨治具,用于結(jié)合厚度較薄且須拋光成所需辨識清晰度高的待研磨物,其特征在于包括:在一預設(shè)寬幅的基材作用一側(cè)通過膠結(jié)合一表層面形成有多個預設(shè)大小承置空間的置放座,并在每一所述承置空間內(nèi)部置入結(jié)合片,所述結(jié)合片底部與所述承置空間內(nèi)的膠呈方位牽制,而在所述基材的另一側(cè)也設(shè)有一層用于貼設(shè)一底座的膠; 所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一側(cè)的置放座中的承置空間,且所述待研磨物底部能與用水沾濕的結(jié)合片形成確切的方位結(jié)合,所述研磨治具為反向組設(shè)于機臺上進行拋光處理。
【文檔編號】B24B37/27GK203738565SQ201320797436
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2013年12月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月5日
【發(fā)明者】洪岳旭 申請人:洪岳旭