一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置制造方法
【專利摘要】一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置。本實(shí)用新型為了解決現(xiàn)有技術(shù)的生產(chǎn)工序長(zhǎng)、成本高、占用場(chǎng)地多和導(dǎo)電薄膜熱處理過(guò)程存在傳送張力,會(huì)導(dǎo)致薄膜被拉伸變形和使用上產(chǎn)生熱收縮的缺陷。技術(shù)方案要點(diǎn):是一個(gè)真空封閉室,其內(nèi)設(shè)有特定的放卷室、濺鍍室和收卷室,特征是濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室,熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開,熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開,導(dǎo)電薄膜從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室,導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。放卷室和濺鍍室之間還可以設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室。
【專利說(shuō)明】 一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及導(dǎo)電薄膜的成型設(shè)備,具體是一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]導(dǎo)電薄膜是一種目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于平板顯示、屏式觸控技術(shù)、太陽(yáng)能電池板、太陽(yáng)能控制膜、防止起霧除霜玻璃、冰玻璃、防靜電涂層等諸多領(lǐng)域的材料。結(jié)構(gòu)是在薄膜基材的一面附著有透明導(dǎo)電層,附著導(dǎo)電層可以采用濺鍍、脈沖激光沉積、真空蒸鍍、化學(xué)氣相沉積、溶膠凝膠法等技術(shù)手段來(lái)實(shí)現(xiàn)。
[0003]導(dǎo)電薄膜的濺鍍工藝,就是在真空狀態(tài)充入惰性氣體的環(huán)境下,在塑膠薄膜基材(陽(yáng)極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電,通過(guò)輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體,產(chǎn)生等離子體將金屬靶材的原子轟出,沉積在薄膜基材上。金屬靶材(陰極)可以采用ITO(氧化銦錫)、IGZO (氧化銦鎵鋅)、ITiO (氧化銦鈦)、AZO (氧化鋁鋅)、ZnO (氧化鋅)中的一種。
[0004]導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型設(shè)備,有如中國(guó)臺(tái)灣專利申請(qǐng)第TW201250027A1號(hào)中的設(shè)備部分,是一個(gè)真空封閉室內(nèi)依次設(shè)置有放卷室、濺鍍預(yù)加熱室、第一濺鍍室、第二濺鍍室、收卷室,第一濺鍍室和第二濺鍍室內(nèi)各設(shè)有膜薄傳送輥筒,在薄膜傳送輥筒的外側(cè)各分布有若干個(gè)金屬靶材陰極,濺鍍預(yù)加熱過(guò)程的膜薄傳送是由若干導(dǎo)向輥進(jìn)行有張力傳送。
[0005]導(dǎo)電薄膜濺鍍成型后一般需要進(jìn)行熱處理(或稱退火),一是為了促使導(dǎo)電薄膜的透明導(dǎo)電層形成結(jié)晶,以提高導(dǎo)電薄膜的使用壽命;二是讓導(dǎo)電薄膜進(jìn)行預(yù)先熱收縮,避免日后使用上會(huì)出現(xiàn)熱收縮。當(dāng)將整卷傳送的導(dǎo)電薄膜進(jìn)行熱處理時(shí),如果導(dǎo)電薄膜的加熱過(guò)程存在傳送張力,導(dǎo)電薄膜就會(huì)被拉伸變形,日后使用也會(huì)容易產(chǎn)生熱收縮現(xiàn)象。
[0006]導(dǎo)電薄膜濺鍍成型后的熱處理設(shè)備,有如中國(guó)臺(tái)灣專利申請(qǐng)第TW201221363A1號(hào)中的設(shè)備部分,是一個(gè)可以減少導(dǎo)電薄膜加熱過(guò)程的傳送張力的技術(shù)方案。其加熱裝置采用熱風(fēng)加熱方式,加熱裝置內(nèi)設(shè)有多個(gè)上下交叉對(duì)吹的熱風(fēng)嘴,導(dǎo)電薄膜作水平傳送經(jīng)過(guò)加熱爐時(shí)由于熱風(fēng)嘴上下交叉鼓風(fēng)而形成懸浮狀態(tài),從而減少了加熱過(guò)程的傳送張力。但是加熱過(guò)程對(duì)導(dǎo)電薄膜鼓風(fēng)也會(huì)形成對(duì)導(dǎo)電薄膜的一定張力且張力不很均勻,所以這種消除張力的加熱效果不佳。
[0007]使用上述已有技術(shù)存在的缺點(diǎn):一是濺鍍成型設(shè)備和濺鍍成型后的熱處理設(shè)備各為獨(dú)立設(shè)備,造成整個(gè)導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)工序較長(zhǎng),生產(chǎn)成本較高,設(shè)備占用場(chǎng)地較多;二是導(dǎo)電薄膜熱處理過(guò)程仍然存在一定的傳送張力,會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形和日后使用容易產(chǎn)生熱收縮;三是濺鍍預(yù)加熱的膜薄傳送是有張力傳送,會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形而影響導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型質(zhì)量;四是分布在薄膜傳送輥筒外側(cè)的若干個(gè)金屬靶材陰極沒(méi)有分隔開,會(huì)造成濺鍍均勻性較差。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]本實(shí)用新型的主要目的是提供一種改進(jìn)的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,以克服現(xiàn)有技術(shù)的整個(gè)導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)工序較長(zhǎng)、生產(chǎn)成本較高、設(shè)備占用場(chǎng)地較多和導(dǎo)電薄膜熱處理過(guò)程仍然存在一定的傳送張力,會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形和日后使用容易產(chǎn)生熱收縮的缺陷。本實(shí)用新型的另外目的是進(jìn)一步改進(jìn),以克服現(xiàn)有技術(shù)的濺鍍預(yù)加熱的膜薄傳送是有張力傳送,導(dǎo)致導(dǎo)電薄膜被拉伸變形而影響導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型質(zhì)量和濺鍍均勻性的缺陷。
[0009]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,是一個(gè)真空封閉室,其內(nèi)設(shè)置有放卷室、濺鍍室和收卷室,濺鍍室內(nèi)設(shè)有膜薄傳送輥筒,薄膜傳送輥筒外側(cè)分布有若干個(gè)金屬靶材陰極,薄膜基材從放卷室的放卷機(jī)構(gòu)輸出、進(jìn)入濺鍍室繞薄膜傳送輥筒傳送、由金屬靶材陰極釋放的粒子濺鍍?cè)诒∧せ纳隙蔀閷?dǎo)電薄膜、然后進(jìn)入收卷室為收卷機(jī)構(gòu)所收卷,其特征是:所述濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室,熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開,熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開,導(dǎo)電薄膜是先從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室,導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
[0010]上述技術(shù)方案所述的真空封閉室內(nèi)可以由若干傳送輥與放卷機(jī)構(gòu)、薄膜傳送輥筒和收卷機(jī)構(gòu)等配合構(gòu)成薄膜基材及其導(dǎo)電薄膜的傳送路徑。
[0011]上述技術(shù)方案所述的濺鍍室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處可以設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、熱處理室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥,所述收卷室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處可以設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、加熱室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥,傳送速度限定輥可以是由一對(duì)有動(dòng)力驅(qū)動(dòng)的壓滾組成。
[0012]上述技術(shù)方案所述的熱處理室內(nèi)在與導(dǎo)電薄膜的懸垂底部相對(duì)應(yīng)處可以設(shè)有測(cè)量懸垂底部位置的光電傳感器。
[0013]上述技術(shù)方案所述的放卷室和濺鍍室之間可以設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室,濺鍍預(yù)加熱室與放卷室之間由帶有縫口的放卷室隔板隔開,濺鍍預(yù)加熱室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍預(yù)加熱室隔板隔開,薄膜基材是先從放卷室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室進(jìn)行預(yù)加熱后才從濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍室,薄膜基材在濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
[0014]上述技術(shù)方案所述的放卷室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處可以設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥,所述濺鍍室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處可以設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處可以設(shè)有懸垂限位輥,傳送速度限定輥可以是由一對(duì)有動(dòng)力驅(qū)動(dòng)的壓滾組成。
[0015]上述技術(shù)方案所述的濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在與薄膜基材的懸垂底部相對(duì)應(yīng)處可以設(shè)有測(cè)量懸垂底部位置的光電傳感器。
[0016]上述技術(shù)方案所述的濺鍍室內(nèi)可以在每二個(gè)相鄰金屬靶材陰極之間設(shè)有隔板。
[0017]本實(shí)用新型的有益效果:一是由于濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室,熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開,熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開,導(dǎo)電薄膜是先從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室,所以導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型工藝和濺鍍成型后的熱處理工藝可以在同一臺(tái)設(shè)備上完成,整個(gè)導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)工序短,降低了生產(chǎn)成本,減少設(shè)備使用場(chǎng)地;二是由于導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,所以導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)加熱的過(guò)程是處于無(wú)張力狀態(tài),這樣導(dǎo)電薄膜不會(huì)在加熱時(shí)被拉伸變形,也能夠達(dá)到預(yù)先熱收縮的較佳效果,解決了日后使用上容易產(chǎn)生熱收縮的問(wèn)題;三是由于熱處理室也是處于真空狀態(tài),同時(shí)熱處理室內(nèi)設(shè)有熱輻射加熱的加熱器,加熱過(guò)程導(dǎo)電薄膜不會(huì)抖動(dòng)和被吹脹,所以薄膜基材不會(huì)碰觸到上下兩側(cè)的加熱器,這樣就可以在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處都設(shè)有加熱器,從而提高了導(dǎo)電薄膜的熱收縮均勻度和加熱效率;四是由于放卷室和濺鍍室之間可以設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室,薄膜基材在濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器,所以濺鍍預(yù)加熱的膜薄傳送也是無(wú)張力傳送,避免了導(dǎo)電薄膜在濺鍍預(yù)加熱過(guò)程被拉伸變形而影響導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型質(zhì)量;五是濺鍍室內(nèi)可以在每二個(gè)相鄰金屬靶材陰極之間設(shè)有隔板,可以有效提高濺鍍成型的均勻性。
[0018]以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0019]圖1是本實(shí)用新型一種實(shí)施例的示意圖。
[0020]圖2是本實(shí)用新型另一種實(shí)施例的示意圖。
[0021]圖中:1、真空封閉室;2、放卷室;3、濺鍍室;4、收卷室;5、膜薄傳送輥筒;6、金屬革巴材陰極;7、薄膜基材;8、放卷機(jī)構(gòu);9、導(dǎo)電薄膜;10、收卷機(jī)構(gòu);11、熱處理室;12、縫口 ;13、濺鍍室隔板;14、縫口 ;15、收卷室隔板;16和17、加熱器;18、傳送輥;19、傳送速度限定棍;20、懸垂限位棍;21、傳送速度限定棍;22、懸垂限位棍;23、懸垂底部;24和25、光電傳感器;26、電漿處理器;27、傳送速度光電檢測(cè)器;28、金屬靶材陰極;29、隔板;30、放卷室;31、濺鍍室;32、濺鍍預(yù)加熱室;33、縫口 ;34、放卷室隔板;35、縫口 ;36、濺鍍預(yù)加熱室隔板;37、薄膜基材;38和39、加熱器;40、傳送速度限定輥;41、懸垂限位輥;42、傳送速度限定棍;43、懸垂限位棍;44、懸垂底部;45和46、光電傳感器。
【具體實(shí)施方式】
[0022]參照?qǐng)D1,本導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,是一個(gè)真空封閉室1,其內(nèi)設(shè)置有放卷室
2、濺鍍室3和收卷室4,濺鍍室3內(nèi)設(shè)有膜薄傳送輥筒5,薄膜傳送輥筒5外側(cè)分布有若干個(gè)金屬靶材陰極6等,薄膜基材7從放卷室2的放卷機(jī)構(gòu)8輸出、進(jìn)入濺鍍室3繞薄膜傳送輥筒5傳送、由金屬靶材陰極6等釋放的粒子濺鍍?cè)诒∧せ纳隙蔀閷?dǎo)電薄膜9、然后進(jìn)入收卷室4為收卷機(jī)構(gòu)10所收卷,其特征是:所述濺鍍室3和收卷室4之間設(shè)有熱處理室11,熱處理室11與濺鍍室3之間由帶有縫口 12的濺鍍室隔板13隔開,熱處理室11與收卷室4之間由帶有縫口 14的收卷室隔板15隔開,導(dǎo)電薄膜9是先從濺鍍室隔板13的縫口 12進(jìn)入熱處理室11進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板15的縫口 14進(jìn)入收卷室4,導(dǎo)電薄膜9在熱處理室11內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,熱處理室11內(nèi)在導(dǎo)電薄膜9的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器16、17等。
[0023]另外,真空封閉室I內(nèi)由若干傳送輥18等與放卷機(jī)構(gòu)8、薄膜傳送輥筒5和收卷機(jī)構(gòu)10等配合構(gòu)成薄膜基材7及其導(dǎo)電薄膜9的傳送路徑;濺鍍室3內(nèi)在濺鍍室隔板13的縫口 12處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥19、熱處理室11內(nèi)在濺鍍室隔板13的縫口 12處設(shè)有懸垂限位輥20 ;收卷室4內(nèi)在收卷室隔板15的縫口 14處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥21、熱處理室11內(nèi)在收卷室隔板15的縫口 14處設(shè)有懸垂限位輥22,傳送速度限定輥19和21均是由一對(duì)有動(dòng)力驅(qū)動(dòng)的壓滾組成;熱處理室11內(nèi)在與導(dǎo)電薄膜9的懸垂底部23相對(duì)應(yīng)處設(shè)有測(cè)量懸垂底部23位置的光電傳感器24、25等;濺鍍室3內(nèi)在薄膜傳送輥筒5上的薄膜基材7切入處還設(shè)有電漿處理器26 ;收卷室4內(nèi)在導(dǎo)電薄膜9的傳送路徑上設(shè)有傳送速度光電檢測(cè)器27 ;灘鍍室3內(nèi)在每二個(gè)相鄰金屬靶材陰極6、28等之間均設(shè)有隔板29等。
[0024]使用上,薄膜基材7從放卷室2的放卷機(jī)構(gòu)8輸出、進(jìn)入濺鍍室3繞薄膜傳送輥筒5傳送、由金屬靶材陰極6等釋放的粒子濺鍍?cè)诒∧せ?上而成為導(dǎo)電薄膜9,然后由傳送速度限定輥19進(jìn)行限速傳送,經(jīng)濺鍍室隔板13的縫口 12進(jìn)入熱處理室11、并分別掛在懸垂限位輥20和22上作向下自然懸垂傳送,自然懸垂傳送過(guò)程由上下兩側(cè)的加熱器16、17等進(jìn)行熱處理,然后經(jīng)收卷室隔板15的縫口 14進(jìn)入收卷室4、為收卷機(jī)構(gòu)10所收卷,光電傳感器24、25等將導(dǎo)電薄膜9的懸垂底部23位置隨時(shí)反饋給控制電路、傳送速度光電檢測(cè)器27將導(dǎo)電薄膜9的傳送線速度隨時(shí)反饋給控制電路,作為整機(jī)運(yùn)行控制依據(jù)。
[0025]參照?qǐng)D2,本導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,與圖1的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置比較,其不同點(diǎn)在于:放卷室30和濺鍍室31之間設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室32,濺鍍預(yù)加熱室32與放卷室30之間由帶有縫口 33的放卷室隔板34隔開,濺鍍預(yù)加熱室32與濺鍍室31之間由帶有縫口 35的濺鍍預(yù)加熱室隔板36隔開,薄膜基材37是先從放卷室隔板34的縫口 33進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室32進(jìn)行預(yù)加熱后才從濺鍍預(yù)加熱室隔板36的縫口 35進(jìn)入濺鍍室31,薄膜基材36在濺鍍預(yù)加熱室32內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,濺鍍預(yù)加熱室32內(nèi)在薄膜基材36的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器38、39等。
[0026]另外,放卷室30內(nèi)在放卷室隔板34的縫口 33處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥40、濺鍍預(yù)加熱室32內(nèi)在放卷室隔板34的縫口 33處設(shè)有懸垂限位輥41 ;濺鍍室31內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板36的縫口 35處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥42、濺鍍預(yù)加熱室32內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板36的縫口 35處設(shè)有懸垂限位輥43 ;傳送速度限定輥40和42均是由一對(duì)有動(dòng)力驅(qū)動(dòng)的壓滾組成;濺鍍預(yù)加熱室32內(nèi)在與薄膜基材37的懸垂底部44相對(duì)應(yīng)處設(shè)有測(cè)量懸垂底部44位置的光電傳感器45、46等。
[0027]其他結(jié)構(gòu)與圖1所示的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置相同。
[0028]使用上,薄膜基材37從放卷室30的放卷機(jī)構(gòu)輸出、由傳送速度限定輥40作限速傳送,經(jīng)放卷室隔板34的縫口 33進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室32、并分別掛在懸垂限位輥41和43上作向下自然懸垂傳送,自然懸垂傳送過(guò)程由上下兩側(cè)的加熱器38、39等進(jìn)行濺鍍前的預(yù)加熱,然后濺鍍經(jīng)預(yù)加熱室隔板36的縫口 35進(jìn)入濺鍍室31、并由傳送速度限定輥42作限速傳送后、繞在薄膜傳送輥筒上傳送、進(jìn)行濺鍍成型,光電傳感器45、46等將薄膜基材37的懸垂底部44位置隨時(shí)反饋給控制電路,作為整機(jī)運(yùn)行控制依據(jù)。其他使用方法與圖1所示的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置相同。
【權(quán)利要求】
1.一種導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,是一個(gè)真空封閉室,其內(nèi)設(shè)置有放卷室、濺鍍室和收卷室,濺鍍室內(nèi)設(shè)有膜薄傳送輥筒,薄膜傳送輥筒外側(cè)分布有若干個(gè)金屬靶材陰極,薄膜基材從放卷室的放卷機(jī)構(gòu)輸出、進(jìn)入濺鍍室繞薄膜傳送輥筒傳送、由金屬靶材陰極釋放的粒子濺鍍?cè)诒∧せ纳隙蔀閷?dǎo)電薄膜、然后進(jìn)入收卷室為收卷機(jī)構(gòu)所收卷,其特征是:所述濺鍍室和收卷室之間設(shè)有熱處理室,熱處理室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍室隔板隔開,熱處理室與收卷室之間由帶有縫口的收卷室隔板隔開,導(dǎo)電薄膜是先從濺鍍室隔板的縫口進(jìn)入熱處理室進(jìn)行熱處理后才從收卷室隔板的縫口進(jìn)入收卷室,導(dǎo)電薄膜在熱處理室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,熱處理室內(nèi)在導(dǎo)電薄膜的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
2.按權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,其特征是所述濺鍍室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、熱處理室內(nèi)在濺鍍室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥,所述收卷室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、加熱室內(nèi)在收卷室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥。
3.按權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,其特征是所述濺鍍室內(nèi)可以在薄膜傳送棍筒上的薄膜基材切入處的待派鍍表面一側(cè)設(shè)有電衆(zhòng)處理器。
4.按權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,其特征是所述濺鍍室內(nèi)在每二個(gè)相鄰金屬靶材陰極之間設(shè)有隔板。
5.按權(quán)利要求1、2、3或4所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,其特征是所述熱處理室內(nèi)在與導(dǎo)電薄膜的懸垂底部相對(duì)應(yīng)處設(shè)有測(cè)量懸垂底部位置的光電傳感器。
6.按權(quán)利要求1、2、3或4所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,其特征是所述放卷室和濺鍍室之間設(shè)有濺鍍預(yù)加熱室,濺鍍預(yù)加熱室與放卷室之間由帶有縫口的放卷室隔板隔開,濺鍍預(yù)加熱室與濺鍍室之間由帶有縫口的濺鍍預(yù)加熱室隔板隔開,薄膜基材是先從放卷室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍預(yù)加熱室進(jìn)行預(yù)加熱后才從濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口進(jìn)入濺鍍室,薄膜基材在濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)是以自然懸垂?fàn)顟B(tài)進(jìn)行傳送,濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在薄膜基材的自然懸垂傳送路徑的上下兩側(cè)處設(shè)有加熱器。
7.按權(quán)利要求6所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,其特征是所述放卷室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在放卷室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥,所述濺鍍室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處設(shè)有一對(duì)傳送速度限定輥、濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在濺鍍預(yù)加熱室隔板的縫口處設(shè)有懸垂限位輥。
8.按權(quán)利要求6所述的導(dǎo)電薄膜的濺鍍成型裝置,其特征是所述濺鍍預(yù)加熱室內(nèi)在與薄膜基材的懸垂底部相對(duì)應(yīng)處設(shè)有測(cè)量懸垂底部位置的光電傳感器。
【文檔編號(hào)】C23C14/34GK203513789SQ201320634750
【公開日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月15日
【發(fā)明者】杜成城, 劉比爾 申請(qǐng)人:汕頭萬(wàn)順包裝材料股份有限公司光電薄膜分公司