生物搪瓷輻射板及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種生物搪瓷輻射板，包括基材、第一靶材、第二靶材和金屬鈦，第一靶材包括：鐵Fe、鉻Cr、鋯Zr、銅Cu、鎳Ni、鋁Al、鉍Bi和鈦Ti；第二靶材包括：鎂Mg、硒Se、鋇Ba、鎘Cd、錫Sn、錳Mn、鎢W、鈷Co、鉬Mo、鋅Zn和Yi。本發(fā)明克服了現(xiàn)有的生物搪瓷輻射板及其制備方法無法控制輻射板的成分，雜質較多，重復性差，質量穩(wěn)定性差，可操作性差的缺點，提供一種可控制輻射板的成分，避免產(chǎn)生雜質，重復性好，質量穩(wěn)定性高，可操作性好的生物搪瓷輻射板。
【專利說明】生物搪瓷輻射板及其制備方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于磁療裝置領域，具體涉及一種生物搪瓷輻射板及其制備方法。
【背景技術】
[0002]生物搪瓷輻射板是在搪瓷板中加入與生物相關的多種元素，并且使輻射板的表面呈粗糙的顆粒狀，在加熱狀態(tài)下能產(chǎn)生適量的有益于人體及生物的輻射線，引起或促進生物效應。
[0003]生物搪瓷輻射板至1985年的發(fā)明專利以來，均是直接采用礦物質氧化制備，而礦物質的雜質較多且不穩(wěn)定，因此，導致輻射板的雜質也較多；另外，現(xiàn)有輻射板的制作過程均采用傳統(tǒng)的搪瓷釉料生產(chǎn)方法，即在基材表面涂搪制成底釉，在制品為100-600°C時噴面釉，并在高溫800-900°C燒面釉制成，而高溫燒制釉料的方法制備的生物搪瓷輻射板在成分上具有很大的波動，由于高溫致使礦物質內的其他雜質氧化，因此使得輻射板的成分有所變化，致使輻射板中含有雜質，輻射線中含有雜線，加上礦物質中的成分穩(wěn)定性差，從而使得制得的輻射板重復性差，質量穩(wěn)定性差，可操作性差的缺點。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明要解決的技術問題是針對現(xiàn)有的生物搪瓷輻射板及其制備方法無法控制輻射板的成分，雜質較多，提供一種可控制輻射板的成分，避免產(chǎn)生雜質的生物搪瓷輻射板。
[0005]為了解決上述技術問題，本發(fā)明提供如下技術方案:生物搪瓷輻射板，包括基材、第一靶材、第二靶材和金屬鈦，第一靶材包括:鐵Fe、鉻Cr、鋯Zr、銅Cu、鎳N1、鋁Al、鉍Bi和鈦Ti ;第二靶材包括:鎂Mg、 硒Se、鋇Ba、鎘Cd、錫Sn、錳Mn、鎢W、鈷Co、鑰Mo、鋅Zn和銥Ir。
[0006]采用本發(fā)明技術方案的生物搪瓷輻射板，在基材上利用第一靶材和第二靶材氧化制成，由于第一靶材和第二靶材均采用純金屬材料，因此制成的搪瓷輻射板無雜質產(chǎn)生，確保輻射板中的成分及各成分的輻射線，與現(xiàn)有的礦物質制作的輻射板相比，重復性好、質量穩(wěn)定性高，可操作性好。
[0007]進一步，所述的第一靶材和第二靶材的材料含量為:第一靶材，F(xiàn)e:3-10份、Cr:5-15 份、Zr:3-7 份、Cu:2_6 份、N1:2_5 份、Al:9_15 份、B1:6_8 份、T1:15-18 份；第二靶材，Mg:1-2 份、Se:2 份、Ba:1_4 份、Cd:2_3 份、Sn:2_3 份、Mn:4_5 份、W:2~4 份、Co:4_8份、Mo:3-5份、Zn:5-8份Ir:5~7份。保證輻射板中的各成分的含量和輻射線的強度。
[0008]進一步，制備方法步驟包括:一、用真空濺射的方法在基材上濺射Ti靶，制備生物搪瓷氧化膜；二、通入氧氣，濺射第一靶材，在基體上形成第一靶材氧化物復合層；三、關閉第一靶材濺射，開啟第二靶材濺射，在第一靶材氧化物復合層上濺射第二靶材氧化物復合層。濺射是用帶電粒子轟擊靶材，加速的離子轟擊固體表面時，發(fā)生表面原子碰撞并發(fā)生能量和動量的轉移，使靶材原子從表面逸出并淀積在基材上的過程，可使基材表面獲得金屬、合金或電介質薄膜。避免高溫燒制，從而避免雜質氧化物生成，使輻射板中產(chǎn)生干擾輻射線。
[0009]進一步，所述的步驟一中的制備工藝參數(shù)如下:工作壓力0.1-0.05Pa ;濺射氣體:.99.99氬氣；濺射的工作電流:5-10A ;濺射厚度:5Mm。
[0010]進一步，所述的步驟二中形成的第一靶材氧化物復合層的厚度為:20-25Mm。
[0011]進一步，所述的第一祀材氧化物復合層包括:Fe0、Cr0、Zr02、Cu0、Ni0、Al203、Bi203和 TiO2。
[0012]再進一步,所述的第二祀材氧化物復合層包括:MgO、SeO、BaO、CdO、SnO、Mn203、W2O3、CoO2、MoO2、ZnO 和 IrO2。
[0013]【具體實施方式】
本發(fā)明生物搪瓷輻射板，包括基材、第一靶材、第二靶材和金屬鈦，第一靶材包括:Fe、Cr、Zr、Cu、N1、Al、Bi 和 Ti ;第二靶材包括:Mg、Se、Ba、Cd、Sn、Mn、W、Co、Mo、Zn 和 Ir。
[0014]表1為本發(fā)明 的各實施例中第一靶材和第二靶材的含量，單位為:份 表1
【權利要求】
1.生物搪瓷輻射板，其特征在于:包括基材、第一靶材、第二靶材和金屬鈦，第一靶材包括:Fe、Cr、Zr、Cu、N1、Al、Bi 和 Ti ;第二靶材包括:Mg、Se、Ba、Cd、Sn、Mn、W、Co、Mo、Zn和Ir。
2.如權利要求1所述生物搪瓷輻射板，其特征在于:所述的第一靶材和第二靶材的材料含量為: 第一靶材，F(xiàn)e:3-10 份、Cr:5_15 份、Zr:3_7 份、Cu:2_6 份、N1:2_5 份、Al:9_15 份、B1:6-8 份、Ti:15-18 份； 第二靶材，Mg:1-2 份、Se:2 份、Ba:1_4 份、Cd:2_3 份、Sn:2_3 份、Mn:4_5 份、W:2~4份、Co:4-8 份、Mo:3-5 份、Zn:5_8 份 Ir:5~7 份。
3.如權利要求1或2所述生物搪瓷輻射板的制備方法，其特征在于，制備方法步驟包括: 一、用真空濺射的方法在基材上濺射Ti靶，制備生物搪瓷氧化膜； 二、通入氧氣，濺射第一靶材，在基體上形成第一靶材氧化物復合層； 三、關閉第一靶材濺射，開啟第二靶材濺射，在第一靶材氧化物復合層上濺射第二靶材氧化物復合層。
4.如權利要求3所述生物搪瓷輻射板的制備方法，其特征在于，所述的步驟一中的制備工藝參數(shù)如下: 工作壓力0.1-0.05Pa ； 濺射氣體=99.99氬氣； 濺射的工作電流:5-10A ； 濺射厚度
5.如權利要求3所述生物搪瓷輻射板的制備方法，其特征在于，所述的步驟二中形成的第一靶材氧化物復合層的厚度為:20-25Mm。
6.如權利要求4或5所述生物搪瓷輻射板的制備方法，其特征在于，所述的第一靶材氧化物復合層包括:Fe0、Cr0、Zr02、CuO、NiO、A1203、Bi2O3 和 TiO2。
7.如權利要求4或5所述生物搪瓷輻射板的制備方法，其特征在于，所述的第二靶材氧化物復合層包括:MgO、SeO、BaO, CdO, SnO, Mn2O3> W203、Co02、Mo02、ZnO 和 IrO20
【文檔編號】C23C14/08GK103695844SQ201310702993
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2013年12月19日 優(yōu)先權日:2013年12月19日
【發(fā)明者】袁先洪, 鐘江泉, 向小陽, 王聯(lián), 衛(wèi)東, 周天勇 申請人:重慶市硅酸鹽研究所