專利名稱:顯示面板的玻璃基板磨邊方法
技術領域:
本發(fā)明涉及精加工領域,尤其涉及一種顯示面板的玻璃基板磨邊方法。
背景技術:
平面顯示裝置具有機身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點,得到了廣泛的應用?,F(xiàn)有的平面顯示裝置組要包括液晶顯示裝置(IXD, Liquid Crystal Display)及有機發(fā)光顯示裝置(OLED, Organic Light Emitting Display)。請參閱圖1,現(xiàn)有的液晶顯示裝置一般包括:背光模組100、設于背光模組100上的膠框300、設于膠框300上的液晶顯示面板500及設于液晶顯示面板500上的前框(Bezel)700,所述背光模組100包括:背板110、設于背板110內(nèi)的背光源130、設于背板110內(nèi)的反射片150設于反射片150上的導光板170及設于導光板170上的光學膜片組190,所述膠框300用于承載液晶顯示面板500,所述前框700與背光模組100的背板110鎖合,進而組裝成一液晶顯示裝置。液晶顯示面板500 (如圖2所示)包括,薄膜晶體管(TFT)基板502、與TFT基板502相對貼合設置的彩膜(CF)基板504及設于TFT基板502與CF基板504之間的液晶分子506,薄膜晶體管基板502包括第一玻璃基板522及形成于第一玻璃基板522上的薄膜晶體管524,彩膜基板504包括第二玻璃基板542及形成于第二玻璃基板542上的彩色薄膜544。請參閱圖3,現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示面板一般包括:玻璃基板900、形成于玻璃基板900上的透明導電層902、形成于透明導電層902上空穴傳輸層(HTL,Hole TransportLayer)904、形成于空穴傳輸層904上的有機發(fā)光層(EML, Emitting Material Layer)906、形成于有機發(fā)光層906上的電子傳輸層(ETL, Electron Transport Layer) 908及形成于電子傳輸層908上的陰極(Cathode ) 909,其中,所述透明導電層902為有機發(fā)光顯示面板的陽極(Anode),其一般由銦錫氧化物(ΙΤ0, Indium Tin Oxide)形成,當該有機發(fā)光顯示面板受到直流電(DC,Direct Current)所衍生的順向偏壓時,外加之電壓能量將驅(qū)動電子(Electron)與空穴(Hole)分別由陰極909與陽極902注入有機發(fā)光顯示面板,當電子與空穴兩者在傳導中相遇、結(jié)合,即形成所謂的電子-空穴復合(Electron-Hole Capture)。而當有機發(fā)光層906的化學分子受到外來能量激發(fā)后,如果電子自旋(Electron Spin)和基態(tài)電子成對,則為單重態(tài)(Singlet),其所釋放的光為突光(Fluorescence);反之若激發(fā)態(tài)電子和基態(tài)電子自旋不成對且平行,則稱為三重態(tài)(Triplet),其所釋放的光為磷光(Phosphorescence)。當電子的狀態(tài)位置由激發(fā)態(tài)高能階回到穩(wěn)態(tài)低能階時,其能量將分別以光子(Light Emission)或熱能(Heat Dissipation)的方式放出,其中光子的部分被用于顯示功能。上述兩種平面顯示面板,均包括玻璃基板,而玻璃基板一般通過大玻璃切割而成,并經(jīng)過磨邊等制程制得,現(xiàn)有的玻璃基板磨邊機在對玻璃基板進行磨邊時,玻璃碎屑會飛濺到非研磨區(qū)域,為保證玻璃基板非研磨區(qū)域表面潔凈度,避免對后續(xù)制程產(chǎn)生影響,目前做法是在磨邊過程中,直接用水汽沖洗,然而,該種做法只能將玻璃基板清洗干凈,并不能 防止玻璃碎屑對顯示面板的玻璃基板非研磨區(qū)域表面劃傷等損壞。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,提供一種顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其操作簡單,能有效避免玻璃屑對非研磨區(qū)域表面的污染和損傷,有效提高工作效率。為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種顯示面板的玻璃基板磨邊方法,包括以下步驟:步驟1、傳送待研磨的顯示面板的玻璃基板至研磨裝置,定位該玻璃基板以等待研磨裝置的研磨砥石進行磨邊;步驟2、提供第一與第二檔板;步驟3、移動第一檔板至接觸玻璃基板的上表面,移動第二檔板至接觸玻璃基板的下表面;步驟4、進行磨邊操作。步驟2中,所述第一與第二檔板呈平板狀,其寬度大于玻璃基板的寬度。步驟3中移動后的第一與第二檔板分別與玻璃基板垂直。步驟2中,所述第一與第二擋板朝向玻璃基板的一側(cè)分別設有第一與第二緩沖體以與玻璃基板接觸。所述第一與第二緩沖體的橫截面呈楔形,其由彈性材料制成。所述第一與第二緩沖體由橡膠材料制成。步驟3中,移動后的第一與第二檔板鄰近研磨砥石。所述步驟4包括:噴水汽,然后轉(zhuǎn)動研磨砥石研磨玻璃基板,同時排出水汽與研磨時產(chǎn)生的碎屑。所述顯示面板為OLED顯示面板。所述顯示面板為液晶顯示面板。本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,通過在玻璃基板研磨區(qū)域與非研磨區(qū)域之間設置擋板,研磨過程中擋板對玻璃基板進行防塵,有效避免研磨裝置在對玻璃基板的研磨區(qū)域進行研磨時所產(chǎn)生的玻璃屑飛濺到玻璃基板的非研磨區(qū)域,進而有效保護非研磨區(qū)域表面,避免了由于玻璃基板非研磨區(qū)域表面損傷對后續(xù)制程產(chǎn)生的影響,大幅度降低了成本,同時,由于在擋板朝向玻璃基板的端面設置緩沖體,有效緩沖玻璃基板與研磨裝置之間摩擦所產(chǎn)生的震動,大幅度降低該震動對玻璃基板所造成的損壞。為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術內(nèi)容,請參閱以下有關本發(fā)明的詳細說明與附圖,然而附圖僅提供參考與說明用,并非用來對本發(fā)明加以限制。
下面結(jié)合附圖,通過對本發(fā)明的具體實施方式
詳細描述,將使本發(fā)明的技術方案及其它有益效果顯而易見。附圖中,圖1為現(xiàn)有的液晶顯示裝置的立體分解示意圖2為現(xiàn)有的液晶顯不面板的結(jié)構(gòu)不意圖;圖3為現(xiàn)有的有機發(fā)光顯示面板的立體結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為本發(fā)明顯示面板的玻璃基板磨邊方法的流程圖;圖5為本發(fā)明顯示面板的玻璃基板磨邊方法中擋板、研磨裝置及玻璃基板相對移動關系不意圖;圖6為用本發(fā)明顯示面板的玻璃基板磨邊方法進行磨邊時,擋板、玻璃基板及研磨裝置的相對位置關系示意圖;圖7為可實現(xiàn)本發(fā)明顯示面板的玻璃基板磨邊方法的研磨裝置中主要部件的位置關系不意圖。
具體實施例方式為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術手段及其效果,以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。請參閱圖4到圖6,本發(fā)明提供一種顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其包括以下步驟:步驟1、傳送待研磨的顯示面板的玻璃基板40至研磨裝置,定位該玻璃基板40以等待研磨裝置的研磨砥石24進行磨邊。所述玻璃基板40包括一研磨區(qū)域402及位于研磨區(qū)域402 —側(cè)的非研磨區(qū)域404。研磨裝置的研磨砥石24與研磨區(qū)域402接觸。步驟I可采用現(xiàn)有技術實現(xiàn),該研磨裝置是現(xiàn)有的設備,該定位操作包括固定該玻璃基板40在研磨裝置的研磨工位上。步驟2、提供第一與第二檔板26、28。所述第一與第二檔板26、28呈平板狀,其寬度大于玻璃基板40的寬度。所述第一與第二擋板26、28朝向玻璃基板40的一側(cè)分別設有第一與第二緩沖體262,282,該第一與第二緩沖體262、282可由彈性材料制成,優(yōu)選橡膠材料,具有一定的彈性,所述第一與第二緩沖體262、282的橫截面可設置為楔形,其寬度由第一與第二擋板26、28朝向玻璃基板40逐漸縮小,所述第一與第二擋板26、28分別通過該第一與第二緩沖體262、282接觸玻璃基板40,由于該第一與第二緩沖體262、282具有一定的彈性,不會對玻璃基板40造成損傷,同時該第一與第二緩沖體262、282還能對研磨裝置的研磨砥石24在對玻璃基板40的研磨區(qū)域402進行研磨時所產(chǎn)生的震動予以緩沖,避免研磨裝置的研磨砥石24在對玻璃基板40的研磨區(qū)域402進行研磨時所產(chǎn)生的震動對玻璃基板40造成損壞。步驟3、移動第一檔板26至接觸玻璃基板40的上表面,移動第二檔板28至接觸玻璃基板40的下表面;移動后的第一與第二檔板26、28分別與玻璃基板40垂直。優(yōu)選地,該第一與第二擋板26、28可在垂直于玻璃基板40方向上移動。移動后的第一與第二檔板26、28鄰近研磨砥石24。優(yōu)選的,所述第一與第二擋板26、28于所述研磨區(qū)域402與非研磨區(qū)域404之間接觸玻璃基板40,進而將非研磨區(qū)域404阻擋于研磨區(qū)域402與研磨裝置的研磨砥石24外,以有效阻擋研磨裝置的研磨砥石24對研磨區(qū)域402進行研磨時所產(chǎn)生的玻璃屑飛濺到非研磨區(qū)域404。請參閱圖5 (圖中箭頭方向表示各部件的移動方向)和圖6,在本實施例中,玻璃基板40朝向研磨裝置的研磨砥石24進行運輸,玻璃基板40的研磨區(qū)域402與研磨裝置的研磨砥石24相接觸后,第一與第二擋板26、28分別朝向玻璃基板40移動,至圖6所示位置,第一與第二擋板26、28的第一與第二緩沖體262、282分別抵靠于玻璃基板40的上表面及下表面。在本實施例中,所述第一與第二擋板26、28的移動相對獨立,優(yōu)選的,所述第二擋板28的移動上限為與玻璃基板40的下表面相平齊,而通過第一擋板26的移動來適用不同厚度的玻璃基板40。步驟4、進行磨邊操作。所述步驟4包括:噴水汽,然后轉(zhuǎn)動研磨砥石24研磨玻璃基板40,同時排出水汽與研磨時產(chǎn)生的碎屑。請參閱圖7,步驟4中研磨裝置的研磨砥石24對玻璃基板40的研磨區(qū)域402進行研磨時,可使用噴汽裝置27向玻璃基板40研磨區(qū)域402上下表面噴灑水汽,該水汽沖洗玻璃基板40的同時還起到冷卻作用,以避免研磨裝置的研磨砥石24與玻璃基板40之間的摩擦產(chǎn)生的熱量導致玻璃基板40的變形,同時使用排汽裝置29,用于將噴汽裝置27噴灑的水汽及研磨裝置的研磨砥石24研磨產(chǎn)生的玻璃碎屑排出,進而對玻璃基板40的研磨區(qū)域402進行清理。該噴汽裝置27可設于第一、第二擋板26、28與研磨裝置的研磨砥石24之間,而排汽裝置29可設于研磨裝置的研磨砥石24的后方。研磨時,噴汽裝置27及排汽裝置29可配合第一與第二擋板26、28使用進一步清理剝離碎屑。當然,步驟4完成之后,移動第一與第二檔板26、28離開玻璃基板40,然后搬運玻璃基板40離開該研磨工位。綜上所述,本發(fā)明的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,通過在玻璃基板研磨區(qū)域與非研磨區(qū)域之間設置擋板,研磨過程中擋板對玻璃基板進行防塵,有效避免研磨裝置在對玻璃基板的研磨區(qū)域進行研磨時所產(chǎn)生的玻璃屑飛濺到玻璃基板的非研磨區(qū)域,進而有效保護非研磨區(qū)域表面,避免了由于玻璃基板非研磨區(qū)域表面損傷對后續(xù)制程產(chǎn)生的影響,大幅度降低了成本,同時,由于在擋板朝向玻璃基板的端面設置緩沖體,有效緩沖玻璃基板與研磨裝置之間摩擦所產(chǎn)生的震動,大幅度降低該震動對玻璃基板所造成的損壞。以上所述,對于本領域的普通技術人員來說,可以根據(jù)本發(fā)明的技術方案和技術構(gòu)思作出其他各種相應的改變和變形,而所有這些改變和變形都應屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。
權(quán)利要求
1.一種顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,包括以下步驟: 步驟1、傳送待研磨的顯示面板的玻璃基板至研磨裝置,定位該玻璃基板以等待研磨裝置的研磨砥石進行磨邊; 步驟2、提供第一與第二檔板; 步驟3、移動第一檔板至接觸玻璃基板的上表面,移動第二檔板至接觸玻璃基板的下表面; 步驟4、進行磨邊操作。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,步驟2中,所述第一與第二檔板呈平板狀,其寬度大于玻璃基板的寬度。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,步驟3中移動后的第一與第二檔板分別與玻璃基板垂直。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,步驟2中,所述第一與第二擋板朝向玻璃基板的一側(cè)分別設有第一與第二緩沖體以與玻璃基板接觸。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,所述第一與第二緩沖體的橫截面呈楔形,其由彈性材料制成。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,所述第一與第二緩沖體由橡膠材料制成。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,步驟3中,移動后的第一與第二檔板鄰近研磨砥石。
8.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,所述步驟4包括:噴水汽,然后轉(zhuǎn)動研磨砥石研磨玻璃基板,同時排出水汽與研磨時產(chǎn)生的碎屑。
9.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,所述顯示面板為OLED顯示面板。
10.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的玻璃基板磨邊方法,其特征在于,所述顯示面板為液晶顯示面板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯示面板的玻璃基板磨邊方法,步驟1、傳送待研磨的顯示面板的玻璃基板至研磨裝置,定位該玻璃基板以等待研磨裝置的研磨砥石進行磨邊;步驟2、提供第一與第二檔板;步驟3、移動第一檔板至接觸玻璃基板的上表面,移動第二檔板至接觸玻璃基板的下表面;步驟4、進行磨邊操作。通過在玻璃基板研磨區(qū)域與非研磨區(qū)域之間設置擋板,研磨過程中擋板對玻璃基板進行防塵,有效避免研磨裝置在對玻璃基板的研磨區(qū)域進行研磨時所產(chǎn)生的玻璃屑飛濺到玻璃基板的非研磨區(qū)域,進而有效保護非研磨區(qū)域表面,避免了由于玻璃基板非研磨區(qū)域表面損傷對后續(xù)制程產(chǎn)生的影響,大幅度降低了成本。
文檔編號B24B55/02GK103170884SQ20131011300
公開日2013年6月26日 申請日期2013年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月2日
發(fā)明者陳杰, 李春良, 羅長誠 申請人:深圳市華星光電技術有限公司