專利名稱：一種掩模板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及OLED顯示及照明技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種掩模板。
背景技術(shù)：
有機(jī)電致發(fā)光器件，具有自發(fā)光、反應(yīng)時(shí)間快、視角廣、成本低、制造工藝簡(jiǎn)單、分辨率佳及高亮度等多項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)，被認(rèn)為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)電致發(fā)光二極管)技術(shù)中，真空蒸鍍中的掩模板技術(shù)是一項(xiàng)非常重要和關(guān)鍵的技術(shù)，該技術(shù)的等級(jí)直接影響OLED產(chǎn)品的質(zhì)量和制造成本。在應(yīng)用于蒸鍍時(shí)，傳統(tǒng)工藝的蒸鍍用掩模板一般采用正反同時(shí)蝕刻工藝，雖然可以制作出帶有一定錐度的開口，但由于側(cè)蝕的原因，使得掩模板貼緊蒸鍍ITO玻璃基板的銦錫氧化物接觸面的銦錫氧化物接觸面開口存在倒錐度，該種倒錐角的存在，產(chǎn)生死角區(qū)域，由于該死角區(qū)域的存在，無(wú)法達(dá)到蒸鍍厚度要求，導(dǎo)致蒸鍍材料的成膜均勻性降低，影響蒸鍍質(zhì)量， 延長(zhǎng)了蒸鍍時(shí)間，增加制造成本。一般蒸鍍用蔭罩(即掩模板)的厚度在100 μ m左右，而需蒸鍍的有機(jī)材料膜的厚度在IOOnm左右，蔭罩上的開口尺寸最小可以是10 μ m,所以無(wú)錐度開口的側(cè)壁勢(shì)必會(huì)在蒸鍍過(guò)程中產(chǎn)生遮擋。另一方面，如果通過(guò)減薄蔭罩的厚度的方法來(lái)降低蔭罩的遮擋程度，又會(huì)影響蔭罩的使用壽命，因?yàn)槭a罩過(guò)薄，易變形，影響的蔭罩的使用，降低蒸鍍質(zhì)量。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于，針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種掩模板，既能提高有機(jī)發(fā)光材料的使用率和成膜率，又能提高掩模板的加工效率，具有工藝簡(jiǎn)單、良品率高、加工效率高、制造成本低和實(shí)用性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型提供一種掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有多個(gè)蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈階梯狀，所述蒸鍍孔包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，所述蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。優(yōu)選地，所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。優(yōu)選地，所述第二段呈錐形，所述錐形的錐角為Γ10度。優(yōu)選地，所述掩模板的厚度為18 190 μ m。優(yōu)選地，所述第二段的垂直深度為10 50 μ m。優(yōu)選地，所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為 18 45 μ m。本實(shí)用新型先采用激光工藝在蒸鍍面上加工出蒸鍍孔的第一段，再調(diào)整激光位置，繼續(xù)沿著第一段的末端向ITO接觸面繼續(xù)加工出第二段蒸鍍孔，由于激光加工出的蒸鍍孔的孔壁呈錐形，使蒸鍍孔在掩模板上呈現(xiàn)出逐漸收縮的態(tài)勢(shì)，克服了傳統(tǒng)工藝中出現(xiàn)的死角區(qū)域，使得在應(yīng)用于蒸鍍時(shí)，有機(jī)發(fā)光顆?？梢暂^大限度地到達(dá)玻璃基板上的預(yù)定位置，從而提高了 OLED顯示屏的質(zhì)量，提高了有機(jī)發(fā)光材料的使用率和成膜率。同時(shí)，本實(shí)用新型僅使用激光工藝來(lái)完成蒸鍍孔的加工，省去了使用多種工藝加工蒸鍍孔時(shí)需要的二次拆卸和裝夾工序，也避免了使用多種工藝加工蒸鍍孔所帶來(lái)的安裝誤差，從而可有效提高蒸鍍孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生產(chǎn)成本，從而降低了 OLED顯示屏的制造成本，具有廣闊的市場(chǎng)前景。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說(shuō)明。
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，以便更清楚、直觀地理解本實(shí)用新型的發(fā)明實(shí)質(zhì)。圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖。參照?qǐng)D1所示，本實(shí)施例提供一種掩模板1，包括ITO接觸面11和蒸鍍面12，在蒸鍍面12上設(shè)置有多個(gè)呈中心對(duì)稱狀的蒸鍍孔2，蒸鍍孔2自蒸鍍面12貫穿至ITO接觸面
11。蒸鍍孔2的截面呈階梯狀，包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，蒸鍍孔的尺寸自第一段向第二段呈逐漸收縮狀。在蒸鍍時(shí)，ITO接觸面11朝上，與需要蒸鍍有機(jī)發(fā)光材料的玻璃基板貼合，蒸鍍面12朝下，面對(duì)蒸發(fā)源。蒸發(fā)源內(nèi)的蒸汽狀有機(jī)發(fā)光材料顆粒從各種方向進(jìn)入蒸鍍孔2，并經(jīng)該蒸鍍孔2沾附于玻璃基板的ITO (氧化銦錫)層上，形成蒸鍍膜。蒸鍍膜的形狀和厚薄均勻度直接影響OLED顯示屏的輝度和分辨率，因此，對(duì)蒸鍍孔2的形狀和規(guī)格都有非常嚴(yán)格的要求。本實(shí)施例的蒸鍍孔2設(shè) 計(jì)為截面尺寸自蒸鍍面12向ITO接觸面11呈逐漸收縮狀，使蒸鍍孔2的整體形狀為上窄下寬的喇叭狀，有利于以更寬的角度接收有機(jī)發(fā)光材料顆粒，從而能使蒸鍍膜的厚薄均勻度和形狀都能滿足設(shè)計(jì)要求。此外，本實(shí)施例的掩模板I的厚度為18 190 μ m,既可保證掩模板I的強(qiáng)度，避免因過(guò)薄導(dǎo)致蒸鍍孔2變形而縮短掩模板I的使用壽命，又可避免因過(guò)厚影響蒸鍍膜的成膜率。若掩模板I采用鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種材料制成，其厚度可設(shè)置為18 45 μ m。為保證良品率、提高加工效率、降低加工成本，最好將第二段22的錐角設(shè)置為Γ10度，不能過(guò)小，也不宜過(guò)大，這樣，便可在滿足實(shí)際生產(chǎn)要求的同時(shí)，最大限度地降低生產(chǎn)成本。本實(shí)施例的第二段22的垂直深度為10 50 μ m，且第二段22的垂直深度應(yīng)不大于第一段21的垂直深度。由于第二段22呈錐形狀，而且，第二段22在ITO接觸面11上的尺寸精度要求非常高，因此，可以采用激光工藝加工第一段21，再利用激光工藝加工出第二段22。由于激光工藝的加工精度高，傾角較小，故第二段22的垂直深度不宜過(guò)大。考慮到掩模板I的精度和強(qiáng)度，第二段22的垂直深度又不宜過(guò)小，以免影響蒸鍍孔2在ITO接觸面11上的精度和穩(wěn)定性。本實(shí)用新型可以采用以下方法來(lái)加工上述掩模板，該方法包括以下步驟:[0023]1、采用激光工藝在蒸鍍面上沿垂直于ITO接觸面的方向加工出第一段，并控制加
工余量；2、調(diào)整激光位置，沿第一段的加工方向在加工余量上加工出第二段。上述步驟中，第一段加工完成后，加工余量控制在10-50 μ m，用于加工第二段，使第二段的垂直深度為10-50μπι。在加工第二段時(shí)，先將第一段加工出來(lái)，然后調(diào)整激光位置，沿第一段的加工方向繼續(xù)加工，并形成一個(gè)臺(tái)階?？紤]到掩模板的強(qiáng)度要求，第二段的垂直深度不宜過(guò)小，以免因第二段過(guò)薄導(dǎo)致在ITO接觸面上所加工出的蒸鍍孔發(fā)生變形，故第二段的垂直深度為10 50 μ m為佳。綜上所述，本實(shí)用新型先采用激光工藝在蒸鍍面上加工出蒸鍍孔的第一段，再調(diào)整激光位置，繼續(xù)沿著第一段的末端向ITO接觸面繼續(xù)加工出第二段蒸鍍孔，由于激光加工出的蒸鍍孔的孔壁呈錐形，使蒸鍍孔在掩模板上呈現(xiàn)出逐漸收縮的態(tài)勢(shì)，克服了傳統(tǒng)工藝中出現(xiàn)的死角區(qū)域，使得在應(yīng)用于蒸鍍時(shí)，有機(jī)發(fā)光顆?？梢暂^大限度地到達(dá)玻璃基板上的預(yù)定位置，從而提高了 OLED顯示屏的質(zhì)量，提高了有機(jī)發(fā)光材料的使用率和成膜率。同時(shí)，本實(shí)用新型僅使用激光工藝來(lái)完成蒸鍍孔的加工，省去了使用多種工藝加工蒸鍍孔時(shí)需要的二次拆卸和裝夾工序，也避免了使用多種工藝加工蒸鍍孔所帶來(lái)的安裝誤差，從而可有效提高蒸鍍孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生產(chǎn)成本，從而降低了 OLED顯示屏的制造成本，具有廣闊的市場(chǎng)前景。以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有多個(gè)蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，且截面呈階梯狀，其特征在于:所述蒸鍍孔包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，所述蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于:所述第一段和第二段均由激光切割而成，且切割方向相同。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模板，其特征在于:所述第二段呈錐形，所述錐形的錐角為4 10度。
4.如權(quán)利要求3所述的掩模板,其特征在于:所述掩模板的厚度為18 190μ m。
5.如權(quán)利要求4所述的掩模板，其特征在于:所述第二段的垂直深度為10 50μ m。
6.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于:所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為18 45 μ m。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種掩模板，所述掩模板包括ITO接觸面和蒸鍍面，在蒸鍍面上設(shè)置有多個(gè)蒸鍍孔，蒸鍍孔自蒸鍍面貫穿至ITO接觸面，且截面呈階梯狀，蒸鍍孔包括同軸設(shè)置的第一段和第二段，蒸鍍孔的尺寸自所述第一段向第二段呈逐漸收縮狀。本實(shí)用新型僅使用激光工藝來(lái)完成蒸鍍孔的加工，省去了使用多種工藝加工蒸鍍孔時(shí)需要的二次拆卸和裝夾工序，也避免了使用多種工藝加工蒸鍍孔所帶來(lái)的安裝誤差，從而可有效提高蒸鍍孔的加工精度和加工效率，降低掩模板的生產(chǎn)成本，從而降低了OLED顯示屏的制造成本，具有廣闊的市場(chǎng)前景。
文檔編號(hào)C23C14/04GK203021640SQ20122072727
公開日2013年6月26日 申請(qǐng)日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者唐軍 申請(qǐng)人:唐軍, 錢超