專利名稱：防刮傷的掩模板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及OLED顯示及照明技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種防刮傷的掩模板。
背景技術(shù)：
有機(jī)電致發(fā)光器件，具有自發(fā)光、反應(yīng)時(shí)間快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率佳及高亮度等多項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)，被認(rèn)為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)電致發(fā)光二極管)技術(shù)中，真空蒸鍍中的掩模板技術(shù)是一項(xiàng)非常重要和關(guān)鍵的技術(shù)，該技術(shù)的等級(jí)直接影響OLED產(chǎn)品的質(zhì)量和制造成本。傳統(tǒng)工藝的蒸鍍用掩模板一般采用電鑄、激光或蝕刻工藝在掩模板上加工蒸鍍孔，在蒸鍍時(shí)，有機(jī)發(fā)光材料被加熱成蒸汽，通過蒸鍍孔蒸鍍到顯示屏的玻璃基板上。由于玻璃基板的有ITO的一面直接與掩模板接觸，而且在蒸鍍時(shí)，通常需要用強(qiáng)力磁鐵將掩模板貼附在顯示屏的玻璃基板上，而加工出的蒸鍍孔的邊緣常常會(huì)有毛刺，非常容易刮傷玻璃基板上的ITO層，導(dǎo)致玻璃基板的損傷，這對(duì)于OLED顯示屏的加工是非常不利的。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于，針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種防刮傷的掩豐旲板，可以避免蒸鍛孔上的毛刺對(duì)玻璃基板造成損傷，從而提聞良品率。為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案。本實(shí)用新型提供一種防刮傷的掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，在所述ITO接觸面上靠近蒸鍍孔的邊緣設(shè)置有半刻槽，所述半刻槽與所述蒸鍍孔連通。優(yōu)選地，所述半刻槽的截面為矩形或錐形。優(yōu)選地，所述蒸鍍孔為一個(gè)或者多個(gè)方孔或圓孔。優(yōu)選地，所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為 18 45 μ m。本實(shí)用新型采用在ITO接觸面上靠近蒸鍍孔的邊緣設(shè)置半刻槽，可有效避免位于該邊緣處的玻璃基板被毛刺刮傷，從而可以提聞OLED顯不屏加工的良品率，減小材料損失,進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中防刮傷的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例中防刮傷的掩模板的使用狀態(tài)示意圖。本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，以便更清楚、直觀地理解本實(shí)用新型的發(fā)明實(shí)質(zhì)。圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例中防刮傷的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例中防刮傷的掩模板的使用狀態(tài)示意圖。參照圖1和圖2所示，本實(shí)用新型提供一種防刮傷的掩模板1，該掩模板I包括ITO接觸面11和蒸鍍面12，在蒸鍍時(shí)，ITO接觸面11與OLED顯示屏的玻璃基板3貼合，蒸鍍面12朝向蒸發(fā)源。在蒸鍍面12上設(shè)置有蒸鍍孔2，蒸鍍孔2自蒸鍍面12貫穿至ITO接觸面11，并且，在ITO接觸面11上靠近蒸鍍孔2的邊緣設(shè)置有半刻槽4，該半刻槽4與蒸鍍孔2連通，形成凹陷區(qū)。具體地，本實(shí)施例的半刻槽4的截面為矩形，從而上述凹陷區(qū)為一個(gè)方形或圓柱形的凹坑，或者，上述半刻槽4的截面為錐形，從而上述凹陷區(qū)為一個(gè)圓錐形或棱錐形。本實(shí)施例的掩模板I上的蒸鍍孔2可以是一個(gè)或多個(gè)，可以是方孔，也可以是圓孔，可以應(yīng)用于多種蒸鍍場合，適于生產(chǎn)多種形狀和大小的OLED顯示屏。同時(shí)，本實(shí)施例的掩模板I的材料可以是鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為18 45 μ m。由于在掩模板I上加工出蒸鍍孔2后，在ITO接觸面11上是往往會(huì)形成毛刺，在蒸鍍時(shí)，需要將掩模板I與玻璃基板3具有ITO層的一面緊密貼合在一起，由于毛刺的存在，極易對(duì)ITO層造成刮傷，從而損壞玻璃基板3，甚至使玻璃基板3報(bào)廢，造成良品率的下降，增加生產(chǎn)成本。而本實(shí)施例在ITO接觸面11上靠近蒸鍍孔2的邊緣設(shè)置有上述半刻槽4，可將蒸鍍孔2邊緣的毛刺去除，有效避免ITO層和玻璃基板3被毛刺刮傷，從而提聞顯不屏的良品率。綜上所述，本實(shí)用新型采用在ITO接觸面上靠近蒸鍍孔的邊緣設(shè)置半刻槽，可有效避免位于該邊緣處的玻璃基板被毛刺刮傷，從而可以提高OLED顯示屏加工的良品率，減小材料損失，進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種防刮傷的掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，其特征在于:在所述ITO接觸面上靠近蒸鍍孔的邊緣設(shè)置有半刻槽，所述半刻槽與所述蒸鍍孔連通。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于:所述半刻槽的截面為矩形或錐形。
3.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于:所述蒸鍍孔為一個(gè)或者多個(gè)方孔或圓孔。
4.如權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于:所述掩模板的材料為鎳鈷合金、鎳鐵合金、銦瓦合金中的任意一種，厚度為18 45 μ m。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種防刮傷的掩模板，包括ITO接觸面和蒸鍍面，在所述蒸鍍面上設(shè)置有蒸鍍孔，所述蒸鍍孔自所述蒸鍍面貫穿至所述ITO接觸面，在所述ITO接觸面上靠近蒸鍍孔的邊緣設(shè)置有半刻槽，所述半刻槽與所述蒸鍍孔連通。本實(shí)用新型可有效避免位于該邊緣處的玻璃基板被毛刺刮傷，從而可以提高OLED顯示屏加工的良品率，減小材料損失，進(jìn)而降低生產(chǎn)成本。
文檔編號(hào)C23C14/04GK203021639SQ201220727198
公開日2013年6月26日 申請日期2012年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月26日
發(fā)明者唐軍 申請人:唐軍, 錢超