專利名稱：研磨?；厥昭b置、研磨液的管理系統(tǒng)、玻璃基板的制造方法及研磨?；厥辗椒?br> 技術領域：
本發(fā)明涉及一種研磨?；厥昭b置、研磨液的管理系統(tǒng)、玻璃基板的制造方法及研磨?；厥辗椒?。
背景技術：
人們期望磁盤記錄裝置等中使用的玻璃基板、半導體晶片以及在它們之上形成的覆膜的表面是高度平坦的。通常，為了玻璃基板和半導體薄膜的平坦化，采用使用含有研磨粒的研磨液進行研磨(CMP等)的方法。此時，作為研磨粒，使用氧化鈰、氧化鋁、氧化硅(膠體氧化硅)等的磨粒。并且，在研磨液中，添加pH調(diào)整劑、表面活性劑以及其他的添加劑。在玻璃基板和半導體晶片等的研磨工序后被回收的排放水等含有研磨對象物、研磨墊、研磨粒等研磨屑。這些研磨屑由于會使研磨對象物表面產(chǎn)生傷痕，并且研磨速度會因研磨粒濃度的降低等而下降，所以在這些研磨工序后不能夠原封不動地再利用排放水等。因此，人們正在進行以下研究，即以研磨工序后的排放水等的再利用為目的，進行雜質(zhì)的除去、研磨粒的濃縮等的處理，回收研磨粒，并對含有規(guī)定的組成的研磨粒的研磨液進行再調(diào)難
iF. O具體來說，在專利文獻I中公開有以下技術，即檢測向研磨?；厥昭b置投入前后的料漿的比重及流量，并根據(jù)檢測結(jié)果來計算研磨粒回收裝置的研磨?；厥章?，并控制研磨?；厥昭b置的回轉(zhuǎn)速度以使計算結(jié)果變?yōu)橐?guī)定的值。現(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本國專利第3408979號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題然而，在專利文獻I的方法中，根據(jù)投入的料漿的條件，對研磨?；厥昭b置的螺桿和轉(zhuǎn)筒的負荷變高，這是早期故障的一個原因。并且，具有對料漿的投入條件(例如料漿的比重等)的控制精度變低等問題點。因此，本發(fā)明的目的在于提供一種對研磨?；厥昭b置的螺桿和轉(zhuǎn)筒的負荷低，且控制精度高，研磨粒的回收率高的研磨?；厥昭b置。用于解決問題的手段根據(jù)本發(fā)明，提供一種研磨?；厥昭b置，從含有研磨粒的料漿中分離含有所述研磨粒的濃縮液，該研磨粒回收裝置具有保持所述料漿的轉(zhuǎn)筒；用于將所述濃縮液從轉(zhuǎn)筒中刮出的螺旋輸送機；
用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒及所述螺旋輸送機的驅(qū)動單元；及控制所述驅(qū)動單元的控制單元，所述控制單元基于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒或所述螺旋輸送機用的所述驅(qū)動單元的驅(qū)動電流值控制所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差(以下也稱為旋轉(zhuǎn)速度之差)。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明取得以下的效果。能夠提供一種對研磨粒回收裝置的螺桿和轉(zhuǎn)筒的損害少，且控制精度高，研磨粒的回收率高的研磨?；厥昭b置。


圖1是本發(fā)明的研磨?；厥昭b置的舉例的簡略結(jié)構圖。圖2是本發(fā)明的研磨?；厥辗椒ǖ牧鞒虉D的一例。圖3是表示本發(fā)明的研磨液的管理系統(tǒng)的一例的簡圖。
具體實施例方式[研磨?；厥昭b置]首先，對于本發(fā)明的研磨粒回收裝置進行說明。本發(fā)明的研磨?；厥昭b置能夠濃縮、再生含有研磨工序后的研磨粒的料漿(例如使用完的研磨液、修整水、清洗水、排放水等)。本發(fā)明的研磨?；厥昭b置根據(jù)投入的材料、用途、或工藝有時稱為包括離心沉降機以及離心脫水機的離心分離機。離心沉降機通常分為分離板型、圓筒型、潷析型，離心脫水機分為分批式或連續(xù)式。在本實施方式中，使用了穩(wěn)定且具有長時間的分離、濃縮性能的潷析型的離心沉降機，但本發(fā)明并不限定于此，能夠應用于上述所有的類型的研磨粒回收裝置。在圖1中，表示本發(fā)明的研磨?；厥昭b置的一例的簡略結(jié)構圖。研磨?；厥昭b置I主要具有高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)筒2和連續(xù)地排出濃縮液(通過本發(fā)明的回收方法來處理含有研磨粒的料漿并濃縮研磨粒后所得到的液體)的螺旋輸送機3。并且，研磨?；厥昭b置I具有處于轉(zhuǎn)筒2的一端壁部的堰板(weir plate)4和用于將研磨工序后的料漿投入研磨?；厥昭b置I的投入管5。轉(zhuǎn)筒2由直桶狀的直線部6和與直線部6連續(xù)的錐狀的錐體部7構成，在轉(zhuǎn)筒2內(nèi)部具有螺旋輸送機3。堰板4設置在轉(zhuǎn)筒2的直線部側(cè)的端壁部，并形成有直線部6的第一頂端開口 8。堰板4通常是與轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)軸正交的朝向。投入管5插入配置于錐體部7的第二頂端開口 9，通過投入管5向研磨?；厥昭b置I內(nèi)供給含有研磨粒10等的料漿。研磨粒回收裝置I連接未圖示的電動機等驅(qū)動單元，轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3各自獨立旋轉(zhuǎn)。通常，將驅(qū)動轉(zhuǎn)筒2的驅(qū)動單元稱為主驅(qū)動器，將驅(qū)動螺旋輸送機3的驅(qū)動單元稱為次驅(qū)動器。并且，研磨粒回收裝置I具有控制單元11?？刂茊卧?1具備例如由CPU構成的未圖示的運算處理裝置和例如由硬盤構成的未圖示的記錄介質(zhì)?？刂茊卧?1的CPU根據(jù)記錄于例如控制單元11的硬盤中的后述的程序等來控制驅(qū)動單元的動作。此外，料漿的濃縮率受直線部6的第一頂端開口 8側(cè)和錐體部7的第二頂端開口9側(cè)的流量比的影響大。因此，通過改變堰板4的高度，能夠調(diào)整研磨?；厥昭b置I內(nèi)的液面高度，并改變濃縮率。在本實施方式中，堰板4的高度為約IOOmm左右的一定的長度。[研磨?；厥辗椒╙接著，參照附圖對使用了本發(fā)明的研磨?；厥昭b置的研磨?；厥辗椒ㄟM行說明。具體來說，對前述控制單元進行的轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度的控制方法詳細地進行說明。在圖2中，表示本發(fā)明的研磨?；厥辗椒ǖ牧鞒虉D的一例。為了從含有研磨粒的料漿中濃縮、分離研磨粒，若轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3旋轉(zhuǎn)，則投入的料漿(在本實施方式中，含有作為磨粒的氧化鈰的使用完的研磨液、修整水、清洗水、排放水等)的一部分(氧化鈰等)堆積于研磨?；厥昭b置I的轉(zhuǎn)筒2的內(nèi)壁。并且，通常，轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)方向和螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)方向是同方向，本發(fā)明不限定于該旋轉(zhuǎn)方向。通過旋轉(zhuǎn)速度不同于轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)速度的螺旋輸送機3刮出堆積于轉(zhuǎn)筒2的內(nèi)壁的研磨粒10(氧化鈰等)，從而能夠回收研磨粒被濃縮了的濃縮液。此時，由于堆積的研磨粒10成為旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3的阻力，所以對轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3產(chǎn)生負荷。通常，對轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3的負荷取決于投入的料漿的供給流量(供給速度)、料漿中的研磨粒的濃度、轉(zhuǎn)筒與螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差等。在本發(fā)明中，如圖2所示，若對主驅(qū)動器產(chǎn)生的負荷在規(guī)定的值的范圍內(nèi)，則照原樣繼續(xù)進行處理(S20)，若產(chǎn)生的主驅(qū)動器的負荷在規(guī)定的值的范圍外，則控制單元控制驅(qū)動單元而改變轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度以使主驅(qū)動器的負荷處于規(guī)定的值的范圍內(nèi)(S30)。并且，使用者能夠控制投入的料漿的投入流量。因此，在投入的料漿中的研磨粒的濃度一定的情況下，或研磨粒的濃度低的情況下，也可以進行控制以使對轉(zhuǎn)筒2產(chǎn)生的主驅(qū)動器的負荷通過主驅(qū)動器的驅(qū)動電流值換算變?yōu)橐?guī)定值。控制單元進行的驅(qū)動單元的控制能夠是改變轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3兩者的旋轉(zhuǎn)速度來控制轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差的結(jié)構。另外，也可以是通過使轉(zhuǎn)筒2以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)而改變螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度來控制轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差的結(jié)構。而且，也可以是通過使螺旋輸送機3以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)而改變轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)速度來控制轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差的結(jié)構。在本實施方式中，通過使轉(zhuǎn)筒2以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)而改變螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度來控制轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)速度和螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度之差。但是，本發(fā)明并不限定于這一點。例如，在使轉(zhuǎn)筒2以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的情況下，若在研磨粒回收裝置I的內(nèi)部存在料漿，則這料漿成為負荷，驅(qū)動電流值增大。因此，產(chǎn)生的負荷例如能夠利用以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動轉(zhuǎn)筒2或螺旋輸送機3用的驅(qū)動電流值來近似。此時，產(chǎn)生的負荷由于在轉(zhuǎn)筒2和螺旋輸送機3之間存在比例關系，所以能夠與轉(zhuǎn)筒2或螺旋輸送機3中的任意一方的驅(qū)動電流值近似，即，只要基于轉(zhuǎn)筒2或螺旋輸送機3中的任意一方的驅(qū)動電流值來評估產(chǎn)生的負荷并控制驅(qū)動單元即可。在本實施方式中，如上述，是使轉(zhuǎn)筒2以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)而改變螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度的方式。因此，測定使轉(zhuǎn)筒2以規(guī)定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)用的電流值，并使該值與對轉(zhuǎn)筒2 (即研磨?；厥昭b置I)的負荷近似。具體來說，控制轉(zhuǎn)筒2和螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度之差以使得使轉(zhuǎn)筒2以規(guī)定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)用的驅(qū)動電流值處于規(guī)定的值的范圍內(nèi)。在本實施方式中，使用了研磨粒回收裝置I的轉(zhuǎn)筒2的額定電流值為12A的研磨?；厥昭b置。該情況下，產(chǎn)生的負荷用轉(zhuǎn)筒2的驅(qū)動電流值換算比在研磨粒回收裝置I的內(nèi)部僅存在空氣的情況下的轉(zhuǎn)筒2的驅(qū)動電流值大，優(yōu)選為11.4A以下(即研磨粒回收裝置I的額定電流值的95%以下)。在對轉(zhuǎn)筒2 (即研磨?；厥昭b置I)產(chǎn)生的負荷用轉(zhuǎn)筒2的驅(qū)動電流值換算超過11.4A的情況下，處于在研磨?；厥昭b置的內(nèi)部過度堆積有研磨粒10的狀態(tài)。因此，需要清洗研磨?；厥昭b置，除去內(nèi)部的研磨粒10。即，由于產(chǎn)生了清洗所需要的時間上的浪費和研磨粒10的損耗，所以研磨?；厥招首儾?。并且，也需要用于沖洗研磨?；厥昭b置的內(nèi)部的研磨粒10的成本。而且，若對轉(zhuǎn)筒2及螺旋輸送機3的負荷高的狀態(tài)持續(xù)，則也有可能螺旋輸送機3 (以及其他的構成單元)發(fā)生故障。即，在本發(fā)明中，因為進行控制以使對研磨?；厥昭b置I產(chǎn)生的負荷處于規(guī)定的范圍，所以能夠?qū)崿F(xiàn)研磨?；厥昭b置I的穩(wěn)定操作。產(chǎn)生的負荷用轉(zhuǎn)筒2的驅(qū)動電流值換算更優(yōu)選為在9.0A^ll.3ACBP研磨?；厥昭b置I的額定電流值的759Γ9490的范圍內(nèi)，更進一步優(yōu)選為在9.6A^11.2A (BP研磨粒回收裝置I的額定電流值的80°/Γ93%)的范圍內(nèi)。對轉(zhuǎn)筒2產(chǎn)生的負荷如上述取決于投入的料漿的供給流量(供給速度)、料漿中的研磨粒的濃度、轉(zhuǎn)筒和螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差。在使轉(zhuǎn)筒2和螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度之差一定的情況下，若投入的料漿的供給流量、料漿中的研磨粒的濃度變高，則對轉(zhuǎn)筒2產(chǎn)生的負荷增大。在以往的研磨?；厥昭b置中，若料漿中的研磨粒的濃度例如為2%，且使投入的料漿的供給流量為25L/min以上，則由于螺旋輸送機3的負荷超過額定電流值并變得過高(超負荷)，所以有必要降低投入的料漿的供給流量。但是，在本發(fā)明中，即使在料漿中的研磨粒的濃度為2%且投入的料漿的供給流量為25L/min以上的條件下，也能夠通過控制轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)速度和螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度之差來降低螺旋輸送機3的負荷。據(jù)此，由于能夠連續(xù)并穩(wěn)定操作研磨?；厥昭b置，所以與以往的方法相比較，能夠提高研磨?；厥盏纳a(chǎn)率。并且，此時，由于螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度和轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)速度之差變大，所以即使料漿中的研磨粒為高濃度，也能夠通過螺旋輸送機3從轉(zhuǎn)筒2中充分地刮出研磨粒10，從而實現(xiàn)高研磨粒的回收率。而且，在本發(fā)明的方法中，即使在料漿中的研磨粒的濃度為5%的高濃度且將投入的料漿的供給流量設為25L/min的情況下，也能夠降低螺旋輸送機3的負荷，且實現(xiàn)高研磨?；厥章?參照后述的實施例)。另一方面，在對轉(zhuǎn)筒2產(chǎn)生的負荷低的情況下，即，在投入的料漿中的研磨粒的濃度低例如為1%以下的情況下，在本發(fā)明中，進行控制以使對轉(zhuǎn)筒2產(chǎn)生的負荷用轉(zhuǎn)筒2的驅(qū)動電流值換算處于規(guī)定的值的范圍。在該實施方式中，更具體來說，為使對轉(zhuǎn)筒2產(chǎn)生的負荷提高，進行控制以使螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度和轉(zhuǎn)筒2的旋轉(zhuǎn)速度之差變小。即，在使轉(zhuǎn)筒2保持一定的旋轉(zhuǎn)速度的實施方式中，減慢螺旋輸送機3的旋轉(zhuǎn)速度。據(jù)此，能夠使在轉(zhuǎn)筒2的內(nèi)部堆積的研磨粒10保持一定量以上，即使在低濃度的料漿中，也能夠提高濃縮率。[研磨液的管理系統(tǒng)]其次，參照附圖對具有本發(fā)明的研磨?；厥昭b置I的研磨液的管理系統(tǒng)進行說明。圖3是表示本發(fā)明的研磨液的管理系統(tǒng)的一例的簡圖。研磨液的管理系統(tǒng)100具有本發(fā)明的研磨?；厥昭b置1、粗大粒子分離裝置150、成分調(diào)整槽160以及根據(jù)需要的其他的槽。作為其他的槽，例如可以列舉料漿槽120、排放水槽130、分散槽、用水槽140等。

通過使用本發(fā)明的研磨液的管理系統(tǒng)100，例如能夠回收并處理來自制造磁記錄介質(zhì)用玻璃基板時的研磨裝置110的料漿(例如使用完的研磨液、修整水、清洗水、排放水等)，并能夠使再生的研磨液和除去了研磨粒的用水分別通過與研磨裝置并設的料漿槽及用水槽循環(huán)。研磨裝置110只要能夠使用研磨粒研磨玻璃即可并沒有特別的限定，例如能夠使用對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板、光學部件用玻璃、光掩模用玻璃、液晶顯示用玻璃等玻璃進行研磨的玻璃研磨裝置。并且，作為研磨液中含有的研磨粒，例如能夠使用從氧化鈰粒子、氧化硅粒子、氧化鋁粒子、氧化鋯粒子、鋯粒子、碳化硅粒子、碳化硼粒子、金剛石粒子、氧化錳粒子、氧化鈦粒子及氧化鐵粒子中選擇的I種以上的粒子。研磨裝置中使用的研磨粒存留在料漿槽120，并在研磨裝置和料漿槽之間往復循環(huán)。用于玻璃基板等的清洗時的用水例如存留在用水槽140，并通過用水噴嘴來供給。排放水槽130是用于存留料漿(例如使用完的研磨液、修整水、清洗水、排放水等)的槽，為了防止沉淀及凝集而通常攪拌。排放水槽130的料漿被定期地或連續(xù)地搬送到本發(fā)明的研磨粒回收裝置1，通過上述的研磨粒回收方法，分離為含有濃縮的研磨粒的濃縮液和分離液。之后，濃縮液被搬送到粗大粒子分離裝置150。分離液通常廢棄，但也可以返回到用水槽140再利用。并且，為了除去混入料漿槽120的研磨液中的異物等的目的，也可以從料漿槽120向研磨?；厥昭b置I搬送研磨液。在圖3中，表示來自本發(fā)明的研磨?；厥昭b置I的濃縮液被搬送到粗大粒子分離裝置150的例子。然而，來自本發(fā)明的研磨粒回收裝置I的濃縮液也可以在搬送到未圖示的分散槽后，被搬送到粗大粒子分離裝置150。該情況下，在分散槽中，被定期地或連續(xù)地添加分散劑及水，并進行再分散處理。并且，在分散槽中，通常為了防止沉淀及凝集而攪拌。作為分散劑，沒有特別限定，能 夠使用例如羥基羧酸、聚丙烯酸或者它們的鹽等。濃縮液或再分散處理后的濃縮液被搬送到粗大粒子分離裝置150等的離心分離機，除去粗大粒子(例如粒徑大于5 μ m的粒子等)，并搬送到成分調(diào)整槽160。通常，在此分離出的粗大粒子被廢棄。在成分調(diào)整槽160中，進行濃縮液的濃度調(diào)整及pH調(diào)整等的成分調(diào)整，并根據(jù)需要添加分散劑。此時，在成分調(diào)整槽160中，通常為了防止沉淀及凝集而攪拌。通過對濃縮液進行成分調(diào)整而再生的研磨液回流到料漿槽120，重新用于研磨。也可以根據(jù)需要在研磨液的管理系統(tǒng)內(nèi)的任意的位置設置過濾器。[磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法]研磨液的管理系統(tǒng)使用本發(fā)明的研磨粒回收裝置1，回收研磨粒，作為研磨液進行再生，能夠應用于各種研磨裝置。作為研磨裝置，具體來說，能夠使用于如上述的對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板、光學部件用玻璃、光掩模用玻璃、液晶顯示用玻璃等玻璃進行研磨的研磨
>J-U ρ α裝直。在此，特別地對在磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法中應用本發(fā)明的研磨液的管理系統(tǒng)的情況進行說明。本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，舉例來說，通過以下工序來制造:( I)在將玻璃原基板加工成在中央部具有圓孔的圓盤形狀后，對內(nèi)周側(cè)面和外周側(cè)面進行倒角加工的形狀付與工序、(2)研磨玻璃基板的外周端面的外周端面研磨工序、(3)研磨玻璃基板的內(nèi)周端面的內(nèi)周端面研磨工序、(4)研磨玻璃基板的上下兩主平面的主平面研磨工序、及(5)精密清洗并干燥玻璃基板而獲得磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的清洗工序等。本發(fā)明并不限定于上述方法，通過將(2)的外周端面研磨工序、(3)的內(nèi)周端面研磨工序及(4)的主平面研磨工序中使用的含有研磨粒的料漿(例如使用完的研磨液、修整水、清洗水、排放水等)應用于本發(fā)明的研磨液的管理系統(tǒng)，能夠有效地回收研磨粒。作為研磨粒，能夠使用從例如氧化鈰粒子、氧化硅粒子、氧化鋁粒子、氧化鋯粒子、鋯粒子、碳化硅粒子、碳化硼粒子、金剛石粒子、氧化錳粒子、氧化鈦粒子及氧化鐵粒子中選擇的I種以上的粒子。此外，對于(2)外周端面研磨工序和(3)內(nèi)周端面研磨工序，可以任意先實施哪個工序。并且，可以在(2)及(3)的端面研磨工序的前后中的至少一個時間實施主平面的研磨(例如游離磨粒研磨、固定磨粒研磨等)，可以在各工序間實施玻璃基板的清洗(工序間清洗)、玻璃基板表面的蝕刻(工序間蝕刻)。此外，在此所說的主平面的研磨是廣義的主平面的研磨。 研磨工序可以僅一次研磨，也可以進行一次研磨和二次研磨，還可以在二次研磨后進行三次研磨。在本發(fā)明中，磁記錄介質(zhì)用玻璃基板既可以是非結(jié)晶化玻璃，也可以是結(jié)晶化玻璃，還可以是在玻璃基板的表層具有強化層(壓縮應力層)的強化玻璃(例如化學強化玻璃)。舉例來說，在對磁記錄介質(zhì)用玻璃基板要求高機械性強度的情況下，實施在玻璃基板的表層上形成強化層的強化工序(例如化學強化工序)。強化工序可以在最初的研磨工序前、最后的研磨工序后、或各研磨工序間的任意時間實施。并且，本發(fā)明的玻璃基板的玻璃原基板通過浮式法、熔融法、再拉引法、壓制成形法等方法來制造，但本發(fā)明并不限定于這一點。能夠通過在由上述方法所獲得的磁記錄介質(zhì)用玻璃基板之上層疊底層、磁性層、保護層、潤滑層等層來制造磁盤。各層的層疊方法等可以適當使用以往的方法等。作為磁盤的大小，沒有特別限定，能夠制造例如0.85英寸型磁盤(內(nèi)徑6mm、外徑21.6mm、厚0.381mm)、1.0英寸型磁盤(內(nèi)徑7mm、外徑27.4mm、厚0.381mm)、1.8英寸型磁盤(內(nèi)徑12mm、外徑 48mm、厚 0.508mm)、2.5 英寸型磁盤(內(nèi)徑 20mm、外徑 65mm、厚 0.635mm、0.8mm)等各種大小的磁盤。[第一實施方式]接著，對確認了本發(fā)明的研磨?；厥昭b置及研磨粒回收方法的效果的實施方式進行說明。在表I中，表示確認了本發(fā)明的研磨?；厥昭b置及研磨?；厥辗椒ǖ男Ч膶嵤┓绞街械膶嵤l件。表I
權利要求
1.一種研磨?；厥昭b置，從含有研磨粒的料漿中分離含有所述研磨粒的濃縮液， 該研磨粒回收裝置具有: 保持所述料漿的轉(zhuǎn)筒； 用于將所述濃縮液從轉(zhuǎn)筒中刮出的螺旋輸送機； 用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒及所述螺旋輸送機的驅(qū)動單元；及 控制所述驅(qū)動單元的控制單元， 所述控制單元基于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒或所述螺旋輸送機用的所述驅(qū)動單元的驅(qū)動電流值控制所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差。
2.根據(jù)權利要求1所述的研磨?；厥昭b置，其中， 所述控制單元控制所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差以使旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒或所述螺旋輸送機用的所述驅(qū)動單元的驅(qū)動電流值處于規(guī)定的范圍。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的研磨?；厥昭b置，其中， 所述控制單元控制所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度以使以一定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒用的所述驅(qū)動單元的驅(qū)動電流值處于規(guī)定的范圍， 在所述驅(qū)動電流值比所述規(guī)定的范圍大的情況下，所述控制單元提高所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度而進行控制以使所述驅(qū)動電流值處于所述規(guī)定的范圍， 在所述驅(qū)動電流值比所述規(guī)定的 范圍小的情況下，所述控制單元降低所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度而進行控制以使所述驅(qū)動電流值處于所述規(guī)定的范圍。
4.一種含有研磨粒的研磨液的管理系統(tǒng)，具有: 權利要求廣3中任意一項所述的研磨?；厥昭b置； 粗大粒子分離裝置 '及 成分調(diào)整槽。
5.一種磁記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，具有: 研磨工序；及 清洗工序， 其中，所述研磨工序使用權利要求4所述的研磨液的管理系統(tǒng)。
6.一種研磨?；厥辗椒ǎ褂昧搜心チ；厥昭b置，該研磨?；厥昭b置具有: 保持含有研磨粒的料漿的轉(zhuǎn)筒、 用于將含有所述研磨粒的濃縮液從轉(zhuǎn)筒中刮出的螺旋輸送機、 用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒及所述螺旋輸送機的驅(qū)動單元、及 控制所述驅(qū)動單元的控制單元， 在所述研磨?；厥辗椒ㄖ校谛D(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒或所述螺旋輸送機用的所述驅(qū)動單元的驅(qū)動電流值控制所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差。
全文摘要
本發(fā)明提供一種研磨?；厥昭b置、研磨液的管理系統(tǒng)、玻璃基板的制造方法及研磨?；厥辗椒ǎ瑢υ撗心チ；厥昭b置的螺桿和轉(zhuǎn)筒的損害均勻，且控制精度優(yōu)良、回收率高。本發(fā)明涉及一種從含有研磨粒的料漿中分離含有所述研磨粒的濃縮液的研磨?；厥昭b置，該研磨粒回收裝置具有保持所述料漿的轉(zhuǎn)筒、用于將所述濃縮液從轉(zhuǎn)筒中刮出的螺旋輸送機、用于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒及所述螺旋輸送機的驅(qū)動單元、及控制所述驅(qū)動單元的控制單元，所述控制單元基于旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述轉(zhuǎn)筒或所述螺旋輸送機用的所述驅(qū)動單元的驅(qū)動電流值控制所述轉(zhuǎn)筒的旋轉(zhuǎn)速度和所述螺旋輸送機的旋轉(zhuǎn)速度之差。
文檔編號B24B37/04GK103072085SQ20121041010
公開日2013年5月1日 申請日期2012年10月24日 優(yōu)先權日2011年10月25日
發(fā)明者田先雷太, 田村昌彥, 成川智義 申請人:旭硝子株式會社