技術(shù)編號：3262070
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)人們期望磁盤記錄裝置等中使用的玻璃基板、半導(dǎo)體晶片以及在它們之上形成的覆膜的表面是高度平坦的。通常，為了玻璃基板和半導(dǎo)體薄膜的平坦化，采用使用含有研磨粒的研磨液進(jìn)行研磨(CMP等)的方法。此時，作為研磨粒，使用氧化鈰、氧化鋁、氧化硅(膠體氧化硅)等的磨粒。并且，在研磨液中，添加pH調(diào)整劑、表面活性劑以及其他的添加劑。在玻璃基板和半導(dǎo)體晶片等的研磨工序后被回收的排放水等含有研磨對象物、研磨墊、研磨粒等研磨屑。這些研磨屑由于會使研磨對象...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。