專利名稱：一種消除冷軋硅鋼連續(xù)退火爐無氧化水印缺陷的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于冶金企業(yè)中高牌號無取向硅鋼退火技木，具體涉及ー種消除冷軋硅鋼連續(xù)退火爐無氧化水印缺陷的方法。
背景技術(shù)：
冷軋硅鋼連續(xù)退火爐無氧化爐段因其升溫快、可提高磁性能而在硅鋼連續(xù)退火線上廣泛應(yīng)用。無取向硅鋼連續(xù)退火機組均使用NOF (無氧化爐)爐段，但在生產(chǎn)高牌號無取向硅鋼的過程中，出現(xiàn)無氧化水印的缺陷。為了克服這ー缺點，避免在NOF爐段產(chǎn)生的水印缺陷，目前國內(nèi)各硅鋼生產(chǎn)企業(yè)成功應(yīng)用的主要方法有以下幾種
⑴將無氧化爐段改造為輻射管隔焰加熱爐段(RTF)(備注具有NOF爐段的連續(xù)退火線僅生產(chǎn)50W470以下中低牌號硅鋼)。該方法設(shè)備改造投資大，周期長，短期效益損失大。⑵減小水冷輥的水流量。僅靠該法不能徹底消除無氧化水印缺陷，且較難調(diào)整到合適的水流量(既減少無氧化缺陷同時保證水冷輥的正常冷卻)。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述設(shè)備、技術(shù)的局限性，生產(chǎn)出表面光潔、沒有無氧化爐段水印缺陷且磁性能優(yōu)良的無取向硅鋼產(chǎn)品，本發(fā)明提供一種消除冷軋硅鋼連續(xù)退火爐無氧化水印缺陷的方法。無氧化水印缺陷形成機理硅鋼尤其高牌號硅鋼，硅含量高，在氧化氣氛(含有02、 CO2, H2O等)氣氛中極易氧化，因為硅比鐵更容易氧化，而且硅的氧化反應(yīng)是不可逆的。NOF 爐一般采用的空燃比< 1，煤氣沒有充分燃燒，爐內(nèi)的氣氛中既有還原性氣體又有氧化性氣體。在這種高溫氣氛中發(fā)生內(nèi)氧化還是外氧化，決定于氧原子通量的大小。如果氧原子的通量大于Si的原子通量，氧原子滲入基體金屬內(nèi)將發(fā)生內(nèi)氧化。在上述無氧化燃燒狀態(tài)下， Si比!^更易氧化，在選擇氧化作用下，其氧化方式將以內(nèi)氧化為主。通過內(nèi)氧化形核和長大過程逐漸發(fā)展。當內(nèi)氧化達到一定極限濃度吋，就向外擴展形成一個連續(xù)的SiO2膜，使內(nèi)氧化終止。鋼板表面形成!^eO *Si02膜的地方與未形成的地方顏色不一致，便成為表面缺陷。 因此種缺陷是冷凝水附著在帶鋼表面形成的，故稱作無氧化水印缺陷。(1)硅鋼退火爐PH+N0F段共有6段，其中PH段，NOF段5段，爐長42.加。(2)無氧化采用明火燃燒，直接加熱帶鋼。焦爐煤氣的主要成分甲烷CH4占20— 30%、氫氣 H2 占 50— 60%。2CH4+302=2C02+2H20 2H2+02=2H20
無氧化段煤氣燃燒產(chǎn)生大量水。(3) PH/N0F段共有21支爐輥，具體爐段與爐輥對應(yīng)如下
權(quán)利要求
1. 一種消除冷軋硅鋼連續(xù)退火爐無氧化水印缺陷的方法，其特征是無氧化爐的1 6#爐輥采用材質(zhì)為Cr25Ni20的耐熱合金鋼輥，無氧化爐的1段、2段、3段不通焦爐煤氣，4 段、5段通入流量是150 m3/h的焦爐煤氣；無氧化爐的1段、2段的爐溫為800°C，4段、5段的爐溫為950°C ；后部輻射管(RTF)段的溫度為920 940°C。
全文摘要
一種消除冷軋硅鋼連續(xù)退火爐無氧化水印缺陷的方法，包括無氧化爐，其特征是將無氧化爐的1～6#爐輥采用材質(zhì)為Cr25Ni20的耐熱合金鋼輥，無氧化爐的1段、2段、3段不通焦爐煤氣，4段、5段通入流量是150m3/h的焦爐煤氣；無氧化爐的1段、2段的爐溫為800℃，4段、5段的爐溫為950℃；后部輻射管(RTF)段的溫度為920～940℃。本發(fā)明減少了爐內(nèi)水蒸氣，降低該爐段露點，徹底消除了無氧化爐內(nèi)產(chǎn)生的水印缺陷，同時保證了其產(chǎn)品的磁性能。
文檔編號C21D11/00GK102560070SQ201210005179
公開日2012年7月11日 申請日期2012年1月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月10日
發(fā)明者羅玉田, 裴潤奇, 郭華, 郭巖 申請人:山西太鋼不銹鋼股份有限公司