專利名稱：玻璃基板保持用膜體及玻璃基板的研磨方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于在加工玻璃基板時保持玻璃基板的玻璃基板保持用膜體及玻璃基板的研磨方法。
背景技術(shù)：
對于應(yīng)用于液晶顯示器用途的玻璃基板而言，其表面的微小凹凸或起伏會導(dǎo)致圖像產(chǎn)生變形，因此，使用研磨裝置來除去該微小凹凸或起伏。作為這種研磨裝置，本申請人在專利文獻(xiàn)I中公開了ー種研磨裝置，其中，通過將保持在研磨頭上的玻璃基板推壓到粘貼在研磨平臺上的研磨墊上并且使研磨平臺和研磨頭進(jìn)行相對旋轉(zhuǎn)而對玻璃基板進(jìn)行研磨。另外，專利文獻(xiàn)I的研磨裝置中，通過使玻璃基板吸附保持于安裝在研磨頭上的自吸附型保持用膜體上而將玻璃基板安裝到研磨頭上。
近來，隨著液晶顯示器用玻璃基板的大型化，用于使該玻璃基板吸附保持在研磨頭上的保持用膜體的尺寸也正在大型化。該保持用膜體通過借助雙面膠粘片將多孔性自吸附型片粘貼在背板上而構(gòu)成，并且玻璃基板吸附保持在該自吸附型片上。對稱為GlO的尺寸(3130mmX2880mm)的母玻璃基板進(jìn)行研磨加工時，在用于保持該尺寸的玻璃基板的保持用膜體的制造中，對于自吸附型片和背板而言，能夠使用現(xiàn)有的制造設(shè)備來制造尺寸與其對應(yīng)的產(chǎn)品。但是，用于將自吸附型片膠粘到背板上的雙面膠粘片無法使用現(xiàn)有的制造設(shè)備制造成單個產(chǎn)品，制造時需要新型設(shè)備投資，因而存在制造成本増大的問題。雙面膠粘片具備在聚對苯ニ甲酸こニ醇酯等基材的兩面上涂布有膠粘劑的粘合層。對于上述基材而言，也能夠使用現(xiàn)有的制造設(shè)備來制造上述GlO尺寸的產(chǎn)品。但是，由于涂布面積過大，因此使用現(xiàn)有設(shè)備無法應(yīng)對膠粘劑的涂布裝置的要求。因此，以往使用至少兩片現(xiàn)有尺寸的雙面膠粘片將自吸附型片膠粘保持于背板上。作為自吸附型片，如專利文獻(xiàn)2所示，可以例示作為由聚氨酯樹脂形成的軟質(zhì)塑料片的聚氨酯片。專利文獻(xiàn)2的聚氨酯片是通過在其表面層上形成多微孔、并且在表面層中含有水等液體從而利用滲入到表面層的多微孔中的液體的表面張カ將研磨墊膠粘到研磨平臺上的聚氨酯片。但利用該聚氨酯片也能夠使玻璃基板進(jìn)行自吸附保持，因此，將其作為自吸附型片使用。另外，在使用多片雙面膠粘片的現(xiàn)有的保持用膜體中，難以使相鄰的雙面膠粘片的端部彼此以無間隙的方式進(jìn)行粘貼。圖8示出了借助兩片雙面膠粘片2A、2B將自吸附型片I貼合在背板3上并且玻璃基板G吸附保持在自吸附型片I上的保持用膜體6的截面圖。為了使相鄰的雙面膠粘片2A、2B的端部彼此以無間隙的方式進(jìn)行粘貼而使雙面膠粘片2A、2B的端部以彼此稍稍重疊的方式進(jìn)行膠粘吋，該重疊的部分會形成凸?fàn)?，該凸?fàn)罱?jīng)由自吸附型片I轉(zhuǎn)印到玻璃基板G上而形成凸?fàn)畈?。在轉(zhuǎn)印有凸?fàn)畈?的狀態(tài)下對玻璃基板G進(jìn)行研磨吋，如圖9所示，研磨后的玻璃基板G的形成有該凸?fàn)畈?的部分會相反地表現(xiàn)為凹狀部4A，因此，存在加工表面的平坦性受損、玻璃基板G的質(zhì)量(平坦度)降低的問題。為了解決以上的問題，為了將大型玻璃基板研磨至期望的平坦度，如圖10所示，需要使保持用膜體6具有厚度方向的間隙(A)和表面方向的間隙(B)。作為具有間隙(A、B)的保持用膜體，想到了下述構(gòu)成的保持用膜體。如圖11所示，以在同一面內(nèi)形成預(yù)定間隙(A’、B’ )的方式使用多片小尺寸的保持用膜體6、6，由此得到大尺寸的保持用膜體7。如圖12所示，將自吸附型片I作為單個產(chǎn)品并且以在同一面內(nèi)形成預(yù)定間隙(A”、B”)的方式使用多片雙面膠粘片2C、2D，由此得到大尺寸的保持用膜體8。如圖13所示，將自吸附型片I作為單個產(chǎn)品并且以在同一面內(nèi)形成預(yù)定間隙
的方式使用多片雙面膠粘片2E、2F，并且形成如下構(gòu)成在將兩片雙面膠粘片重疊的同時使上下兩片各雙面膠粘片2E、2F之間的間隙(A”’、B”’ )在雙面膠粘片的層疊方向上不重合，由此得到大尺寸的保持用膜體9?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開2004-122351號公報專利文獻(xiàn)2 :日本特開2007-7824號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的問題但是，圖11所示的保持用膜體7中，鑒于制作誤差而難以縮小間隙(B’ )。因此，保持用膜體7中存在與保持用膜體7的厚度相應(yīng)大小的間隙(A’ )和間隙(B’)，因此，如圖14所示在與該間隙(A’、B’ )的位置對應(yīng)的玻璃基板上出現(xiàn)較大的凸?fàn)畈?B。因此，該保持用膜體7難以提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。另外，圖12所示的保持用膜體8的間隙(A”)與圖11所示的保持用膜體7的間隙(A’ )相比，存在與自吸附型片I的厚度對應(yīng)程度的減小，而鑒于制作誤差仍難以減小間隙(B”)。另外，由于研磨時玻璃基板與研磨墊的摩擦阻力，使自吸附型片I在表面方向上延伸，因此使間隙(B”)増大。因此，對于該保持用膜體8而言，也會在玻璃基板上出現(xiàn)較大的上述凸?fàn)畈?B(參考圖14)，因此，難以提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。圖13所示的保持用膜體9能夠利用兩片重疊配置的雙面膠粘片2E、2F的各基材2G、2H的強度而將自吸附型片I在表面方向上的延伸抑制到小于圖12所示的保持用膜體8的延伸。但是，如圖13所示將雙面膠粘片2E、2F兩片重疊時，兩個間隙(A”’ )的相加值達(dá)到圖12的保持用膜體的間隙(A”)的2倍，另外，鑒于制作誤差也難以縮小間隙(B”’)。因此，該保持用膜體9也難以提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。本發(fā)明鑒于上述情況而完成，其目的在于提供能夠提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量的玻璃基板保持用膜體及玻璃基板的研磨方法。用于解決問題的手段本發(fā)明提供ー種玻璃基板保持用膜體，通過借助雙面膠粘片將自吸附型片粘貼在背板上而構(gòu)成，并且玻璃基板吸附保持于上述自吸附型片上，其中，上述雙面膠粘片由片狀基材和設(shè)置在該基材的兩面上的粘合層構(gòu)成，上述粘合層以在上述基材的同一面內(nèi)形成預(yù)定間隙的方式設(shè)置，并且設(shè)置在上述基材的兩面上的粘合層之間的間隙在粘合層的層疊方向上不重合。根據(jù)本發(fā)明的保持用膜體，能夠利用與自吸附型片相同尺寸的雙面膠粘片的基材來抑制研磨加工時自吸附型片在表面方向上的延伸。另外，本發(fā)明的保持用膜體的間隙(B””’)與前述的圖12、圖13的保持用膜體8、9的間隙大致相同。但是，本發(fā)明的保持用膜體的間隙(A””’ )與設(shè)置在基材的兩面上的粘合層的厚度相當(dāng)，因此，與圖11 圖13的保持用膜體7、的間隙(Α’Γ(Α”’)相比大幅減小。因此，根據(jù)本發(fā)明的保持用膜體，與保持用膜體7、相比，能夠提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。由這種保持用膜體保持而進(jìn)行研磨的玻璃基板，由于在上述間隙被轉(zhuǎn)印的狀態(tài)下進(jìn)行研磨而在其表面上形成凸?fàn)畈俊５?，根?jù)本發(fā)明的保持用膜體，由于設(shè)置在上述基材的兩面上的粘合層之間的上述間隙在粘合層的層疊方向上不重合，因此，能夠抑制間隙所致的轉(zhuǎn)印量。因此，根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)⑿纬稍诓ＡЩ宓谋砻嫔系耐範(fàn)畈康母叨纫种圃谳^低水平，因此，能夠更進(jìn)一步地提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。
本發(fā)明以用于吸附保持大型玻璃基板的保持用膜體作為對象。因此，本發(fā)明的一片自吸附型片和雙面膠粘片的基材的尺寸可以應(yīng)對大型玻璃基板的尺寸。另外，雙面膠粘片的粘合層的尺寸為現(xiàn)有涂布裝置所能涂布的最大尺寸以下。另外，根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選上述玻璃基板的尺寸為3130 (mm) X2880 (mm)以上。S卩，本發(fā)明的保持用膜體可保持尺寸為稱為GlO尺寸的尺寸以上的玻璃基板，從而對該玻璃基板進(jìn)行研磨。另外，根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選上述保持用膜體的尺寸為3200(mm)X3000(mm)以上。為了保持上述GlO尺寸以上的玻璃基板，優(yōu)選使用具有3200 (mm) X 3000 (mm)以上的尺寸的保
持用膜體。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供ー種玻璃基板的研磨方法，其中，利用本發(fā)明的玻璃基板保持用膜體吸附保持玻璃基板，將該玻璃基板的被研磨面推壓到研磨墊上，并將玻璃基板的被研磨面研磨至所需的平坦度。由此，根據(jù)本發(fā)明，能夠提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，能夠提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。


圖I是應(yīng)用實施方式的玻璃基板保持用膜體的玻璃基板的研磨裝置的立體圖。圖2是表示實施方式的研磨裝置的主要部分構(gòu)造的放大剖面圖。圖3是第一實施方式的保持用膜體的立體圖。圖4是實施方式的保持用膜體的截面圖。圖5是在實施方式的保持用膜體上吸附保持有玻璃基板的截面圖。圖6是利用以形成間隙的方式貼合的兩片雙面膠粘片將自吸附型片貼合在背板上的截面圖。圖7是形成在玻璃基板的表面上的凸?fàn)畈康恼f明圖。
圖8是通過將兩片雙面膠粘片的端部重疊而將自吸附型片貼合在背板上的截面圖。圖9是形成在玻璃基板的表面上的凹狀部的說明圖。圖10是用于說明保持用膜體的間隙的截面圖。圖11是表示保持用膜體的第一比較例的截面圖。圖12是表示保持用膜體的第二比較例的截面圖。圖13是表示保持用膜體的第三比較例的截面圖。圖14是形成在玻璃基板的表面上的凸?fàn)畈康恼f明圖。
具體實施方式
以下，根據(jù)附圖對本發(fā)明的玻璃基板保持用膜體及玻璃基板的研磨方法的優(yōu)選實施方式進(jìn)行說明。圖I示出了應(yīng)用實施方式的玻璃基板保持用膜體的玻璃基板的研磨裝置10的立體圖。另外，圖2中示出了表示研磨裝置10的主要部分構(gòu)造的放大剖面圖。研磨裝置10是用于將制造成矩形的母玻璃基板(例如，邊長為3130mmX 2880mm(G10尺寸)以上、厚度為O. 7mm) G的被研磨面A研磨至液晶顯示器用玻璃基板所需的平坦度的研磨裝置。研磨裝置10由借助保持用膜體12將玻璃基板G保持在其下表面的研磨頭14和借助鋁制平板16將研磨墊18保持在其上表面的研磨臺20構(gòu)成。母玻璃基板(以下稱為玻璃基板)G由包含具有自吸附作用的背襯材料等的保持用膜體12保持，并且由研磨頭14將被研磨面A推壓到研磨墊18上。結(jié)果，玻璃基板G的被研磨面A被研磨至所需的平坦度。為了吸附保持上述尺寸的大型玻璃基板G，優(yōu)選保持用膜體12具有3200 (mm) X 3000 (mm)以上的尺寸。另外，保持用膜體12的詳細(xì)結(jié)構(gòu)如后所述。如圖2所示，研磨中，由貫通形成于研磨臺20和平板16的多個漿料供給孔22A、22B…自研磨墊18的下表面?zhèn)裙┙oニ氧化鈰水溶液等研磨漿料。由此，形成研磨墊18被研磨漿料浸泡的狀態(tài)。在該狀態(tài)下對玻璃基板G進(jìn)行研磨。漿料供給孔22A、22B···密集且均勻地形成在研磨臺20和平板16上。因此，研磨漿料被均勻地供給至研磨墊18。需要說明的是，作為研磨墊18，可以使用例如發(fā)泡聚氨酯型或絨面革型的研磨墊，將其貼合在平板16上。研磨墊18可以為單個構(gòu)成，但由于其尺寸與玻璃基板G的尺寸相應(yīng)地也較大，因此，也可以將多片分割墊組合成一片研磨墊18。而且，在研磨臺20上貫通形成有多個抽吸孔24A、24B···，這些抽吸孔24A、24B…通過閥與未圖示的抽吸泵連接。因此，通過打開上述閥，抽吸泵的吸引力傳遞到抽吸孔24A、24B···，因此，平板16被吸附保持于研磨臺20的上表面。通過關(guān)閉上述閥，抽吸泵的吸引力被解除，因此，在研磨墊18的維護(hù)、更換時能夠?qū)⒀心|18和平板16 —起從研磨臺20上拆卸下來。如圖I所示，在研磨頭14的上部中央固定有主軸26，該主軸26上連接有旋轉(zhuǎn)/升降裝置28。旋轉(zhuǎn)/升降裝置28由統(tǒng)ー控制整個研磨裝置10的控制部30控制到適合玻璃基板G的研磨的轉(zhuǎn)速和下降動作(推壓カ)。圖3中示出了實施方式的保持用膜體12的立體圖，圖4中示出了除背板36以外的實施方式的保持用膜體12的截面圖。另外，圖5示出了在實施方式的保持用膜體12上吸附保持有玻璃基板G的截面圖。
如圖4所示，保持用膜體12通過借助配置在同一面內(nèi)的一片雙面膠粘片34將ー片自吸附型片32粘貼在圖3的鋁制背板36上而構(gòu)成。如圖5所示，玻璃基板G吸附保持于該自吸附型片32上。自吸附型片32為專利文獻(xiàn)2中公開的由聚氨酯樹脂形成的聚氨酯片，其厚度優(yōu)選為約I. ImnT約I. 5_。該聚氨酯片的表面層上形成有多微孔，通過使表面層中含有水等液體，能夠利用滲入到表面層的多微孔中的液體的表面張カ來吸附保持玻璃基板G。雙面膠粘片34由聚對苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)等的基材38和通過在基材38的兩面上涂布膠粘劑而形成的粘合層40、42構(gòu)成?；?8的厚度優(yōu)選約為75 μ m，粘合層40的厚度優(yōu)選約為50 μ m。需要說明的是，通過使背板36側(cè)的粘合層42的厚度比自吸附型片32側(cè)的粘合層40的厚度薄，能夠有助于提高玻璃基板G的平坦度。圖:T圖5中所示的保持用膜體12中，在一片自吸附型片32上在同一面內(nèi)配置一片雙面膠粘片34，雙面膠粘片34的粘合層40以形成預(yù)定間隙(S1)的方式涂布在基材38 上，并且粘合層42也同樣以形成預(yù)定間隙(S2)的方式涂布在基材38上。而且，使這些間隙(SpS2)在粘合層的層疊方向上不重合。上述粘合層40、42的尺寸為現(xiàn)有的涂布裝置所能涂布的最大尺寸以下。根據(jù)以上述方式構(gòu)成的保持用膜體12，如圖6所示，位于間隙S1處的自吸附型片32的一部分32a因研磨時的推壓カ等進(jìn)入間隙S1中。結(jié)果，在與間隙S1對應(yīng)的自吸附型片32的吸附面上產(chǎn)生凹狀部32b。因此，吸附保持在該凹狀部32b上的玻璃基板G的一部分G1變形為凸?fàn)?，從而在玻璃基板G的被研磨面上產(chǎn)生凹狀部5a。在產(chǎn)生凹狀部5a的狀態(tài)下對玻璃基板G進(jìn)行研磨吋，該凹狀部5a未被研磨。因此，形成凹狀部5a的部分在研磨后的玻璃基板G上如圖7所示形成凸?fàn)畈?A。但是，與圖9所示的以往的凹狀部4A的深度b和圖14所示的凸?fàn)畈?B的高度c相比，形成在玻璃基板G的表面上的凸?fàn)畈?A的高度a的絕對量減小，因此并不會損害玻璃基板G的平坦性。如圖6所示，位于間隙S2處的自吸附型片32的一部分32c因研磨時的推壓カ等而在進(jìn)入到間隙S2內(nèi)的方向上發(fā)生變形。結(jié)果，在與間隙S2對應(yīng)的自吸附型片32的吸附面上產(chǎn)生凹狀部32d。因此，吸附保持在該凹狀部32d上的玻璃基板G的一部分G2變形為凸?fàn)?，從而在玻璃基板G的被研磨面上產(chǎn)生凹狀部5b。在產(chǎn)生凹狀部5b的狀態(tài)下對玻璃基板G進(jìn)行研磨時，凹狀部5b未被研磨。因此，形成凹狀部5b的部分在研磨后的玻璃基板G上如圖7所示形成凸?fàn)畈?B。但是，自吸附型片32的一部分32a的變形量小于自吸附型片32的一部分32c的變形量。這是因為，粘合層40的間隙S1直接與自吸附型片32的發(fā)泡結(jié)構(gòu)部的微孔接觸并且該發(fā)泡結(jié)構(gòu)部的尺寸與間隙S1的尺寸相近，因此，與隔著粘合層40和基材38與自吸附型片32接觸的間隙S2相比，對自吸附型片32的變形產(chǎn)生的影響較小。因此，與凸?fàn)畈?A的高度a和圖9所示的以往的凹狀部4A的深度b相比，形成在玻璃基板G的表面上的凸?fàn)畈?B的高度b的絕對量大幅減小。32a的變形量不會損害玻璃基板G的平坦性。根據(jù)實施方式的保持用膜體12，能夠提高研磨后的玻璃基板G的質(zhì)量。另外，如圖5所示，在保持用膜體12的背板36上安裝有片狀彈性片材44，在該彈性片材44的外周固定有多個結(jié)合構(gòu)件46A、46B···。保持用膜體12通過張緊設(shè)置彈性片材44并使這些結(jié)合構(gòu)件46A、46B...結(jié)合在圖I的研磨頭14的鉤部(未圖示)而安裝到研磨頭14上。圖4 圖6中所示的預(yù)定間隙S1, S2優(yōu)選設(shè)定為I. 5±1. 5mm,更優(yōu)選設(shè)定為I. 5±1. 4mm。S卩，上述實施方式中規(guī)定的預(yù)定間隙S^S2包括O,優(yōu)選為(Γ3. 0mm。間隙為O時，研磨后的玻璃基板G不會產(chǎn)生轉(zhuǎn)印所致的凸?fàn)畈?A、5B(參考圖7)，另外，間隙為3. Omm時，因轉(zhuǎn)印而形成在玻璃基板G上的凸?fàn)畈?A、5B對顯示器用玻璃基板G的質(zhì)量沒有影響。粘合層40、42的厚度分別優(yōu)選為50 μ m以下，更優(yōu)選為40 μ m以下，特別優(yōu)選為30 μ m以下。此外，圖Γ圖6所示的保持用膜體12中，能夠利用與自吸附型片32相同尺寸的基材38的強度而抑制研磨加工時的自吸附型片32在表面方向上的延伸。
另ー方面，為了將大型玻璃基板研磨加工至期望的平坦度，如圖10中已說明的那樣，需要使保持用膜體具有厚度方向的間隙(A)和表面方向的間隙(B)。因此，如圖4所示，雖然實施方式的保持用膜體12的間隙(B””’ )與圖12、圖13所示的保持用膜體8、9的間隙(B”、B”’ )大致相同，但實施方式的保持用膜體12的間隙(A””’ )與設(shè)置在基材38的兩面上的粘合層40、42的厚度相當(dāng)，因此，與圖11 圖13的保持用膜體7、8、9的間隙(A’廣(A”’ )相比大幅減小。因此，根據(jù)實施方式的保持用膜體12，與圖11 圖13所示的保持用膜體7、8、9相比，能夠提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。參考特定的實施方式詳細(xì)地對本發(fā)明進(jìn)行了說明，但對本領(lǐng)域技術(shù)人員來說顯而易見的是，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下可以進(jìn)行各種變更和修改。本申請基于2010年3月30日提出的日本專利申請2010-077934，將該申請的內(nèi)容以參考的形式并入本說明書中。產(chǎn)業(yè)上的可利用性根據(jù)本發(fā)明，能夠提高研磨后的玻璃基板的質(zhì)量。標(biāo)號說明I…自吸附型片、2A 2H…雙面膠粘片、3…背板、4…凸?fàn)畈俊?A…凹狀部、5…凹狀部、5A···凸?fàn)畈俊?、7、8、9…保持用膜體、10···研磨裝置、12、112、212···保持用膜體、14···研磨頭、16···平板、18···研磨墊、20···研磨臺、22···漿料供給孔、24···抽吸孔、26···主軸、28···旋轉(zhuǎn)/升降裝置、30…控制部、32...自吸附型片、34、34A、34B...雙面膠粘片、36...背板、38...基材、40、42…粘合層、44· 弾性片材、46···結(jié)合構(gòu)件、G…玻璃基板。
權(quán)利要求
1.一種玻璃基板保持用膜體，通過借助雙面膠粘片將自吸附型片粘貼在背板上而構(gòu)成，并且玻璃基板吸附保持于所述自吸附型片上，其中， 所述雙面膠粘片由片狀基材和設(shè)置在該基材的兩面上的粘合層構(gòu)成， 所述粘合層以在所述基材的同一面內(nèi)各自形成預(yù)定間隙的方式設(shè)置，并且 設(shè)置在所述基材的兩面上的粘合層之間的間隙在粘合層的層疊方向上不重合。
2.如權(quán)利要求I所述的玻璃基板保持用膜體，其中，所述玻璃基板的尺寸為31 30mmX2880mm 以上。
3.如權(quán)利要求2所述的玻璃基板保持用膜體，其中，所述保持用膜體的尺寸為3200mmX3000mm 以上。
4.一種玻璃基板的研磨方法，其中，利用權(quán)利要求1、2或3所述的玻璃基板保持用膜體吸附保持玻璃基板，將該玻璃基板的被研磨面推壓到研磨墊上，并將玻璃基板的被研磨面研磨至所需的平坦度。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種玻璃基板保持用膜體，通過借助雙面膠粘片(34)將自吸附型片(32)粘貼在背板上而構(gòu)成，并且玻璃基板吸附保持于所述自吸附型片上，其中，所述雙面膠粘片由片狀基材(38)和設(shè)置在該基材的兩面上的粘合層(40、42)構(gòu)成，所述粘合層以在所述基材的同一面內(nèi)各自形成預(yù)定間隙(B””、B””)的方式設(shè)置，并且設(shè)置在所述基材的兩面上的粘合層之間的間隙在粘合層的層疊方向上不重合。
文檔編號B24B37/27GK102844152SQ20118001710
公開日2012年12月26日 申請日期2011年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月30日
發(fā)明者古田充, 橫田稔, 笹森孝 申請人:旭硝子株式會社, 富士紡控股株式會社