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透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造的制作方法

文檔序號:3386691閱讀:213來源:國知局
專利名稱:透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,特別是涉及一種具有厚度變化的濺射靶材構(gòu)造。
背景技術(shù)
液晶顯示器(liquid crystal display, LCD)是利用液晶材料的特性來顯示圖像的一種平板顯示裝置(flat panel display,F(xiàn)PD),其相較于其它顯示裝置而言具輕薄、 低驅(qū)動(dòng)電壓及低功耗等優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)成為整個(gè)消費(fèi)市場上的主流產(chǎn)品。現(xiàn)今液晶顯示面板的制作過程中,大致可分為前段矩陣(Array)工藝、中段成盒(Cell)工藝及后段模塊化 (Module)工藝。前段的矩陣工藝為生產(chǎn)薄膜式晶體管(TFT)陣列基板及彩色濾光片(CF) 基板;中段成盒工藝則將TFT基板與CF板組合,并兩者之間注入液晶并切割符合產(chǎn)品尺寸的面板;后段模塊化工藝則為組裝的面板與背光模塊、面板驅(qū)動(dòng)電路、外框等的工藝。其中, 在中段成盒工藝中包含有一透明導(dǎo)電層(ITOJndium Tin Oxide)的制作過程,所謂透明導(dǎo)電層(ITO)即是成份為氧化銦錫的透明導(dǎo)電材料。需在CF基板以及TFT基板上形成透明導(dǎo)電層,一般采用ITO層來實(shí)現(xiàn),因?yàn)镮TO層除了其透明性與導(dǎo)電性優(yōu)良之外,還具有良好的蝕刻特性及可靠性,因此被應(yīng)用于制作LCD 中所需要的透明導(dǎo)電層?,F(xiàn)有的透明導(dǎo)電層的制作方法,主要是通過濺鍍(Sputtering)原理,以磁控濺射的方法在基板上鍍上一層ITO層。濺鍍是利用電漿中的電位梯度將離子(通常選用鈍氣離子)加速并撞擊靶材(陰極),通過動(dòng)量及能量轉(zhuǎn)移,使原子從靶材表面移開, 使其具揮發(fā)性而飛向基板(陽極)的一種物理現(xiàn)象。在透明導(dǎo)電層的制作過程中濺射靶材是主要的消耗材料。通常,濺射靶材具有固定的本體形狀,如長方體狀。靶材在整個(gè)ITO層制作過程中各部分的使用率是不相同的。因此濺射靶材在使用時(shí)其兩端和邊緣的使用率較低,造成材料的浪費(fèi)。而ITO靶材的價(jià)格非常昂貴,這樣直接造成制作成本的浪費(fèi)。因此,有必要提供一種透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的是提供一種透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,以解決現(xiàn)有技術(shù)中濺射靶材利用率不一所產(chǎn)生的材料浪費(fèi)的問題。為達(dá)上述目的,本實(shí)用新型提供一種透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,包括所述濺射靶材構(gòu)造包含一中央板狀部、二短邊厚度變化端部及二長邊厚度變化邊部;其中所述短邊厚度變化端部的厚度大于所述中央板狀部的厚度;所述長邊厚度變化邊部的厚度小于所述中央板狀部的厚度;以及所述中央板狀部、所述二短邊厚度變化端部及所述二長邊厚度變化邊部的上表面為同平面設(shè)置。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述短邊厚度變化端部具有一非平面狀的短邊端[0009]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述非平面狀的短邊端面是呈鑿狀的端面。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述呈鑿狀端面在直角邊上形成45度的切邊的寬度為所述濺射靶材構(gòu)造寬度的1/3至1/2。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述非平面狀的短邊端面是呈外凸式的雙峰形端在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述短邊厚度變化端部的長度為所述濺射靶材構(gòu)造長度的1/16至1/8。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述短邊厚度變化端部的厚度為所述中央板狀部厚度的3/2至2倍。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述二長邊厚度變化邊部的寬度為所述濺射靶材構(gòu)造寬度的1/10至1/8。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述二長邊厚度變化邊部的厚度為所述中央板狀部厚度的9/10至8/10。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中,所述濺射靶材構(gòu)造設(shè)于一固定鋼板的上表面上,所述固定鋼板上表面的形狀與所述濺射靶材構(gòu)造的底部形狀相對應(yīng)。本實(shí)用新型的所述透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造依據(jù)濺射靶材實(shí)際的消耗情況,在不同的部位設(shè)計(jì)不同的厚度變化方案,以減少所述濺射靶材在使用過程中材料的浪費(fèi),從而節(jié)省透明導(dǎo)電層的制作成本。

圖1是本實(shí)用新型揭示的透明導(dǎo)電層的濺射靶材材料消耗的示意圖。圖2是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第一實(shí)施例的立體示意圖。圖3A是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第二實(shí)施例的立體示意圖。圖;3B是圖3A另一視角的立體示意圖。圖4是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第三實(shí)施例的立體示意圖。圖5是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第四實(shí)施例的立體示意圖。
具體實(shí)施方式為讓本實(shí)用新型上述目的、特征及優(yōu)點(diǎn)更明顯易懂,下文特舉本實(shí)用新型較佳實(shí)施例,并配合附圖,作詳細(xì)說明。為讓本實(shí)用新型上述目的、特征及優(yōu)點(diǎn)更明顯易懂,下文特舉本實(shí)用新型較佳實(shí)施例,并配合附圖,作詳細(xì)說明如下。再者,本實(shí)用新型所提到的方向用語,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「側(cè)面」等,僅是參考附加圖式的方向。因此,使用的方向用語是用以說明及理解本實(shí)用新型,而非用以限制本實(shí)用新型。請參照圖1,圖1是本實(shí)用新型揭示的透明導(dǎo)電層的濺射靶材材料消耗的示意圖。 如圖1所示,在透明導(dǎo)電層的制作過程中主要的消耗材料是濺射靶材90,其包含二短邊91 及二長邊92。圖1以材料厚度的變化量曲線圖來表示一般濺射靶材90消耗的情況。其中, 材料消耗以A區(qū)域最多,其次是B區(qū)域,再其次是C區(qū)域,而D區(qū)域顯示沒有材料消耗。因此,由圖1得知,在透明導(dǎo)電層的制作過程中,一般而言,所述濺射靶材90靠兩短邊91的消耗較中間為多;另外,所述濺射靶材90靠兩二長邊92邊緣的消耗較中間為少。需要注意的是,雖然濺射靶材90靠兩短邊的消耗較中間為多,但在此部分的消耗又呈現(xiàn)出一種不規(guī)則的消耗分布,其約呈一外凸式的雙峰形的消耗情況。本實(shí)用新型針對背景技術(shù)中透明導(dǎo)電層的濺射靶材的實(shí)際消耗情況,提供以下濺射靶材厚度變化的實(shí)施例,以減少濺射靶材在使用過程中材料的浪費(fèi),從而節(jié)省透明導(dǎo)電層的制作成本。請參照圖2,圖2是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第一實(shí)施例的立體示意圖。本實(shí)用新型的第一實(shí)施例的濺射靶材構(gòu)造10約呈一長方形的片狀體,為了說明上的方便,將所述濺射靶材構(gòu)造10的二個(gè)較短的邊緣稱為短邊,二個(gè)較長的邊緣稱為長邊。如圖 2所示,所述濺射靶材構(gòu)造10包含一中央板狀部11及二短邊厚度變化端部12。另外,所述中央板狀部11及所述二短邊厚度變化端部12的上表面為同平面設(shè)置。如圖2所示,在本實(shí)施例中,由于所述濺射靶材構(gòu)造10的所述短邊厚度變化端部 12的消耗較中央板狀部11為多,因此將所述短邊厚度變化端部12設(shè)計(jì)的較厚;將所述中央板狀部11設(shè)計(jì)得較薄。通過所述短邊厚度變化端部12的設(shè)計(jì),可減少所述中央板狀部 11材料的浪費(fèi)。另外,如圖2所示,所述濺射靶材構(gòu)造10設(shè)于一固定鋼板20的上表面上, 所述固定鋼板20上表面的形狀與所述濺射靶材構(gòu)造10的底部形狀相對應(yīng)。優(yōu)選地,所述短邊厚度變化端部12的長度為所述濺射靶材構(gòu)造10長度的1/16至 1/8 ;所述短邊厚度變化端部12的厚度為所述中央板狀部11厚度的3/2至2倍。請參照圖3A及3B,圖3A是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第二實(shí)施例的立體示意圖;圖3B是圖3A另一視角的立體示意圖。本實(shí)用新型第二實(shí)施例的濺射靶材構(gòu)造 IOa與本實(shí)用新型第一實(shí)施例的濺射靶材構(gòu)造10的不同之處在于在本實(shí)施例中,所述濺射靶材構(gòu)造IOa在所述濺射靶材構(gòu)造IOa的寬度方向(較短的方向)的兩端的邊緣另設(shè)有二長邊厚度變化邊部13a。另外,所述中央板狀部Ila及所述二長邊厚度變化邊部13a的上表面為同平面設(shè)置。由于所述濺射靶材構(gòu)造IOa的所述長邊厚度變化邊部13a的消耗較中央板狀部 Ila為少,因此將所述長邊厚度變化邊部13a設(shè)計(jì)得較所述中央板狀部Ila薄。通過所述長邊厚度變化邊部13a的設(shè)計(jì),可減少所述濺射靶材構(gòu)造IOa在所述長邊厚度變化邊部13a 的材料的浪費(fèi)。優(yōu)選地,所述二長邊厚度變化邊部13a的寬度為所述濺射靶材構(gòu)造IOa寬度的 1/10至1/8 ;所述二長邊厚度變化邊部13a的厚度為所述中央板狀部Ila厚度的9/10至 8/10。在此實(shí)施例中,所述透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造包含一中央板狀部、二短邊厚度變化端部及二長邊厚度變化邊部。其中,所述短邊厚度變化端部的厚度大于所述中央板狀部的厚度;所述長邊厚度變化邊部的厚度小于所述中央板狀部的厚度;以及所述中央板狀部、所述二短邊厚度變化端部及所述二長邊厚度變化邊部的上表面為同平面設(shè)置。請參照圖4,圖4是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第三實(shí)施例的立體示意圖。本實(shí)用新型第三實(shí)施例的濺射靶材構(gòu)造IOb與本實(shí)用新型第一實(shí)施例的濺射靶材構(gòu)造 10的不同之處在于在本實(shí)施例中,所述短邊厚度變化端部12b具有一非平面狀的短邊端面。這里所指的所述非平面狀的短邊端面,是指在圖4中所述短邊厚度變化端部12b外側(cè)上非單一平面的垂直面。具體來說,所述非平面狀的短邊端面是呈外凸式的雙峰形端面。由于所述濺射靶材構(gòu)造IOb靠兩短邊的消耗較中間為多,但在此部分的消耗呈現(xiàn)出一種不規(guī)則的消耗分布,約呈一外凸式的雙峰形的消耗情況,在雙峰形之外沒有材料消耗的情形。因此,將所述短邊厚度變化端部12b設(shè)計(jì)成與材料沒有消耗處對應(yīng)的形狀,從而減少所述濺射靶材構(gòu)造IOb在兩端不必要的材料浪費(fèi)。另外,本實(shí)用新型第三實(shí)施例亦可與第二實(shí)施例合并為另一可能的實(shí)施例(未繪示)°請參照圖5,圖5是本實(shí)用新型透明導(dǎo)電層的濺射靶材的第四實(shí)施例的立體示意圖。本實(shí)用新型第四實(shí)施例的濺射靶材構(gòu)造IOc與本實(shí)用新型第一實(shí)施例的濺射靶材構(gòu)造 10的不同之處在于在本實(shí)施例中,所述短邊厚度變化端部12c具有的非平面狀的短邊端面為一鑿狀的端面,也就是兩角落具有切角的設(shè)計(jì),此處所謂的切角即是機(jī)械加工領(lǐng)域中的切角(chamfer),或稱為倒角,一般是在直角邊上形成一個(gè)45度的切邊。由于所述濺射靶材構(gòu)造IOc靠兩短邊的消耗呈一外凸式的雙峰形的消耗情況,但考慮到如圖4的第三實(shí)施例可能增加的加工成本,因此本實(shí)施例以另一種較為簡易的端面造型來達(dá)到相近的節(jié)省材料的效果。優(yōu)選地,所述呈鑿狀端面12c的切角寬度為所述濺射靶材構(gòu)造IOc寬度的1/3至 1/2。另外,本實(shí)用新型第三實(shí)施例亦可與第二實(shí)施例合并為另一可能的實(shí)施例(未繪示)°綜上所述,相較于現(xiàn)有技術(shù)中,由于一般的濺射靶材并未經(jīng)過特殊的形狀設(shè)計(jì),在整個(gè)ITO制作過程中各部分的使用率是不相同的。因此濺射靶材在使用時(shí)其兩端和邊緣的使用率較低,造成材料的浪費(fèi)。而ITO靶材的價(jià)格非常昂貴,這樣直接造成制作成本的浪費(fèi)。本實(shí)用新型的所述透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造10依據(jù)所述濺射靶材構(gòu)造10的實(shí)際的消耗情況,在不同的部位設(shè)計(jì)不同的厚度變化方案,以減少濺射靶材在使用過程中材料的浪費(fèi),從而節(jié)省透明導(dǎo)電層的制作成本。本實(shí)用新型已由上述相關(guān)實(shí)施例加以描述,然而上述實(shí)施例僅為實(shí)施本實(shí)用新型的范例。必需指出的是,已公開的實(shí)施例并未限制本實(shí)用新型的范圍。相反地,包含于權(quán)利要求書的精神及范圍的修改及均等設(shè)置均包括于本實(shí)用新型的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述濺射靶材構(gòu)造包含一中央板狀部、二短邊厚度變化端部及二長邊厚度變化邊部;其中所述短邊厚度變化端部的厚度大于所述中央板狀部的厚度;所述長邊厚度變化邊部的厚度小于所述中央板狀部的厚度;以及所述中央板狀部、所述二短邊厚度變化端部及所述二長邊厚度變化邊部的上表面為同平面設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述短邊厚度變化端部具有一非平面狀的短邊端面。
3.如權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述非平面狀的短邊端面是呈鑿狀的端面。
4.如權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述呈鑿狀端面在直角邊上形成45度的切邊的寬度為所述濺射靶材構(gòu)造寬度的1/3至1/2。
5.如權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述非平面狀的短邊端面是呈外凸式的雙峰形端面。
6.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述短邊厚度變化端部的長度為所述濺射靶材構(gòu)造長度的1/16至1/8。
7.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述短邊厚度變化端部的厚度為所述中央板狀部厚度的3/2至2倍。
8.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述二長邊厚度變化邊部的寬度為所述濺射靶材構(gòu)造寬度的1/10至1/8。
9.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述二長邊厚度變化邊部的厚度為所述中央板狀部厚度的9/10至8/10。
10.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,其特征在于所述濺射靶材構(gòu)造設(shè)于一固定鋼板的上表面上,所述固定鋼板上表面的形狀與所述濺射靶材構(gòu)造的底部形狀相對應(yīng)。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造,包含一中央板狀部、二短邊厚度變化端部及二長邊厚度變化邊部。其中所述短邊厚度變化端部的厚度大于所述中央板狀部的厚度;以及所述長邊厚度變化邊部的厚度小于所述中央板狀部的厚度。另外,所述短邊厚度變化端部具有一非平面狀的短邊端面。本實(shí)用新型的所述透明導(dǎo)電層的濺射靶材構(gòu)造依據(jù)材料實(shí)際的消耗情況,在不同的部位設(shè)計(jì)不同的厚度變化方案,以減少所述濺射靶材在使用過程中材料的浪費(fèi),從而節(jié)省透明導(dǎo)電層的制作成本。
文檔編號C23C14/34GK202322993SQ20112046214
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月21日
發(fā)明者陳林 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司
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