專利名稱：具有光學薄膜的管體的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種具有光學薄膜的管體的制造方法，其提供一種由內(nèi)而外逐步加工的程序，并且利用多種材料的不同膨脹、附著、熔化與脫離等物理特性，而將光學薄膜層設(shè)于外管層的內(nèi)壁面的制造方法。
背景技術(shù)：
物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition, PVD),是鍍制多層光學薄膜中最常使用的方法，若欲以物理氣相沉積法將多層光學薄膜設(shè)于玻璃管，則該多層光學薄膜僅能形成于玻璃管的外壁面。若將上述在外壁面設(shè)有多層光學薄膜的玻璃管應(yīng)用于外部光源，如可見光與紅外光，除了玻璃管的內(nèi)管壁有些微的重復反射外，其余影響不大。 但是對熒光燈(Fluorescent Lamp)而言，其是應(yīng)用內(nèi)部光源，光源由燈管中的汞蒸氣與無萊蒸氣，如IS氣、氣氣、氦氣、氪氣或氖氣的混合氣體，或是各種無萊蒸氣的混合氣體，經(jīng)由電場或磁場激發(fā)后所產(chǎn)生的紫外光源，其主要波長為184. 9nm與253. 7nm附近，無汞蒸氣經(jīng)激發(fā)后，產(chǎn)生波長主要為147nm與173nm的紫外光源，這些紫外光源須穿過玻璃管的管壁方能抵達位于外壁面的多層光學薄膜，若玻璃管是采用普通玻璃，汞蒸氣紫外光源的穿透耗損率則高達90至95%，波長為147nm與173nm的無汞蒸氣紫外光源，若穿過玻璃管的管壁時，紫外光源幾乎耗損殆盡。倘若，將玻璃管另行使用石英，雖波長約為253. 7nm的紫外光源可以通過石英，但波長為184. 9nm的紫外光源大部分會被耗損，假設(shè)使用品質(zhì)最佳的石英管，則波長約為184. 9nm的紫外光源可通過80至90%，但石英的價格非常昂貴，對于商品化極為不利。如上所述，設(shè)于外壁面的多層光學薄膜與使用石英具有以下缺點—、石英成本較高，在大量生產(chǎn)時較為不利。二、石英膨脹系數(shù)太低，其導致在封裝金屬導線時易漏氣，造成產(chǎn)品具有較短的使用壽命。三、若應(yīng)用于需要重復反射紫外光源的發(fā)光效果，則發(fā)光效果較差，因紫外光源每次都要穿過使用石英的管壁，方能抵達多層光學薄膜，在紫外光源由玻璃管的內(nèi)部至多層光學薄膜時，至少10%的紫外光源被吸收(Absorbed)，倘若，為重復反射紫外光源，而每次反射都須經(jīng)過管壁兩次，重復反射就導致更多的吸收，而使總耗損更大。綜合上述，石英具有成本較高、膨脹系數(shù)低與吸收低波長的紫外光源的缺點，以及多層光學薄膜的設(shè)置位置，其導致重復反射的總耗損更大，故多層光學薄膜的設(shè)置位置與玻璃管的材質(zhì)仍有改善的空間。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于上述的缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種具有光學薄膜的管體的制造方法，其通過一種逐層疊設(shè)的技術(shù)，并利用各材質(zhì)之間的厚度、熔點與膨脹系數(shù)的差異性，而使光學薄膜層位于外管體的內(nèi)壁面，從而使光學薄膜層得以直接重復反射紫外光源所產(chǎn)生的紫外光，并能改善現(xiàn)有技術(shù)所造成的紫外光的損耗、成本昂貴與產(chǎn)品壽命短的缺點。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于，其步驟包含設(shè)置光學薄膜層提供一中心體，并將一光學薄膜層設(shè)于該中心體的外壁面，該光學薄膜層以物理氣相沉積法設(shè)于該中心體的外壁面；以及設(shè)置外管層將一外管層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，并移除該中心體。在該設(shè)置光學薄膜層的步驟與該設(shè)置外管層的步驟之間，或在該提供中心體的步驟與該設(shè)置光學薄膜層的步驟之間，其進一步具有一設(shè)置定形層的步驟，其將一定形層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，或是將一定形層設(shè)于該中心體的外壁面。 該光學薄膜層具有寬入射角度，該寬入射角度為至少介于O度至90度之間的寬入射角度，以反射至少一特定波長的紫外光，并至少讓含有部分或是全部的可見光通過該外管層，該紫外光的主要波長為184. 9nm、253. 7nm、147nm或173nm，該可見光的波長為380至780nm或400至800nm,該光學薄膜層是一多層結(jié)構(gòu)。該光學薄膜層的材質(zhì)為氧化鎂、氧化鋁、氟化鎂、二氧化鋯、二氧化鉿或二氧化硅或上述六者之間的任意組合。該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可由兩個半圓形先組合為一圓形，以進行至該設(shè)置光學鍍膜的步驟，或是再進行該設(shè)置定形層的步驟，再將該中心體分開成為兩個部分，各部份是半圓形的直徑平面，以在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，將該光學薄膜層設(shè)置半圓形的中心體，或是再進行該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟；該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)；在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該中心體時，該中心體能為抽離，或者該中心體能為熔化；該外管層的材質(zhì)可以為玻璃、石英、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管層是透明；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行；鍍膜材料的純凈度為99%以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXlO-1)；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層184. 9nm以及253. 7nm的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體內(nèi)完成；該金屬靶材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氙化合物的二氟化氙氣體。該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可由兩個半圓形先組合為一圓形，以進行至該設(shè)置光學鍍膜的步驟，或是再進行該設(shè)置定形層的步驟，再將該中心體分開成為兩個部分，各部份是半圓形的直徑平面，以在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，將該光學薄膜層設(shè)置半圓形的中心體，或是再進行該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟；該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)；該定形層的材質(zhì)為透明的材質(zhì)或介電質(zhì)材質(zhì)，該透明的材質(zhì)能夠為玻璃、耐熱玻璃或陶瓷；在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該中心體時，該中心體能為抽離，或者該中心體能為熔化；該外管層的材質(zhì)能夠為玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管 層是透明；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度，或是該定形層與該光學薄膜層的總抗拉強度或總抗折強度大于或等于該中心體的抗壓強度；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行；鍍膜材料的純凈度為99%以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXlO-1)；該金屬IE材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氣化合物的二氟化氣氣體。該中心體的多邊形能夠為圓形、半圓形、橢圓形、長橢圓形、梯形、三角形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形或矩形，該中心體的低熔點材質(zhì)是錫、鉍、銫、鎵、銦、鉀、鋰、錳、鈉、鉛、銣、銻、硒、鍶、碲、鉈或鋅的其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者組合的合金。該定形層的材質(zhì)為介電質(zhì)材質(zhì)，該介電質(zhì)材質(zhì)能夠為氧化鋁、氧化鎂、氟化鎂、氧化鋯、氮化鋁或是二氧化硅。該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層是184. 9nm以及253. 7nm的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體內(nèi)完成。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案還包括一種具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于，其步驟包含有設(shè)置脫膜層提供一中心體，并將一脫膜層設(shè)于該中心體的外壁面；設(shè)置光學薄膜層將一光學薄膜層設(shè)于該脫膜層的外壁面，該光學薄膜層是以一物理氣相沉積法設(shè)于該脫膜層的外壁面；以及設(shè)置外管層將一外管層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，并移除該中心體與該脫膜層。在該設(shè)置光學薄膜層的步驟與該設(shè)置外管層的步驟之間，或是在該設(shè)置脫膜層的步驟與該設(shè)置光學薄膜層的步驟之間，其進一步具有一設(shè)置定形層步驟，其是將一定形層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，或是將一定形層設(shè)于該脫膜層的外壁面。
該光學薄膜層具有寬入射角度，該寬入射角度為至少介于含有O度至90度之間的寬入射角度，以反射至少一特定波長的紫外光，并至少讓含有部分或是全部的可見光通過該外管層，該紫外光的平均反射幅度(Average Reflection Magnitude)為80%以上或是為95%以上或是為99. 5%以上，該紫外光的主要波長為184. 9nm、253. 7nm、147nm或173nm，該可見光的波長為380至780nm或400至800nm，該光學薄膜層是一多層結(jié)構(gòu)；該光學薄膜層的材質(zhì)為氧化鎂、氧化鋁、氟化鎂、二氧化鋯、二氧化鉿或是二氧化硅的組合。
該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可兩個半圓形中心體先分開，進行半圓形體全部外壁面脫膜層的設(shè)置，然后合為一個圓形的中心體再進行設(shè)置光學薄膜層的步驟，之后也可再設(shè)置定形層的步驟，再將中心體分開成為兩個部分，以在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，將該光學薄膜層設(shè)置半圓形其直徑平面的中心體，之后也可再加入該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟，設(shè)置半圓形直徑平面的原因，是為可進行只設(shè)置平面的熒光層，其發(fā)光效果較佳；該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)；該脫膜層的斷面可為該中心體斷面的管體形狀或是多邊形管體形狀，該脫膜層是低熔點材質(zhì)，該低熔點材質(zhì)能夠為塑膠、可剝離油墨層、可溶解油墨層、硅膠或乳膠類化合物、或低熔點金屬的其中一者；在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該脫膜層與該中心體時，該脫膜層能為熔化，以及該中心體能為抽離，或者該脫膜層與該中心體能為熔化；該外管層的材質(zhì)能夠為玻璃、石英、玻璃與、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管層是透明；在該設(shè)置脫膜層的步驟中，該中心體具有一光學級平坦化的外壁面，或者該脫膜層具有一光學級平坦化的外壁面；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度，或是該中心體與該脫膜層的總抗壓強度，小于或等于該光學薄膜層的總抗拉強度或總抗折強度；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行；鍍膜材料的純凈度為99%以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXlO-1)；該金屬靶材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氙化合物的二氟化氙氣體。該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可兩個半圓形中心體先分開，進行半圓形體全部外壁面脫膜層的設(shè)置，然后合為一個圓形的中心體再進行設(shè)置光學薄膜層的步驟，之后也可再設(shè)置定形層的步驟，再將中心體分開成為兩個部分，各部份為半圓形且直徑平面，以在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，將該光學薄膜層設(shè)置半圓形的中心體，之后也可再加入該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟；該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)；該脫膜層的斷面可為該中心體斷面的管體形狀或是多邊形管體形狀，該脫膜層是低熔點材質(zhì)，該低熔點材質(zhì)能夠為塑膠、可剝離油墨層、可溶解油墨層、硅膠或乳膠類化合物、或低熔點金屬的其中一者；該定形層的材質(zhì)為透明的材質(zhì)或介電質(zhì)材質(zhì)，該透明的材質(zhì)能夠為玻璃、耐熱玻 璃、陶瓷；在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該脫膜層與該中心體時，該脫膜層能為熔化，以及該中心體能為抽離，或者該脫膜層與該中心體能為熔化；該外管層的材質(zhì)能夠為玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管層是透明；在該設(shè)置脫膜層的步驟中，該中心體具有一光學級平坦化的外壁面，或者該脫膜層具有一光學級平坦化的外壁面；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度，或是該中心體與該脫膜層的總抗壓強度，小于或等于該光學薄膜層與該定形層的總抗拉強度或總抗折強度，或是該定形層與該光學薄膜層的總抗拉強度或總抗折強度，大于或等于該中心體的抗壓強度，或是大于或等于該中心體與該脫膜層的總抗壓強度；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行；鍍膜材料的純凈度為99%以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXlO-1)；該金屬IE材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氣化合物的二氟化氣氣體。該中心體的多邊形能夠為圓形、半圓形、橢圓形、長橢圓形、梯形、三角形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形或矩形，該中心體的低熔點材質(zhì)是錫、鉍、銫、鎵、銦、鉀、鋰、錳、鈉、鉛、銣、銻、硒、鍶、碲、鉈或鋅的其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者組合的合金；若該脫膜層的材質(zhì)為低熔點金屬，該低熔點金屬是錫、鉍、銫、鎵、銦、鉀、鋰、錳、鈉、鉛、銣、銻、硒、銀、締、銘或鋅其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者的組合的合金。該定形層的材質(zhì)為介電質(zhì)材質(zhì)，該介電質(zhì)材質(zhì)能夠為氧化鋁、氧化鎂、氟化鎂、氧化鋯、氮化鋁或是二氧化硅。該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層是184. 9nm以及253. 7nm的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體內(nèi)完成。綜合上述的本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法，其具有下述的優(yōu)點一、利用由內(nèi)向外逐步加工程序，而將光學薄膜層設(shè)于外管層的內(nèi)壁面處，若設(shè)于外管層內(nèi)部空間的紫外光源因激發(fā)而產(chǎn)生紫外光時，該紫外光則直接照射至光學薄膜層，并可直經(jīng)經(jīng)由光學薄膜層反射，以降低重復反射所導致管壁吸收的損耗率。
二、利用多種材質(zhì)之間的熔點溫度與厚度，各材料各自具有其抗張強度、抗折強度、膨脹系數(shù)與抗壓強度，憑借抗張強度、膨脹系數(shù)與抗壓強度的差異性，以克服熔化的脫膜層或脫膜層與中心體，其體積會突然變大造成位于外層的光學薄膜層、定形層或外管體破裂的問題。三、使用的多種膨脹系數(shù)趨近的材料，故能克服材料之間的膨脹系數(shù)的不同，進而以避免封著金屬線時的漏氣問題，并能延長產(chǎn)品壽命。四、使用多種材料以因應(yīng)實際的需求，故能對商品化有其實用性，況且多種材料的選擇性可降低制造成本，而使其有利于大量生產(chǎn)。五、本發(fā)明的構(gòu)思是將外管層以及定形層的厚度與折射率必須要納入為光學薄膜設(shè)計的條件，以免光學薄膜層的功能及效果受到影響，這是構(gòu)想本設(shè)計的基本出發(fā)點。


·圖I是本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法的第一實施例的流程圖；圖2是本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的第一實施例的剖面示意圖；圖3是本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法的第二實施例的流程圖；圖4是本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的第二實施例的剖面示意圖；圖5是本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法的第三實施例的流程圖；圖6是本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的第三實施例的剖面示意圖。附圖標記說明10 13-步驟；20_中心體；21_脫膜層；22_光學薄膜層；23_定形層；24_外管層；30 32-步驟；40_中心體；41_光學薄膜層；42_定形層；43_外管層；50 51-步驟；60_中心體；61_光學薄膜層；62_外管層。
具體實施例方式以下憑借特定的具體實施例說明本發(fā)明的具體實施方式
，所屬技術(shù)領(lǐng)域中普通技術(shù)人員可由本說明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點與功效。請配合圖I及圖2所示，其為本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法的第一實施例的管體剖面于各步驟中的示意圖，本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法的步驟包含有設(shè)置脫膜層的步驟10 :提供一中心體20，將一脫膜層21設(shè)于中心體20的外壁面；中心體20是長條體、柱體或管體，中心體20的斷面可為多邊形，該多邊形能夠為圓形、半圓形、橢圓形、長橢圓形、梯形、三角形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形或矩形等，半圓形也可由兩個半圓形先組合為一圓形，若中心體20無上述的設(shè)置脫膜層的步驟10，則上述兩個半圓形中心體20可先進行下述光學薄膜層的步驟11，之后也可再加入下述設(shè)置定形層的步驟12，再將中心體20分開成為兩個部分，該部份是一半圓形的直徑平面，故以提供二半圓形其直徑平面的中心體20于設(shè)置光學薄膜層的步驟11以及其后的步驟；倘若，具有上述設(shè)置脫膜層的步驟10，則上述兩個半圓形中心體20可先分開的進行半圓形體全部外壁面脫膜層21的設(shè)置，然后合為一個圓形的中心體再進行下述的設(shè)置光學薄膜層的步驟11，之后也可再設(shè)置定形層的步驟12，再將中心體20分開成為兩個部分，以進行光學薄膜層的步驟11，而將光學薄膜層22設(shè)置半圓形其直徑平面的中心體20，以及之后也可再加入下述設(shè)置定形層的步驟12，然后，以進行設(shè)置下述設(shè)置外管層的步驟13 ；中心體20的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混復合物或塑膠，塑膠可為聚對苯二甲酸乙二酯 PET (Polyethylene terephthalate)、聚乙烯 PE (Polyethylene)、高密度聚乙烯 HDPE(High-density polyethylene)、中密度聚乙烯 MDPE(Medium densitypolyethylene)、低密度聚乙烯 LDPE(Low-density polyethylene)、聚氯乙烯PVC(Polyvinyl chloride)、聚丙烯 PP(Polypropylene)、聚苯乙烯 PS(Polystyrene)、聚甲基丙烯酸甲酯 Acrylic (Polymethyl methacrylate)、ABS 樹脂(AerylonitriIe butadienestyrene)、玻璃纖維(Fiberglass)、尼龍(Nylon)、聚碳酸酯 PC (Polycarbonate)或聚乳酸PLA (Polylactic acid)等；
或者中心體20的材質(zhì)是低熔點材質(zhì)如錫(Tin)、秘(Bi)、銫(Cs)、鎵(Ga)、銦(In)、鉀⑷、鋰(Li)、錳(Mg)、鈉(Na)、鉛(Pb)、銣(Rb)、銻(Sb)、硒(Se)、鍶(Sr)、碲(Te)、韋它(Tl)或鋅(Zn)其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者組合的合金；該中心體20若是使用塑膠材料以塑膠射出成型的方式，同時具有光學級平坦化的外壁面且容易溶化，此時，脫膜層21是無需設(shè)置，而設(shè)置脫膜層的步驟10也可省略；中心體20設(shè)置的目的，是供脫膜層21與隨后所述的各層結(jié)構(gòu)疊設(shè)于其外壁面，所以中心體20的強度要足以在整個制造過程中承擔多層結(jié)構(gòu)，而不至于產(chǎn)生彎曲變形。脫膜層21的斷面可為如上述中心體20斷面的各種管體形狀或是多邊形管體形狀，脫膜層21是低熔點材質(zhì)，該低熔點材質(zhì)可以為金屬錫(Tin)、鉍(Bi)、銫(Cs)、鎵(Ga)、銦(In)、鉀(K)、鋰(Li)、錳(Mg)、鈉(Na)、鉛(Pb)、銣(Rb)、銻(Sb)、硒(Se)、鍶(Sr)、碲(Te)、銘(Tl)或鋅(Zn)其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者的組合的合金,或是前述各類塑膠材料或前述的塑膠材料的復合物，或是使用容易剝落的可剝離油墨層(Peelable MaskInk)、或是容易溶解的可溶解油墨層(Soluble Mask Ink)或離型脫膜的硅膠、乳膠類化合物等；其中，金屬鎵Ga (Gal I ium)具有如同水凝固為冰時固體體積變大的特性，換句話說當鎵由固體溶化為液體時其體積會變小，因此不會將光學薄膜層脹破，但其溶點比較低，為29. 8°C，因此加工過程應(yīng)在低溫為之，加工過后再升溫即可溶化鎵中心體，而鎵中心體宜以容易溶解的可溶解油墨層(Soluble Mask Ink)涂布于其外壁，以利脫離此附著力很強的鎵液體，溶化的鎵原料可以回收再使用，合乎環(huán)保要求。脫膜層21可進一步施行光學級平坦化的拋光作業(yè)，以使脫膜層21的外壁面平整化，脫膜層21若是使用塑膠材料，也可以塑膠射出成型的方式包敷在中心體20的外壁上，同時具有光學級平坦化的外壁面，以利于在其上面進行光學鍍膜。脫模層21使中心體20與光學薄膜層22之間產(chǎn)生距離，而使中心體20與光學薄膜層22之間可相互分離，若中心體20為可熔化的材質(zhì)，其熔點比較低可事先澆灌成型，則脫膜層21可無需設(shè)置，或是脫膜層21如前述以容易溶解的可溶解油墨層涂布于其外壁以利脫膜。該中心體20或是脫膜層21能進一步施行拋光作業(yè)，以使其外壁面平整化最佳為達到光學級的外壁面，以利于在其上面進行光學鍍膜，于隨后的實施例中會再加以說明。
設(shè)置光學薄膜層的步驟11 :將一光學薄膜層22以沉積法鍍制于脫膜層21的外壁面，該沉積法是物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition, PVD),該光學薄膜層22可為寬入射角AOI (Wide Angle Of Incidence)反射(Reflection)紫外光,該寬入射角為至少0度至30度以上，最高甚至于到達90度((0° 30° ) 90° )的寬入射角度來反射紫外光，最佳為全角度(0° 90° )含0°以及90°反射紫外光，其反射至少一特定波長的紫外光，并至少讓含有部分或是全部的可見光通過，紫外光的主要波長為約為147nm、173nm、184. 9nm 或 253. 7nm,可見光的波長為 380nm 至 780nm 或 400nm 至 800nm。光學薄膜層22是介電質(zhì)(Dielectric Materials)多層薄膜結(jié)構(gòu)，以萊(Mercury)Hg蒸氣全角度(0° 90° )反射為例，含0°以上至90°反射紫外光，反射至少一特定波長的紫外光，如 184. 9nm(±2. 5nm)0° 90。反射或 253. 7nm(±2. 5nm)0° 90。反射，并至少讓含有部分或是全部的可見光通過，其中上述184. 9nm的膜可以氧化鎂(MagnesiumOxide) MgO 或是氧化招 A1203 (Aluminum Oxide)與氟化續(xù)(Magnesium Fluoride) MgF2 或是二氧化娃(Silicon Dioxide) Si02交替鍍制而成。至于253. 7nm的膜,貝U可以二氧化錯(Zirconium Dioxide) Zr02 或是二氧化給(Hafnium Dioxide) Hf02 與氟化續(xù)MgF2 或是二氧 化娃(Silicon Dioxide) Si02交替鍍制而成,或是使用上述鍍膜材料的組合鍍制，當然也可只用兩種鍍膜材料來一次完成184. 9nm或253. Ixm兩個膜。其中所使用的鍍膜材料如氧化鎂、氧化鋁、氟化鎂、二氧化鋯、二氧化鉿或二氧化硅的純凈度需要高達99%以上或是鍍膜材料的消光系數(shù)k小于0. I (I X IO-1)，較佳的純凈度可高達99. 99%以上或是鍍膜材料的消光系數(shù)k小于0. 01 (I X 10_2)，最佳的純凈度高達99. 999%以上或是鍍膜材料的消光系數(shù)k小于0. 00K1X ο-3)。鍍膜材料也可以使用其它材料，不限于以上所列。在此的鍍膜方式是以管體自轉(zhuǎn)并且移動進行公轉(zhuǎn)而將鍍膜材料鍍在管體或柱體的外壁，前述的管體或柱體，即為中心體，所述外壁可為中心體的外壁面或脫膜層的外壁面。鍍膜材料的純凈度，其中以99 %以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. Ixm時小于0. I (I X ΙΟ—1)，較佳純凈度99. 99%以上或是鍍膜材料的消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于0. 01 (I X 10_2)，或是純凈度高達99. 999%以上或是鍍膜材料的消光系數(shù)k在184. 9nm或253. Ixm時小于0. 001 (I X 1(Γ3)的金屬靶材鎂Mg、鉿Hf金屬或是鋯Zr金屬，以反應(yīng)派鍍(Metallic Target Reactive Sputtering Coating)的方式較佳，反應(yīng)派鍍是以惰性氣體(Inert Gas),通常是使用IS氣Ar (Argon),在真空以及高電壓的磁場環(huán)境下,將金屬靶材的原子一個個撞擊到基板或是管體或柱體的外壁，濺鍍時為室溫以及使用射頻磁控(RF Magnetron),并且使用較佳純凈度(99. 999%以上)的反應(yīng)氣體(Reactive Gas),該氣體將濺出至管壁外的金屬鎂Mg等予以氧化或氟化而成為介電質(zhì)膜層，如氧氣反應(yīng)成氧化鎂MgO、氟氣或是氟氙化合物的二氟化氙XeF2 (Xenon Difluoride)反應(yīng)成氟化鎂MgF2或Xe氣體，再加上配合鋯金屬靶材或是鉿金屬靶材濺鍍后，被氧氣反應(yīng)成二氧化鋯或是二氧化鉿，或是氧氣將硅靶材反應(yīng)成二氧化硅，如此重復不同的交替堆疊，最后而成為高低折射率介電質(zhì)交替堆疊而成的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體(Chamber)內(nèi)完成。設(shè)置定形層的步驟12 :其是將一透明的定形層23設(shè)于光學薄膜23的外壁面，當然也可以設(shè)在內(nèi)壁面也就是中心體20或是脫膜層21的外壁面，不過使用的鍍膜材料的消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時必須符合前述的條件，如氧化鎂、氧化鋁、二氧化鋯、氟化鎂或二氧化硅等，在此僅以設(shè)于光學薄膜23的外壁面為例說明，其他的例乃熟悉此技藝者所可輕易推的就不再贅述。定形層23的材質(zhì)為透明的材質(zhì)如玻璃、耐熱玻璃、陶瓷或其他介電質(zhì)(Dielectric Materials)材質(zhì),如氧化物、氮化物、氟化物等種類非常的多，都可以使用并不在限制之內(nèi)，但是因為透明的定形層23需要具有一定的厚度所以使用量會比較多，價格便宜并且其膨脹系數(shù)也要與外管層24相近就成為考慮的重點，其中膨脹系數(shù)如氧化鋁約為 8 X 10-6/°C、氧化鋯 10 X 10-6/°C、氮化鋁 4. 4X 10-6/°C 或是二氧化硅 O. 5 X 10-6/°C等，可搭配利用其厚度、強度與價格的考慮，分別適用于不同膨脹系數(shù)如5X10-6/°C、9X10-6/°C的硬質(zhì)玻璃或是軟質(zhì)玻璃。在此附帶說明一般關(guān)于玻璃管管壁的厚度，T8熒光燈或稱T8日光燈其玻璃燈管管壁的厚度約為O. 7mm,換成以納米單位計算約為700，OOOnm,比較一般多層光學薄膜的厚度約為500nm 2，OOOnm之間，2，OOOnm 700，OOOnm是2 700的比例，相對的光學薄膜 的厚度是很薄弱的，若是沒有一個基板或是管壁的支撐，是很容易破裂的。定形層23的厚度，視其膨脹系數(shù)與機械強度，是否大于中心體20與脫膜層21所使用材質(zhì)的膨脹系數(shù)與機械強度而定。如果搭配得宜膨脹系數(shù)相差在5%以內(nèi)，則定形層23的厚度可以在200nm 500nm之間，并且可以在設(shè)置光學薄膜層的步驟時為之。設(shè)置外管層的步驟13 :將一外管層24設(shè)于定形層23的外壁面，外管層24的材質(zhì)可以為玻璃、石英、透明陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，外管層24可以低溫鍍膜的方式或是高溫鍍膜的方式為之但是成本比較高，較為可行的方法是用高溫高壓噴濺已經(jīng)溶化的外管材料的液體，均勻的噴涂在管體的外壁，或是在已經(jīng)溶化的外管材料的高溫玻璃液體中用浸沾(Dipping)的方式為之，以形成厚度均勻并且薄管壁的外管層24，設(shè)置外管層的步驟與脫膜的步驟可以分開進行或是同時進行；如上的各步驟所述，脫膜層21所使用的材質(zhì)的熔點低于外管層24所使用的材質(zhì)的熔點，若將外管層24設(shè)于定形層23的外壁面，脫膜層21受到脫膜時高溫的影響而熔化，進而可將中心體20由已成多層結(jié)構(gòu)的光學薄膜層22、定形層23與外管層24的組合中抽離，而使該多層結(jié)構(gòu)形成一中空體；中心體20與脫膜層21所使用的材質(zhì)的熔點都低于外管層24所使用的材質(zhì)的熔點，故受到高溫的影響，二者都熔化，中心體20與脫膜層22都抽離，而使該多層結(jié)構(gòu)形成一中空管體，這種中心體20與脫膜層22都熔化的做法在于需要調(diào)整如上述膨脹系數(shù)配合時的應(yīng)用，舉例而言，一個很安定的脫膜層22但是其膨脹系數(shù)比較高，但是配合上另一個低膨脹系數(shù)的中心體20之后就完美了，不過如果這個中心體20的熔點不高就會一起熔化，這樣子對于在生產(chǎn)過程中也免除了取出中心體20的麻煩，這種做法也適用于其他的實施例，就不再贅述。另外，在此特別說明的是上述的材質(zhì)在熔化過程中，不應(yīng)產(chǎn)生化學變化，例如高溫氧化時產(chǎn)生碳化物或是硫化物的附著物等，這將不易去除并會造成污染。請再配合圖I所示，其是使用上述的具有光學薄膜的管體制造方法所得產(chǎn)品，該具有光學薄膜的管體包含有一光學薄膜層22、一定形層23與一外管層24。定形層23設(shè)于光學薄膜層22的外壁面，光學薄膜層22是一多層結(jié)構(gòu)，外管層24設(shè)于定形層22的外壁面。
定形層23的設(shè)置是避免光學薄膜層22于前述的脫膜層21熔化與中心體20抽離，或者脫膜層21與中心體20熔化時，因為在高溫脫膜時由固體軟化時會經(jīng)過應(yīng)變點其體積的突然變化，一般情形是體積突然變大，因而對脆弱的光學薄膜層22脹裂或拉扯，對光學薄膜層22的功能就產(chǎn)生相當程度不良的影響，故定形層23能維持光學薄膜層22的形狀，以避免光學薄膜層22發(fā)生變形或損壞，但定形層23并非絕對必要設(shè)置的構(gòu)件，若光學薄膜層22的厚度具有一定機械結(jié)構(gòu)力的抗拉強度以及抗折強度，或是中心體20斷面的厚度與中心體20膨脹系數(shù)的乘積所形成的抗壓強度，小于或等于光學薄膜層22的厚度與光學薄膜層22膨脹系數(shù)的乘積，或是中心體20斷面的厚度與中心體20膨脹系數(shù)的乘積，加上脫膜層21的厚度與脫膜層21膨脹系數(shù)的乘積所形成的總合膨脹系數(shù)，小于或等于光學薄膜層22的厚度與膨脹系數(shù)的乘積，則定形層23可于制造方法中省略。
同樣道理，在高溫脫膜時若上述的條件不能滿足則定形層23需要考慮安裝，尤其是在中心體20由固態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)的應(yīng)變點溫度附近時，其中定形層23斷面厚度的抗拉強度或抗折強度，應(yīng)該大于等于中心體20斷面的厚度與中心體20膨脹系數(shù)的乘積所形成的抗壓強度，或是定形層23斷面的厚度的抗拉強度或抗折強度，應(yīng)該大于或等于中心體20斷面的厚度與中心體20膨脹系數(shù)的乘積所形成的抗壓強度，以及脫膜層斷面21的厚度與脫膜層21斷面膨脹系數(shù)的乘積的總合膨脹系數(shù)所形成的抗壓強度。請配合考圖3及圖4所示，其為本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法的第二實施例，其步驟包含有設(shè)置光學薄膜層的步驟30 :將光學薄膜層41設(shè)于中心體40的外壁面。設(shè)置定形層的步驟31 :其是將定形層42設(shè)于光學薄膜層41的外壁面。設(shè)置外管層的步驟32 :將一外管層43設(shè)于定形層42的外壁面，如本發(fā)明的制造方法的第一實施例所述，中心體40遇高溫時會產(chǎn)生有熔化的情況，或者可將中心體40抽離，而使光學薄膜層41、定形層42與外管層43的多層組合構(gòu)成一中空體。請配合參考圖5及圖6所示，其為本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法的第三實施例，其步驟包含有設(shè)置光學薄膜層的步驟50 :將光學薄膜層61設(shè)于中心體60的外壁面。設(shè)置外管層的步驟51 :將一外管層62設(shè)于光學薄膜層61的外壁面，中心體60遇高溫時會產(chǎn)生熔化的情況，或者可將中心體60抽離，而使光學薄膜層61與外管層62的多層組合構(gòu)成一中空體。綜合上述的本發(fā)明的具有光學薄膜的管體的制造方法及其制品，其利用由內(nèi)向外逐步加工程序，而將光學薄膜層設(shè)于外管層的內(nèi)壁面，若設(shè)于外管層中的紫外光源因激發(fā)而產(chǎn)生紫外光時，該紫外光則直接照射至光學薄膜層，并可直經(jīng)經(jīng)由光學薄膜層反射，以降低重復反射所導致的損耗率，燈管的發(fā)光效率得以提高，對于節(jié)省能源以及降低碳排放提供了供獻。再者，本發(fā)明所提供的制造方法，其使具有光學薄膜的管體于制造上更為便利，而且能使用多種材料以因應(yīng)實際的需求，故能對商品化有其實用性，況且多種材料的選擇性可降低制造成本，而使其有利于大量生產(chǎn)。再一，本發(fā)明是應(yīng)用多種材料，故能克服材料之間的膨脹系數(shù)的不同，進而以避免封著金屬線時的漏氣問題，并能延長產(chǎn)品壽命。
再二，可見光層可針對多種需求，而改變可見光層與光學薄膜層的設(shè)置區(qū)域的配置，可見光層可經(jīng)紫外光激發(fā)為紅、綠、藍或白光，或者經(jīng)藍光激發(fā)為紅、綠或黃光。再三，本發(fā)明是利用多種材質(zhì)之間的熔點溫度與厚度，而造成本發(fā)明的多層結(jié)構(gòu)之間的差異性，以使中心體或中心體與脫膜層得以抽離或熔化，而達到脫膜的效果。再四，多種材料的選擇，其是利用各材料之間具有相近的膨脹系數(shù)，以便于于加工程序中不因溫度的變化而導致破裂。再五，各材料之間因厚度的不同，而使其各自具有其抗張強度與抗壓強度，憑借抗張強度與抗壓強度的差異性，以克服熔化的脫膜層或脫膜層與中心體，其體積會突然變大造成位于外層的光學薄膜層、定形層或外管體破裂的問題。以上說明對本發(fā)明而言只是說明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解，在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可作出許多修改、變化或等效，但都將落·入本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于，其步驟包含 設(shè)置光學薄膜層提供一中心體，并將一光學薄膜層設(shè)于該中心體的外壁面，該光學薄膜層以物理氣相沉積法設(shè)于該中心體的外壁面；以及 設(shè)置外管層將一外管層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，并移除該中心體。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于在該設(shè)置光學薄膜層的步驟與該設(shè)置外管層的步驟之間，或在該提供中心體的步驟與該設(shè)置光學薄膜層的步驟之間，其進一步具有一設(shè)置定形層的步驟，其將一定形層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，或是將一定形層設(shè)于該中心體的外壁面。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該光學薄膜層具有寬入射角度，該寬入射角度為至少介于O度至90度之間的寬入射角度，以反射至少一特定波長的紫外光，并至少讓含有部分或是全部的可見光通過該外管層，該紫外光的主要波長為184. 9nm、253. 7nm、147nm或173nm，該可見光的波長為380至780nm或400至800nm,該光學薄膜層是一多層結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該光學薄膜層的材質(zhì)為氧化鎂、氧化鋁、氟化鎂、二氧化鋯、二氧化鉿或二氧化硅或上述六者之間的任意組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可由兩個半圓形先組合為一圓形，以進行至該設(shè)置光學鍍膜的步驟，或是再加入進行該設(shè)置定形層的步驟，再將該中心體分開成為兩個部分，各部份半圓形的直徑平面，以在設(shè)置光學薄膜層的步驟，將該光學薄膜層設(shè)置于半圓形中心體的外壁面，或是再加入進行該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟； 該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)； 在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該中心體時，該中心體能為抽離，或者該中心體能為熔化； 該外管層的材質(zhì)可以為玻璃、石英、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管層是透明； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行； 鍍膜材料的純凈度為99%以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXlO-1)； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該紫外光的平均反射幅度為80%以上或是為95%以上或是為99. 5%以上； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層是184. 9nm以及253. 7nm的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體內(nèi)完成； 該金屬IE材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氣化合物的二氟化氣氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可由兩個半圓形先組合為一圓形，以進行至該設(shè)置光學鍍膜的步驟，或是再加入進行該設(shè)置定形層的步驟，再將該中心體分開成為兩個部分，各部份是半圓形的直徑平面，以在設(shè)置光學薄膜層的步驟中，將該光學薄膜層設(shè)置于半圓形中心體的外壁面，或是再加入進行該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟； 該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)； 該定形層的材質(zhì)為透明的材質(zhì)或介電質(zhì)材質(zhì)，該透明的材質(zhì)能夠為玻璃、耐熱玻璃或陶瓷； 在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該中心體時，該中心體能為抽離，或者該中心體能為熔化； 該外管層的材質(zhì)能夠為玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管層是透明； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度，或是該定形層與該光學薄膜層的總抗拉強度或總抗折強度大于或等于該中心體的抗壓強度； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行； 鍍膜材料的純凈度為99%以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXlO-1)； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該紫外光的平均反射幅度為80%以上或是為95%以上或是為99. 5%以上； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層是184. 9nm以及253. 7nm的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體內(nèi)完成； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該外管層以及該定形層的厚度與折射率必須要納入為該光學薄膜設(shè)計的條件； 該金屬IE材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氣化合物的二氟化氣氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該中心體的多邊形能夠為圓形、半圓形、橢圓形、長橢圓形、梯形、三角形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形或矩形，該中心體的低熔點材質(zhì)是錫、鉍、銫、鎵、銦、鉀、鋰、錳、鈉、鉛、銣、鋪、硒、銀、締、銘或鋅的其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者組合的合金。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該定形層的材質(zhì)為介電質(zhì)材質(zhì)，該介電質(zhì)材質(zhì)能夠為氧化鋁、氧化鎂、氟化鎂、二氧化鋯、氮化鋁或是二氧化硅。
9.一種具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于，其步驟包含有 設(shè)置脫膜層提供一中心體，并將一脫膜層設(shè)于該中心體的外壁面； 設(shè)置光學薄膜層將一光學薄膜層設(shè)于該脫膜層的外壁面，該光學薄膜層是以一物理氣相沉積法設(shè)于該脫膜層的外壁面；以及 設(shè)置外管層將一外管層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，并移除該中心體與該脫膜層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于在該設(shè)置光學薄膜層的步驟與該設(shè)置外管層的步驟之間，或是在該設(shè)置脫膜層的步驟與該設(shè)置光學薄膜層的步驟之間，其進一步具有一設(shè)置定形層步驟，其是將一定形層設(shè)于該光學薄膜層的外壁面，或是將一定形層設(shè)于該脫膜層的外壁面。
11.根 據(jù)權(quán)利要求9所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該光學薄膜層具有寬入射角度，該寬入射角度為至少介于O度至90度之間的寬入射角度，以反射至少一特定波長的紫外光，并至少讓含有部分或是全部的可見光通過該外管層，該紫外光的主要波長為184. 9nm、253. 7nm、147nm或173nm，該可見光的波長為380至780nm或400至800nm,該光學薄膜層是一多層結(jié)構(gòu)； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該紫外光的平均反射幅度為80%以上或是為95%以上或是為99. 5%以上；
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該光學薄膜層的材質(zhì)為氧化鎂、氧化鋁、氟化鎂、二氧化鋯、二氧化鉿或是二氧化硅的組合。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可兩個半圓形中心體先分開，進行半圓形體全部外壁面脫膜層的設(shè)置，然后合為一個圓形的中心體再進行設(shè)置光學薄膜層的步驟，之后也可再設(shè)置定形層的步驟，再將中心體分開成為兩個部分，以在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，將該光學薄膜層設(shè)置半圓形其直徑平面的中心體，之后也可再加入該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟； 該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)； 該脫膜層的斷面可為該中心體斷面的管體形狀或是多邊形管體形狀，該脫膜層是低熔點材質(zhì)，該低熔點材質(zhì)能夠為塑膠、可剝離油墨層、可溶解油墨層、硅膠或乳膠類化合物、或低熔點金屬的其中一者； 在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該脫膜層與該中心體時，該脫膜層能為熔化，以及該中心體能為抽離，或者該脫膜層與該中心體能為熔化； 該外管層的材質(zhì)能夠為玻璃、石英、玻璃與、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管層是透明； 在該設(shè)置脫膜層的步驟中，該中心體具有一光學級平坦化的外壁面，或者該脫膜層具有一光學級平坦化的外壁面； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度，或是該中心體與該脫膜層的總抗壓強度，小于或等于該光學薄膜層的總抗拉強度或總抗折強度； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行； 鍍膜材料的純凈度為99 %以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXio-1)； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該紫外光的平均反射幅度為80%以上或是為95%以上或是為99. 5%以上； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層是184. 9nm以及253. 7nm的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體內(nèi)完成； 該金屬IE材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氣化合物的二氟化氣氣體。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該中心體是長條體、柱體或管體，該中心體的斷面可為多邊形，若該中心體為半圓形也可兩個半圓形中心體先分開，進行半圓形體全部外壁面脫膜層的設(shè)置，然后合為一個圓形的中心體再進行設(shè)置光學薄膜層的步驟，之后也可再設(shè)置定形層的步驟，再將中心體分開成為兩個部分， 各部份為半圓形且直徑平面，以在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，將該光學薄膜層設(shè)置半圓形的中心體，之后也可再加入該設(shè)置定形層的步驟，以及該設(shè)置外管層的步驟； 該中心體的材質(zhì)是耐熱玻璃、金屬、石英、合金、陶瓷、耐熱玻璃與封著合金的混合物、耐熱塑膠或耐熱塑膠的硬化混合物或低熔點材質(zhì)； 該脫膜層的斷面可為該中心體斷面的管體形狀或是多邊形管體形狀，該脫膜層是低熔點材質(zhì)，該低熔點材質(zhì)能夠為塑膠、可剝離油墨層、可溶解油墨層、硅膠或乳膠類化合物、或低熔點金屬的其中一者； 該定形層的材質(zhì)為透明的材質(zhì)或介電質(zhì)材質(zhì)，該透明的材質(zhì)能夠為玻璃、耐熱玻璃、陶瓷； 在該設(shè)置外管層的步驟中，在移除該脫膜層與該中心體時，該脫膜層能為熔化，以及該中心體能為抽離，或者該脫膜層與該中心體能為熔化； 該外管層的材質(zhì)能夠為玻璃、石英、玻璃、陶瓷或是玻璃與陶瓷的復合物，該外管層是透明； 在該設(shè)置脫膜層的步驟中，該中心體具有一光學級平坦化的外壁面，或者該脫膜層具有一光學級平坦化的外壁面； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟，該中心體的抗壓強度小于或等于該光學薄膜層的抗拉強度或抗折強度，或是該中心體與該脫膜層的總抗壓強度，小于或等于該光學薄膜層與該定形層的總抗拉強度或總抗折強度，或是該定形層與該光學薄膜層的總抗拉強度或總抗折強度，大于或等于該中心體的抗壓強度，或是大于或等于該中心體與該脫膜層的總抗壓強度； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該鍍膜方式是以該中心體自轉(zhuǎn)以及公轉(zhuǎn)的方式進行；在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層的鍍膜方式是以金屬靶材反應(yīng)氣體濺鍍的方式進行； 鍍膜材料的純凈度為99%以上或是其消光系數(shù)k在184. 9nm或253. 7nm時小于O. KlXlO-1)； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該光學薄膜層是184. 9nm以及253. 7nm的雙反射波段的光學多層薄膜層，上述過程可以在同一反應(yīng)濺鍍腔體內(nèi)完成； 在該設(shè)置光學薄膜層的步驟中，該外管層以及該定形層的厚度與折射率必須要納入為該光學薄膜設(shè)計的條件；該金屬IE材反應(yīng)氣體是氧氣、氟氣或是氟氣化合物的二氟化氣氣體。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該中心體的多邊形能夠為圓形、半圓形、橢圓形、長橢圓形、梯形、三角形、四邊形、五邊形、六邊形、七邊形、八邊形或矩形 ，該中心體的低熔點材質(zhì)是錫、鉍、銫、鎵、銦、鉀、鋰、錳、鈉、鉛、銣、銻、硒、鍶、碲、鉈或鋅的其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者組合的合金；若該脫膜層的材質(zhì)為低熔點金屬，該低熔點金屬是錫、鉍、銫、鎵、銦、鉀、鋰、錳、鈉、鉛、銣、銻、硒、鍶、碲、鉈或鋅其中一者或前述的材質(zhì)中至少任二者的組合的合金。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的具有光學薄膜的管體的制造方法，其特征在于該定形層的材質(zhì)為介電質(zhì)材質(zhì)，該介電質(zhì)材質(zhì)能夠為氧化鋁、氧化鎂、氟化鎂、二氧化鋯、氮化鋁或是二氧化硅。
全文摘要
本發(fā)明是一種具有光學薄膜的管體的制造方法，其提供一中心體，并將一光學薄膜層設(shè)于中心體的外壁面，再將一外管體設(shè)于光學薄膜層的外壁面，其利用由內(nèi)向外逐步加工程序，以及多種材料的不同物理特性，如膨脹、熔化、附著與脫離等，使其抗拉強度、抗折強度與抗壓強度之間的問題得到解決，而最終可將光學薄膜層設(shè)于外管層的內(nèi)壁面，外管層內(nèi)部空間因激發(fā)而產(chǎn)生紫外光時，該紫外光則直接照射至光學薄膜層，可直接經(jīng)由光學薄膜層反射，以降低紫外光重復反射時所導致管壁吸收的損耗率。
文檔編號C23C14/08GK102955179SQ20111024400
公開日2013年3月6日 申請日期2011年8月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月24日
發(fā)明者羋振偉 申請人:羋振偉