專利名稱：連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，尤其涉及一種在真空環(huán)境下對(duì)工件進(jìn)行連續(xù)不斷 蒸鍍的蒸鍍?cè)O(shè)備。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，半導(dǎo)體產(chǎn)品越來(lái)越多元化，同時(shí)半導(dǎo)體產(chǎn)品的尺寸也越 來(lái)越大，在產(chǎn)品越來(lái)越高精度的要求下，產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝也日趨復(fù)雜，而產(chǎn)品的生產(chǎn)不僅要 求有高精度，也要求有高效率及高自動(dòng)化，因此，對(duì)生產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)工藝 也提出了更高的要求，對(duì)于半導(dǎo)體制品，例如有機(jī)發(fā)光顯示器件、液晶顯示器件、非晶硅太 陽(yáng)能電池板等，其生產(chǎn)都需要利用玻璃基板或其他基板，在基板上進(jìn)行多種工序進(jìn)而形成 多層薄膜，而各種膜層的形成主要采用真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，由于該技術(shù)具有較高的沉積速 率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜，因此，目前真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)在各種鍍膜技術(shù)中 仍處于相對(duì)重要的地位。用于真空蒸發(fā)鍍膜的裝置主要包括金屬或玻璃等制成的蒸鍍腔體，與該蒸鍍腔體 相連通的抽真空系統(tǒng)，蒸鍍腔體用于執(zhí)行蒸鍍工藝，抽真空系統(tǒng)用于對(duì)蒸鍍腔體內(nèi)部進(jìn)行 抽真空處理，蒸鍍腔體內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)，蒸發(fā)材料如金屬、化合物等置于蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)的 蒸發(fā)舟上，蒸發(fā)舟與外界電源連接，待鍍工件置于蒸發(fā)舟上方，待蒸鍍腔體內(nèi)抽至高真空 后，適當(dāng)?shù)碾娏髁魍ǖ秸舭l(fā)舟后，蒸發(fā)舟因電阻效應(yīng)產(chǎn)生熱量，加熱蒸發(fā)舟內(nèi)的蒸鍍材料， 蒸鍍材料到達(dá)熔點(diǎn)后產(chǎn)生蒸氣，氣化后的蒸鍍材料沉積在待蒸鍍的工件上行形成薄膜層， 薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米，膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間，并與蒸發(fā)源和工件 的距離有關(guān)，對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)工件或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻 性。然而，現(xiàn)有的蒸鍍腔體內(nèi)通常只設(shè)置有一組蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)，需要更換或維護(hù)蒸發(fā)舟 時(shí)，必須停止蒸鍍工藝，開啟真空蒸鍍腔體后進(jìn)行更換和維護(hù)，不便于蒸發(fā)舟的更換或維 護(hù)，也使操作復(fù)雜，更換或維護(hù)蒸發(fā)舟后再繼續(xù)蒸鍍工藝，使得蒸鍍工藝不能連續(xù)進(jìn)行，降 低蒸鍍效率。因此，急需一種能在真空環(huán)境下對(duì)工件進(jìn)行連續(xù)不斷蒸鍍，提高蒸鍍效率的蒸鍍 設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種能在真空環(huán)境下對(duì)工件進(jìn)行連續(xù)不斷蒸鍍，提高蒸鍍 效率的蒸鍍?cè)O(shè)備。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為提高一種連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，包括主腔體、至 少兩副腔體、至少兩蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)及與所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)相對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)，所述副腔 體與所述主腔體之間密封地連通，所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)安裝于所述主腔體內(nèi)且與所述副腔體相 對(duì)應(yīng)，所述蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)密封地樞接于所述副腔體上，所述主腔體及所述副腔體均與抽
3真空系統(tǒng)連接，其中，所述蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)包括滑軌、電極棒及蒸發(fā)舟，所述電極棒的一端 與所述滑軌滑動(dòng)連接，所述電極棒的另一端密封地伸入所述副腔體內(nèi)且與所述蒸發(fā)舟連 接，所述電極棒帶動(dòng)所述蒸發(fā)舟伸入所述主腔體內(nèi)并與所述主腔體密封地樞接，所述蒸發(fā) 舟與所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)相對(duì)應(yīng)。較佳地，所述蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)還包括波紋管，所述波紋管套設(shè)于所述電極棒外且 一端與所述電極棒固定連接，所述波紋管的另一端與所述副腔體密封連接，使電極棒處于 密封狀態(tài)，帶動(dòng)蒸發(fā)舟進(jìn)入主腔體內(nèi)時(shí)不會(huì)污染主腔體。較佳地，所述主腔體及所述副腔體上均設(shè)置有蒸鍍通道，所述主腔體的蒸鍍通道 與所述副腔體的蒸鍍通道密封地連通，且所述主腔體的蒸鍍通道與所述副腔體的蒸鍍通道 之間設(shè)置有隔離閥，隔離閥關(guān)閉使主腔體與副腔體之間相互獨(dú)立，互不影響，隔離閥打開， 蒸發(fā)舟可依次穿過副腔體及主腔體上的蒸鍍通道進(jìn)入主腔體內(nèi)，簡(jiǎn)單方便。較佳地，所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)包括送絲組件、擋板組件、承載件及膜厚傳感器，所述送 絲組件安裝于所述主腔體下底板上并正對(duì)所述主腔體的蒸鍍通道，所述擋板組件包括旋轉(zhuǎn) 擋板及冷卻圍板，所述冷卻圍板安裝于所述主腔體的下底板上且位于所述送絲組件與所述 主腔體的蒸鍍通道之間，所述承載件用于承載待鍍膜工件，所述承載件與所述主腔體固定 連接且位于所述冷卻圍板正上方，所述承載件與所述冷卻圍板之間形成蒸鍍區(qū)，所述旋轉(zhuǎn) 擋板設(shè)置于所述蒸鍍區(qū)內(nèi)且位于所述冷卻圍板與所述承載件之間，所述膜厚傳感器設(shè)置于 所述蒸鍍區(qū)內(nèi)；蒸發(fā)舟進(jìn)入主腔體后仲入冷卻圍板圍成的區(qū)域內(nèi)且位于旋轉(zhuǎn)擋板下方，冷 卻圍板用于減小蒸發(fā)舟加熱后對(duì)主腔體周圍的熱輻射，降低主腔體內(nèi)的溫度，膜厚傳感器 用于適時(shí)地檢測(cè)沉積于工件上的膜層厚度，使工件上的膜層厚度精確，進(jìn)而提高膜層質(zhì)量。較佳地，所述送絲組件包括繞絲輪、送絲嘴及支架，所述支架安裝于所述主腔體的 下底板上，所述繞絲輪樞接于所述支架上，所述送絲嘴安裝于所述支架上且位于所述繞絲 輪與所述冷卻圍板之間，所述送絲嘴的輸出端正對(duì)所述蒸鍍區(qū)，預(yù)先纏繞于繞絲輪上的蒸 發(fā)絲通過送絲嘴平穩(wěn)、均勻地送到位于蒸鍍區(qū)的蒸發(fā)舟上，延長(zhǎng)了蒸發(fā)絲更換的周期，延長(zhǎng) 主腔體內(nèi)蒸鍍工藝的持續(xù)時(shí)間。較佳地，所述擋板組件還包括防污擋板，所述防污擋板圍于所述蒸鍍區(qū)外，且所述 承載件及所述膜厚傳感器位于所述防污擋板內(nèi)，防污擋板用于減小蒸鍍過程中對(duì)主腔體內(nèi) 部的污染。較佳地，所述主腔體上還設(shè)置有觀察窗，更具體地，所述副腔體上還設(shè)置有觀察 窗，觀察窗用于實(shí)時(shí)的貫穿主腔體內(nèi)的蒸鍍情況和副腔體內(nèi)的處理情況，及時(shí)調(diào)整操作程 序，提高操作的正確性。較佳地，所述主腔體上還設(shè)置有后腔門，后腔門用于在設(shè)備停止工作的過程中更 換或清洗零部件、添加物料、維修組件等。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本發(fā)明的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備包括主腔體、至少兩副腔體、至少兩 蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)及與所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)相對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)，所述副腔體與所述主腔體之間 密封地連通，所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)安裝于所述主腔體內(nèi)且與所述副腔體相對(duì)應(yīng)，所述蒸發(fā)舟輸 送機(jī)構(gòu)密封地樞接于所述副腔體上，所述蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)包括滑軌、電極棒及蒸發(fā)舟，所述 電極棒的一端與所述滑軌滑動(dòng)連接，所述電極棒的另一端密封地伸入所述副腔體內(nèi)且與所 述蒸發(fā)舟連接，所述電極棒帶動(dòng)所述蒸發(fā)舟從副腔體伸入到所述主腔體內(nèi)并與所述主腔體密封地樞接，所述蒸發(fā)舟與所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)相對(duì)應(yīng)，工作時(shí)，其中一蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)將蒸發(fā) 舟輸送到主腔體內(nèi)進(jìn)行蒸鍍工藝，其余蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)可將需更換或維修的蒸發(fā)舟輸送到 副腔體內(nèi)進(jìn)行更換或維修，兩組以上的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)循環(huán)交替工作，在主腔體內(nèi)不間斷 地進(jìn)行蒸鍍，使主腔體內(nèi)的真空蒸鍍工藝不間斷，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)的連續(xù)性，提高蒸鍍效率，同時(shí) 使蒸鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作便捷。


圖1是本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備初始狀態(tài)的截面結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備蒸鍍狀態(tài)的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在參考附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元件。如圖1、圖2所示，本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備1包括主腔體10、兩副腔體20、兩蒸發(fā)源 機(jī)構(gòu)30及兩蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40，主腔體10及副腔體20分別與抽真空系統(tǒng)連接；主腔體10 的前端設(shè)置有兩蒸鍍通道101，兩副腔體20位于主腔體10的前端且分別與兩蒸鍍通道101 相對(duì)應(yīng)，副腔體20上開設(shè)有與主腔體10上的蒸鍍通道101相互對(duì)應(yīng)的蒸鍍通道201，主腔 體10的蒸鍍通道101與副腔體20的蒸鍍通道201之間密封地連通，且在蒸鍍通道101與 蒸鍍通道201之間設(shè)置有隔離閥50，隔離閥50關(guān)閉使主腔體10與副腔體20相互獨(dú)立，兩 者在抽真空或放真空時(shí)互不影響；兩蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)30安裝于主腔體10內(nèi)且分別與兩蒸鍍通 道101相對(duì)應(yīng)；兩蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40分別與兩副腔體20密封地樞接，其中，蒸發(fā)舟輸送機(jī) 構(gòu)40包括滑軌401、電極棒402、波紋管403及蒸發(fā)舟404，電極棒402的一端與所述滑軌 401滑動(dòng)連接，電極棒402的另一端伸入所述副腔體20內(nèi)且與蒸發(fā)舟404連接，波紋管403 套設(shè)于電極棒402外且一端與所述電極棒402固定連接，波紋管403的另一端與副腔體20 密封連接，波紋管403使電極棒402處于密封狀態(tài)，當(dāng)其進(jìn)入主腔體10內(nèi)時(shí)不會(huì)污染主腔 體10，電極棒402可在滑軌401上滑動(dòng)，進(jìn)而帶動(dòng)蒸發(fā)舟404依次穿過副腔體20的蒸鍍通 道201及主腔體10的蒸鍍通道101進(jìn)入主腔體10內(nèi)，或帶動(dòng)蒸發(fā)舟404從主腔體10內(nèi)回 到副腔體20內(nèi)，在副腔體20上還設(shè)置有觀察窗202，用于觀察副腔體20內(nèi)的處理情況以便 及時(shí)調(diào)整操作程序。本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備1的蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)30包括送絲組件、擋板組件、膜厚傳感器307 及承載件308，其中，送絲組件包括支架301、繞絲輪302及送絲嘴303，所述支架301安裝于 主腔體10的下底板上且與主腔體10上的蒸鍍通道101相對(duì)應(yīng)，繞絲輪302樞接于支架301 上，送絲嘴303安裝于支架301上且位于繞絲輪302與蒸鍍通道101之間；擋板組件包括冷 卻圍板304、旋轉(zhuǎn)擋板305及防污擋板306，冷卻圍板304安裝于所述主腔體10的下底板上 且位于送絲組件的送絲嘴303與主腔體10的蒸鍍通道101之間，冷卻圍板304圍成的區(qū)域 用于供蒸發(fā)舟404在此加熱；用于承載待鍍膜工件的承載件308與主腔體10固定連接且 位于冷卻圍板304正上方，承載件308與冷卻圍板304之間形成蒸鍍區(qū)，旋轉(zhuǎn)擋板305設(shè)置 于所述蒸鍍區(qū)內(nèi)且位于冷卻圍板304與承載件308之間，膜厚傳感器307設(shè)置于所述蒸鍍 區(qū)內(nèi)，防污擋板306圍于所述蒸鍍區(qū)外，且膜厚傳感器307及承載件308位于防污擋板306
5內(nèi)，防污擋板306用于減小蒸鍍過程中對(duì)主腔體10的污染；蒸發(fā)舟404通過蒸鍍通道101 進(jìn)入主腔體后10伸入冷卻圍板304圍成的區(qū)域內(nèi)并位于旋轉(zhuǎn)擋板305下方，蒸發(fā)舟404與 送絲嘴303的輸出端相對(duì)應(yīng)，預(yù)先纏繞于繞絲輪302上的蒸發(fā)絲通過送絲嘴303平穩(wěn)、均勻 地送到蒸發(fā)舟404上，并在蒸發(fā)舟404內(nèi)被加熱蒸發(fā)，冷卻圍板304用于減小蒸發(fā)舟404加 熱后對(duì)主腔體10周圍的熱輻射，降低主腔體10內(nèi)的溫度，蒸鍍過程中，膜厚傳感器307用 于適時(shí)地檢測(cè)沉積于工件上的膜層厚度，使工件上的膜層厚度精確，進(jìn)而提高膜層質(zhì)量。本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備的主腔體10的上底板上設(shè)置有觀察窗102，主腔體10的后端 還設(shè)置有觀察窗103，主腔體10的后端還設(shè)置有后腔門104，觀察窗102、103用于實(shí)時(shí)的貫 穿主腔體10內(nèi)的蒸鍍情況以便及時(shí)調(diào)整操作程序，提高操作的正確性，后腔門104用于在 設(shè)備停止工作的過程中更換或清洗零部件、添加物料、維修組件等。結(jié)合圖1-圖3，對(duì)本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備1的工作原理進(jìn)行詳細(xì)說明。工作開始時(shí)， 一蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40將蒸發(fā)舟404輸送到主腔體10內(nèi)進(jìn)行蒸鍍工藝時(shí)，另一蒸發(fā)舟輸送 機(jī)構(gòu)40可將蒸發(fā)舟404輸送到副腔體20內(nèi)進(jìn)行更換或維修，當(dāng)然并不限于只有一蒸發(fā)舟 404在主腔體10內(nèi)進(jìn)行蒸鍍工藝的實(shí)施方式，還可以是兩個(gè)蒸發(fā)舟404同時(shí)在主腔體10內(nèi) 進(jìn)行蒸鍍工藝，下面對(duì)一蒸發(fā)舟404在主腔體10內(nèi)進(jìn)行蒸鍍的實(shí)施例進(jìn)行描述。開始時(shí)，主 腔體11與副腔體20之間的隔離閥50關(guān)閉，使主腔體10與副腔體20相互獨(dú)立，蒸發(fā)舟404 位于副腔體20內(nèi)，分別對(duì)主腔體10與副腔體20進(jìn)行抽真空處理，當(dāng)兩者的真空度相當(dāng)時(shí)， 打開其中一隔離閥50，一蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40的電極棒402帶動(dòng)蒸發(fā)舟404依次穿過副腔體 20的蒸鍍通道201及主腔體10的蒸鍍通道101進(jìn)入主腔體10內(nèi)并將其蒸發(fā)舟404輸送到 設(shè)計(jì)位置，即蒸發(fā)舟404位于冷卻圍板304圍成的區(qū)域內(nèi)并位于旋轉(zhuǎn)擋板305下方，且送絲 組件的送絲嘴303正對(duì)蒸發(fā)舟404，開始蒸鍍后，待鍍工件309承載于承載件308上，預(yù)先 纏繞于繞絲輪302上的蒸發(fā)絲通過送絲嘴303平穩(wěn)、均勻地送到蒸發(fā)舟404上，蒸發(fā)舟404 通電開始加熱，此時(shí)，旋轉(zhuǎn)擋板305遮于蒸發(fā)舟404的上方將蒸發(fā)舟404與待鍍工件309隔 開，當(dāng)蒸發(fā)舟404中的蒸發(fā)絲達(dá)到蒸發(fā)所需條件時(shí)，旋轉(zhuǎn)擋板305旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)舟404與待 鍍工件309之間的連通，開始對(duì)工件309進(jìn)行蒸鍍，蒸鍍過程中，膜厚傳感器307適時(shí)檢測(cè) 沉積在工件309上的膜厚，精確控制沉積效率及沉積時(shí)間，使工件309上的膜層厚度精確， 進(jìn)而提高膜層質(zhì)量；與此同時(shí)，另一蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40將蒸發(fā)舟404輸送到副腔體20內(nèi)， 隔離閥50關(guān)閉使主腔體10與副腔體20相隔離，并對(duì)副腔體20進(jìn)行放真空，當(dāng)進(jìn)入到大氣 狀態(tài)時(shí)可打開副腔體20對(duì)蒸發(fā)舟404進(jìn)行更換或維修，更換或維修完畢后，再對(duì)副腔體20 內(nèi)部進(jìn)行抽真空至與主腔體10相近的真空度，等待進(jìn)入主腔體10內(nèi)進(jìn)行蒸鍍，如此循環(huán)， 這樣，主腔體10內(nèi)的蒸鍍工藝不會(huì)間斷，提高蒸鍍效率；并且在副腔體20內(nèi)對(duì)蒸發(fā)舟404 進(jìn)行更換或維修，不需要打開主腔體10，操作簡(jiǎn)單靈活并能很好的維持真空度，進(jìn)而提高蒸 鍍質(zhì)量。由于本發(fā)明的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備1包括主腔體10、至少兩副腔體20、至少兩蒸發(fā)源機(jī) 構(gòu)30及與所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)30相對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40，副腔體20與主腔體10之間密 封地連通，蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)30安裝于所述主腔體10內(nèi)且與所述副腔體20相對(duì)應(yīng)，蒸發(fā)舟輸送 機(jī)構(gòu)40密封地樞接于所述副腔體20上，蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40包括滑軌401、電極棒402及 蒸發(fā)舟404，電極棒402的一端與所述滑軌401滑動(dòng)連接，電極棒402的另一端伸入副腔體 20內(nèi)且與蒸發(fā)舟404連接，工作時(shí)，其中一蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40將其蒸發(fā)舟404輸送到主腔體10內(nèi)進(jìn)行蒸鍍工藝，其余蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40將需更換或維修的蒸發(fā)舟404輸送到副腔 體20內(nèi)進(jìn)行更換或維修，兩組以上的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40循環(huán)交替工作，在主腔體10內(nèi)不 間斷地進(jìn)行蒸鍍工藝，使主腔體10內(nèi)的真空蒸鍍工藝不間斷，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)的連續(xù)性，提高蒸 鍍效率，同時(shí)使蒸鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作便捷。本發(fā)明連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備1的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)40的數(shù)量并不限于兩個(gè)，可根據(jù)實(shí)際需 要設(shè)計(jì)，蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)30及副腔體20數(shù)量對(duì)應(yīng)設(shè)計(jì)，此為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知，在此 不再做詳細(xì)的說明。以上所揭露的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來(lái)限定本發(fā)明之權(quán)利 范圍，因此依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
一種連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，包括主腔體、至少兩副腔體、至少兩蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)及與所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)相對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)，所述副腔體與所述主腔體之間密封地連通，所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)安裝于所述主腔體內(nèi)且與所述副腔體相對(duì)應(yīng)，所述蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)密封地樞接于所述副腔體上，所述主腔體及所述副腔體均與抽真空系統(tǒng)連接，其特征在于所述蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)包括滑軌、電極棒及蒸發(fā)舟，所述電極棒的一端與所述滑軌滑動(dòng)連接，所述電極棒的另一端密封地伸入所述副腔體內(nèi)且與所述蒸發(fā)舟連接，所述電極棒帶動(dòng)所述蒸發(fā)舟伸入所述主腔體內(nèi)并與所述主腔體密封地樞接，所述蒸發(fā)舟與所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)相對(duì)應(yīng)。
2.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)還包括波紋 管，所述波紋管套設(shè)于所述電極棒外且一端與所述電極棒固定連接，所述波紋管的另一端 與所述副腔體密封連接。
3.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述主腔體及所述副腔體上均設(shè) 置有蒸鍍通道，所述主腔體的蒸鍍通道與所述副腔體的蒸鍍通道密封地連通，且所述主腔 體的蒸鍍通道與所述副腔體的蒸鍍通道之間設(shè)置有隔離閥。
4.如權(quán)利要求3所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)包括送絲組件、擋 板組件、承載件及膜厚傳感器，所述送絲組件安裝于所述主腔體下底板上并正對(duì)所述主腔 體的蒸鍍通道，所述擋板組件包括旋轉(zhuǎn)擋板及冷卻圍板，所述冷卻圍板安裝于所述主腔體 的下底板上且位于所述送絲組件與所述主腔體的蒸鍍通道之間，所述承載件用于承載待鍍 膜工件，所述承載件與所述主腔體固定連接且位于所述冷卻圍板正上方，所述承載件與所 述冷卻圍板之間形成蒸鍍區(qū)，所述旋轉(zhuǎn)擋板設(shè)置于所述蒸鍍區(qū)內(nèi)且位于所述冷卻圍板與所 述承載件之間，所述膜厚傳感器設(shè)置于所述蒸鍍區(qū)內(nèi)。
5.如權(quán)利要求4所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述送絲組件包括繞絲輪、送絲嘴 及支架，所述支架安裝于所述主腔體的下底板上，所述繞絲輪樞接于所述支架上，所述送絲 嘴安裝于所述支架上且位于所述繞絲輪與所述冷卻圍板之間，所述送絲嘴的輸出端正對(duì)所 述蒸鍍區(qū)。
6.如權(quán)利要求4所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述擋板組件還包括防污擋板，所 述防污擋板圍于所述蒸鍍區(qū)外，且所述承載件及所述膜厚傳感器位于所述防污擋板內(nèi)。
7.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述主腔體上還設(shè)置有觀察窗。
8.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述主腔體上還設(shè)置有后腔門。
9.如權(quán)利要求1所述的連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，其特征在于所述副腔體上還設(shè)置有觀察窗。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種連續(xù)蒸鍍?cè)O(shè)備，包括主腔體、至少兩副腔體、與副腔體對(duì)應(yīng)的蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)及蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)，副腔體與主腔體之間密封地連通，蒸發(fā)源機(jī)構(gòu)安裝于主腔體內(nèi)且與副腔體相對(duì)應(yīng)，蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)密封地樞接于副腔體上，蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)包括滑軌、電極棒及蒸發(fā)舟，電極棒的一端與滑軌滑動(dòng)連接，另一端密封地伸入副腔體內(nèi)且與蒸發(fā)舟連接，工作時(shí)，其中一蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)的蒸發(fā)舟被輸送到主腔體內(nèi)進(jìn)行蒸鍍工藝，其余蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)的蒸發(fā)舟位于副腔體內(nèi)進(jìn)行更換或維修，兩組以上的蒸發(fā)舟輸送機(jī)構(gòu)循環(huán)交替工作，在主腔體內(nèi)連續(xù)進(jìn)行蒸鍍，使主腔體內(nèi)的蒸鍍工藝不間斷，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)的連續(xù)性，提高蒸鍍效率，同時(shí)使蒸鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作便捷。
文檔編號(hào)C23C14/56GK101956176SQ201010502579
公開日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2010年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月30日
發(fā)明者劉惠森, 葉宗鋒, 張華 , 楊明生, 王勇, 王曼媛, 范繼良 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司