專利名稱：鍍膜加工方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜加工方法，尤其涉及在薄膜沉積后的表面形成預定圖案的方法。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，在工件表面加工以形成圖案的方法通常是將預定的圖案區(qū)域之外掩蓋，而直接對該預定的圖案區(qū)域進行鍍膜。然，由于遮蓋非圖案區(qū)域的遮罩具有一定的厚度，因此當對圖案區(qū)域鍍膜之后，因此遮罩的厚度導致部分反應微粒附著，從而導致圖案的邊緣不清晰且整個圖案的厚度不均。邊緣不清晰在高倍顯微鏡下表現(xiàn)得邊緣模糊， 即，圖案精度太低，尤其是當待鍍表面形狀復雜時，更難形成高精度圖案。圖案厚度不均則會引起圖案的物理性質(zhì)不良，例如硬度及耐磨度變差。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，提供一種高精度鍍膜加工方法實為必要。一種鍍膜加工方法，其包括以下步驟提供一個工件，該工件具有一個待加工形成圖案的第一表面；采用物理氣相沉積法對該第一表面沉積一膜層；提供一遮罩，該遮罩的形狀與待形成的圖案的形狀相同，該遮罩與該工件可磁性相吸；將該遮罩吸附于該第一表面并遮蔽已鍍膜的該第一表面的預定區(qū)域；利用磁力研磨去除該第一表面的該預定區(qū)域之外的膜層；去除該遮罩以于該工件的第一表面獲得該圖案。相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明采用的鍍膜加工方法是在物理氣相沉積鍍膜的基礎(chǔ)上采用遮罩遮住圖案區(qū)域，并對非圖案區(qū)域進行磁力研磨，從而避免直接對圖案區(qū)域鍍膜時所發(fā)生的圖案邊緣不清晰、產(chǎn)生暈影的缺陷，而且，由于采用磁力研磨可以對圖案的邊緣之外的區(qū)域進行精確的研磨，從而進一步提高圖案的邊緣的清晰度。由于先對圖案所在的表面均沉積薄膜，所以可以最大限度地保證膜層厚度的均勻性，從而圖案的物理性質(zhì)較佳。


圖1是本發(fā)明實施例提供的鍍過膜的工件的立體示意圖。圖2是本發(fā)明實施例提供的吸附有遮罩的鍍過膜的工件的立體示意圖。圖3是已將非圖案區(qū)域的膜層研磨、去除之后、顯現(xiàn)該圖案的工件的立體示意圖。主要元件符號說明工件10
第一表面101
膜層20
遮罩30
圖案40
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。請參閱圖1，本發(fā)明實施例提供的鍍膜加工方法至少包括以下步驟首先，提供一個工件10，該工件10具有一個第一表面101。該工件10由可被磁性物質(zhì)吸引的金屬或合金制成，具體地，該工件10可由金屬制成，如鐵、鎳；或由含有金屬的合金制成，例如不銹鋼。其次，采用物理氣相沉積法(Physical Vapor D印osition，PVD)對該第一表面101 沉積一膜層20。物理氣相沉積法是以物理機制來進行薄膜沉積而不涉及化學反應的制程技術(shù)，污染低。物理氣相沉積法一般包括真空蒸鍍、濺射蒸鍍及離子蒸鍍。本實施例采用單一腔體進行反應式磁控濺射鍍膜法，亦可采用其它方式。本實施例中，該膜層20為金屬單層膜，具有高度金屬質(zhì)感、色彩艷離飽滿。在其它實施例中，該膜層可包括多層膜。請一并參閱圖2，然后，提供一個遮罩30，該遮罩30的形狀與待形成的圖案的形狀相同，該遮罩30對該第一表面101的遮蔽區(qū)域正好是圖案的形狀。該遮罩可與該工件磁性相吸。例如，該遮罩30具有較強的磁性，該工件10由可被磁性物質(zhì)吸引的金屬或合金制成。 將該遮罩30吸附于該第一表面101并遮蔽已鍍膜的該第一表面的預定區(qū)域。由于該遮罩 30與該工件10可磁性相吸，所以該遮罩可以方便快捷地吸附、固定在該第一表面101而不會在后續(xù)流程中移動位置，從而最大限度地保證圖案的精度。圖案可以是文字、圖形、數(shù)字、 字母等各種標記，在本實施例中，該圖案為圓形。然后，對該鍍有膜層20的第一表面101進行磁力研磨以去除該預定區(qū)域之外的膜層20。磁力研磨是利用磁場作用進行研磨加工，其主要包括磁性浮動研磨和利用磁性磨料進行磁力研磨。本發(fā)明采用后者。具體來講，先將該工件10放入由兩個磁極形成的磁場中，在該工件10和磁極的間隙中放入磁性磨料。在磁場力的作用下，磨料沿磁力線方向整齊排列，形成一只柔軟且具有一定剛性的“磁研磨刷”。當該工件10在磁場中旋轉(zhuǎn)并作軸向振動時，該工件10與磁性磨料發(fā)生相對運動從而實現(xiàn)對膜層20的研磨加工。磁力研磨可利用改變磁場強度來控制研磨壓力，由于磁極與工件表面之間有加工間隙(1 4mm)，因此可通過磁性磨料進行柔性研磨，尤其適合對異形表面及自由曲面進行研磨。請一并參閱圖3，然后，去除該遮罩30，形成在該第一表面101的圖案40即顯露。 該圖案40的厚度可控制在2微米以內(nèi)，圖3中，圖案40的厚度被增大以便清楚顯示圖案40 與其它區(qū)域的厚度差異。進行磁力研磨之后，去除該遮罩30之前，可以對該第一表面101進行拋光。拋光可采用拋光輪為工具，拋光輪采用材質(zhì)勻細經(jīng)脫脂處理的木材或特制的細毛氈制成，其運動軌跡為均勻稠密的網(wǎng)狀，拋光后的表面粗糙度非常低，在放大40倍的顯微鏡下觀察不到任何表面缺陷。此外還可采用電解拋光。去除該遮罩30之后，還可對該圖案40的邊緣進行修飾。本實施例所提供的鍍膜加工方法是在物理氣相沉積鍍膜的基礎(chǔ)上采用遮罩遮住圖案區(qū)域，并對非圖案區(qū)域進行磁力研磨，從而避免直接對圖案區(qū)域鍍膜時所發(fā)生的圖案邊緣不清晰、產(chǎn)生暈影的缺陷，而且，由于采用磁力研磨可以對圖案的邊緣之外的區(qū)域進行精確的研磨，從而進一步提高圖案的邊緣的清晰度。由于先對圖案所在的表面均沉積薄膜，所以可以最大限度地保證膜層厚度的均勻性，從而圖案的物理性質(zhì)較佳?？梢岳斫獾氖?，要滿足遮罩30與工件10可磁性相互吸引，不一定要求遮罩30或工件10本身就具有較強磁性，該遮罩30或工件10可在一定條件下，例如外加磁場作用下被磁化后即可磁性相互吸引，在該外加磁場撤消后該工件10或遮罩30的磁性無需保留?？梢岳斫獾氖牵绢I(lǐng)域技術(shù)人員還可于本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種鍍膜加工方法，其包括以下步驟提供一個工件，該工件具有一個待加工形成圖案的第一表面； 采用物理氣相沉積法對該第一表面沉積一膜層；提供一遮罩，該遮罩的形狀與待形成的圖案的形狀相同，該遮罩與該工件可磁性相吸；將該遮罩吸附于該第一表面并遮蔽已鍍膜的該第一表面的預定區(qū)域； 利用磁力研磨去除該第一表面的該預定區(qū)域之外的膜層； 去除該遮罩以于該工件的第一表面獲得該圖案。
2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜加工方法，其特征在于對該第一表面進行磁力研磨之后， 去除該遮罩之前，對該第一表面進行拋光。
3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜加工方法，其特征在于去除該遮罩之后，對該圖案的邊緣進行修飾。
4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜加工方法，其特征在于該工件由可被磁性物質(zhì)吸引的金屬或合金制成，該遮罩由磁性材料制成。
5.如權(quán)利要求4所述的鍍膜加工方法，其特征在于該工件的材質(zhì)為不銹鋼。
6.如權(quán)利要求1所述的鍍膜加工方法，其特征在于該膜層為金屬膜層。
7.如權(quán)利要求1所述的鍍膜加工方法，其特征在于該膜層為單層膜。
8.如權(quán)利要求1所述的鍍膜加工方法，其特征在于該膜層包括多層膜。
全文摘要
一種鍍膜加工方法，其包括以下步驟提供一個工件，該工件具有一個待加工形成圖案的第一表面；采用物理氣相沉積法對該第一表面沉積一膜層；提供一個遮罩，該遮罩的形狀與待形成的圖案的形狀相同，該遮罩與該工件可磁性相吸；將該遮罩吸附于該第一表面并遮蔽已鍍膜的該第一表面的預定區(qū)域；利用磁力研磨去除該第一表面的該預定區(qū)域之外的膜層；去除該遮罩以于該工件的第一表面獲得該圖案。
文檔編號C23C14/04GK102373407SQ20101025898
公開日2012年3月14日 申請日期2010年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月20日
發(fā)明者王仲培 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司